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Fターム[4K029BD08]の内容

物理蒸着 (93,067) | 被膜の用途 (4,612) | 電子写真感光体 (10)

Fターム[4K029BD08]に分類される特許

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【課題】放射線画像変換パネルの蛍光体を蒸着法で成膜するときに、突沸や再蒸発による膜欠陥がない薄膜を作製することを可能とする蒸着装置、及び、該成膜方法を用いた放射線画像変換パネルの蛍光体の成膜方法を提供することを目的とする。
【解決手段】蒸着装置1のルツボ2の蓋3に、ルツボ2の内部方向に凸部を有し凸部の側壁面8にルツボ2内部へ連通する穿孔34を備えルツボ2に取り外し可能な蓋3を採用し、穿孔34を通して蒸着面のいかなる場所からもルツボ2内部の原材料を直接見ることができない位置に穿孔34を配置する。 (もっと読む)


【課題】圧電体薄膜素子の圧電性能を損なうことなく、電極と圧電薄膜との膜の密着性を上げ、圧電体薄膜素子を用いたデバイスの作成プロセスで安定した品質と歩留まりを有す圧電体薄膜素子を提供すること。
【解決手段】圧電体薄膜14を備える圧電体薄膜素子15であって、圧電体薄膜14は膜厚方向に、複数の結晶配向を有する多結晶体で構成された層(第1の圧電体薄膜14a)と、単一の結晶配向を有する多結晶体で構成された層(第2の圧電体薄膜14b)を含むようにした。 (もっと読む)


【課題】可逆的非180°ドメイン回転による圧電歪が得られ、高い圧電性能を有する圧電体膜を備えた圧電素子を提供する。
【解決手段】圧電素子1において、圧電体膜14は、電界印加方向と、自発分極軸と[010]軸とのなす面の法線とのなす角θmが、−45°<θm<+45°かつθm≠0°を充足する強誘電体相(I)、自発分極軸が電界印加方向に対して垂直であり、かつ、電界印加方向と、自発分極軸と[010]軸とのなす面の法線とのなす角θmが、−45°<θm<+45°かつθm≠0°を充足する強誘電体相(II)、[010]軸が電界印加方向に対して垂直であり、かつ、電界印加方向と、自発分極軸と[010]軸とのなす面の法線とのなす角θmが、−45°<θm<+45°かつθm≠0°を充足する強誘電体相(III)のうち、いずれかの強誘電体相を含むものである。 (もっと読む)


【課題】スパッタリング法等のプラズマを用いる気相成長法により膜を成膜する成膜方法において、良質な膜を安定的に成膜することを可能とする。
【解決手段】成膜する膜の組成に応じた組成のターゲットと基板とを対向配置させ、スパッタリング法等のプラズマを用いる気相成長法によりターゲットの構成元素を放出させて基板上にターゲットの構成元素からなる圧電膜を成膜する圧電膜の成膜方法において、成膜温度Ts(℃)と、基板−ターゲット間距離D(mm)と、成膜される膜の特性との関係に基づいて成膜条件を決定する。1種又は複数種のPb含有ペロブスカイト型酸化物からなる圧電膜では、下記式(1)及び(2)、又は(3)及び(4)を充足する範囲で成膜条件を決定することが好ましい。
400≦Ts(℃)≦500・・・(1)、
30≦D(mm)≦80・・・(2)、
500≦Ts(℃)≦600・・・(3)、
30≦D(mm)≦100・・・(4) (もっと読む)


【課題】スパッタリング法等のプラズマを用いる気相成長法により膜を成膜する成膜方法において、良質な膜を安定的に成膜することを可能とする。
【解決手段】成膜温度Ts(℃)と、成膜時のプラズマ中のプラズマ電位Vs(V)と、成膜される膜の特性との関係に基づいて、成膜条件を決定する。1種又は複数種のPb含有ペロブスカイト型酸化物からなる圧電膜では、下記式(1)及び(2)、又は(3)及び(4)を充足する範囲で成膜条件を決定することが好ましい。
400≦Ts(℃)≦475・・・(1)、
20≦Vs(V)≦50・・・・・・(2)、
475≦Ts(℃)≦600・・・(3)、
Vs(V)≦40・・・・・・(4) (もっと読む)


【課題】上蓋の開閉動作や開閉位置にかかわらず、成膜処理室内の異物を検出し、上蓋の開閉動作を停止させ、上蓋の開閉動作時における作業者に対する安全性を向上させることを目的とする。
【解決手段】成膜装置は、成膜処理室と、成膜処理室の上蓋を開閉する上蓋開閉機構と、上蓋の開閉を撮像する撮像装置と、撮像装置で取得した画像を画像処理する画像処理回路と、上蓋開閉機構の作動を制御するインターロック回路とを備える。ここで、画像処理回路は、撮像装置で取得した画像から異物を検出し、インターロック回路は、画像処理回路による異物検出に基づいて、上蓋開閉機構の作動を停止する。画像処理回路は、この撮像装置で撮像した画像から、成膜処理室および上蓋の画像を除く画像処理を行うことで、異物が存在する場合にはこの異物の画像のみを抽出し、この画像から異物が存在することを識別する。 (もっと読む)


【課題】蛍光体層における柱状結晶の成長状態が均一で、画質ムラがない蛍光体シートを製造することができる蛍光体シート製造装置の提供。
【解決手段】真空チャンバ12と、真空チャンバ内を、側面に設けられた排気口を介して排気する真空排気手段と、容器に収納された蓄積性蛍光体層の成膜材料を抵抗加熱によって加熱し、容器の開口部から成膜材料の蒸気を放出させる抵抗加熱手段と、抵抗加熱手段の上方において、基板を保持する基板保持手段14と、蛍光体層の成膜中に、真空チャンバ内の真空度を調整するために、少なくとも1つのガス導入口を介して真空チャンバ内に不活性ガスを導入するガス導入手段とを有する。ガス導入口60a,62aの縁部と排気口の縁部とを直線的に結んで形成される第1の領域と、抵抗加熱手段の容器の開口部の縁部と基板Sの縁部とを直線的に結んで形成される第2の領域とが交わらないようにガス導入口が設けられている。 (もっと読む)


【課題】支持体と輝尽性蛍光体層との付着性(接着性)を改良した放射線画像変換パネルの提供。
【解決手段】支持体4上に輝尽性蛍光体層を気相堆積法(気相法)により形成し、該輝尽性蛍光体層上に保護層を設けた放射線画像変換パネルにおいて、支持体と輝尽性蛍光体層間の付着力が2〜100MPaであることを特徴とする。支持体上に輝尽性蛍光体層を形成する前に、該支持体表面をエネルギー照射処理または/及びポリマーコートすることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 輝度が高く、かつ残光性に優れた放射線像変換パネル及びその製造。
【解決手段】 1mm厚の結晶化ガラス支持体上に蒸着法で厚み300mのEu付活CsBr蛍光体層の放射線像変換パネルを形成するとき、X線を100R照射した後の放射線像変換パネルの、600〜700nmの透過率が照射前の透過率の70%以下となる蛍光体を選択した。 (もっと読む)


【課題】膜厚均一性を±1%程度の範囲内に抑えるとともに、200mm×200mm以上の大サイズにも対応可能な、蛍光体シートの製造方法を提供すること。
【解決手段】複数の原料蒸発源を有し、前記複数の原料蒸発源のそれぞれに予め必要に応じた量の原料を充填し、前記蒸発源のそれぞれについて、前記原料が蒸発し切った時点で、当該原料蒸発源への加熱エネルギー供給を絶つことを特徴とする方法。前記複数の原料蒸発源のそれぞれが、母体構成材料を充填されるものと、これと対をなす付活剤材料を充填されるものとの互いに対をなす構成を有するものである二元蒸着の場合は、前記互いに対をなす構成を有する複数の原料蒸発源のそれぞれについて、前記母体構成材料が蒸発し切った原料蒸発源と、この母体構成材料の蒸発源と対をなす付活剤材料の蒸発源への加熱エネルギー供給を絶つことを特徴とする。 (もっと読む)


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