【課題】ピアス式電子銃の円盤状のカソード２を、カソード２より大径の外周リング２１に３本以上の支持ロッド２２を介して支持させるカソード支持構造において、カソード及び支持ロッドの熱膨張により支持ロッドの座屈を生ずることを防止できると共に、カソードからの熱引けを効果的に抑制できるようにする。
【解決手段】各支持ロッド２２を、カソード２と外周リング２１との間に、支持ロッド２２の軸線が該軸線と外周リング２１の内周面との交点とカソード２の中心とを結ぶ直線Ｌに対しカソード２の周方向一方に傾むくように配置する。また、支持ロッド２２の軸線に合致する直線とこの直線に平行でカソード２の中心を通る直線とをカソード２の軸線に直交する平面に射影したときの２直線間の距離を偏心量δとして、δが全ての支持ロッド２２で等しくなるようにする。 （もっと読む）

本発明は、コーティングチャンバであって、コーティング源と、コーティング源に対して少なくとも１つのコーティング位置へコーティングされる基板を運ぶことができるように適合された基板キャリアを移動させるための搬送装置とを含み、これによって基板はコーティングされ、コーティングチャンバは、基板のコーティング位置とコーティング源の間の領域内に配置される少なくとも１つの第１シールドを更に含み、これによってコーティングされる基板の表面以外の領域のコーティングを防ぎ、第１シールドは、移動装置と、第１シールドと前記基板キャリアを結合する結合装置とを含み、これによって第１シールド及び基板キャリアは共に移動可能となるコーティングチャンバ、及びコーティングチャンバを運転する方法について言及する。
（もっと読む）

【課題】
本発明は、このような実情に鑑み、被膜硬度を緩和する被膜構造とその製造方法並びにそれに用いる飛翔粒子を提供することを目的とする。
【解決手段】
発明１のコーティング部材は、無機繊維が無配向状態で相互に交差してなるコンポジット組織が被膜中に存在することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 軸受の摩耗の一形態である硬質異物混入潤滑下での摩耗を低減することができる軸受を提供する。
【解決手段】 軸８の少なくとも軸方向中間部が熱処理により硬化され、軸８、外輪９、および転動体１０の少なくともいずれか一つの転走面に硬質被膜１２を施し、この硬質被膜１２のダイナミック硬度をＨＤ８００以上ＨＤ２０００以下とし、硬質被膜１２の膜厚δ２が１μｍ以上５μｍ以下で、且つこの膜厚δ２が硬質被膜１２の軸方向中央Ｐ１の膜厚δ２を基準として±２μｍ以下の範囲とする。 （もっと読む）

【課題】材料と被成膜基板との間にマスクを設けることなく、被成膜基板に微細なパターンの薄膜を形成する成膜方法を提供することを課題の一とする。また、このような成膜方法を用いて発光素子を形成し、高精細な発光装置を作製することを課題の一とする。
【解決手段】反射層、光吸収層及び材料層が形成された成膜用基板を透過して、光吸収層にレーザ光を照射することによって材料層に含まれる材料を、対向して配置された被成膜基板へ成膜する。反射層を選択的に形成することによって、被成膜基板に成膜される膜は、反射層のパターンを反映した微細なパターンで選択的に成膜することができる。材料層の形成は、湿式法を用いて行う。 （もっと読む）

【課題】硬さが高く耐摩耗性に優れ、チタン合金などの特殊合金や鉄系材料の高速切削加工において工具寿命を延長する炭化タングステン基焼結体の提供を目的とする。
【解決手段】炭化クロム、炭化バナジウムの中から選ばれた１種または２種：０．１〜２重量％と、鉄族金属：０．１〜１重量％と、残りが炭化タングステンおよび不可避的不純物とからなる炭化タングステン基焼結体であって、炭化タングステンはWCとW₂Cとからなり、WC(101)面のＸ線回折ピーク強度をIWC(101)と表し、W₂C(101)面のＸ線回折ピーク強度をIW₂C(101)と表したとき、Ｘ線回折ピーク強度比IW₂C(101)/(IWC(101)＋IW₂C(101))は０．２〜０．３である炭化タングステン基焼結体。 （もっと読む）

【課題】アニール処理後の膜が優れた性能を保持できるようにエアロゾルデポジション法の最適な実施条件を選定する方法を提供する。
【解決手段】基材及び材料粒子を準備し；前記基材及び前記材料粒子を用いて、ある実施条件下でエアロゾルデポジション法を行うことにより、前記材料粒子の膜を前記基材の表面に形成し；形成された膜の膜厚及び弾性率を測定し；前記膜が形成された前記基材を加熱することによって前記膜のアニールを行い；アニールされた膜の性能を評価し；実施条件を変更しながら以上の工程を繰り返して相当数のデータを収集し；前記相当数のデータにおいて、評価済みの膜の性能の優劣に基づき、膜厚及び弾性率の最適範囲を選定し、次いで、当該最適範囲の膜厚及び弾性率を与えた実施条件を、最適な実施条件として決定する。 （もっと読む）

【課題】 禁制帯中に局在準位または中間バンドをもつ半導体を光吸収層とする変換効率の高い太陽電池、及び、その製造方法を提供すること。
【解決手段】p型光吸収層の光入射側に、前記光吸収層よりも禁制帯幅の大きいn型半導体が積層したヘテロ接合型のpn接合の形成により、前記光吸収層は禁制帯中に局在準位または中間バンドをもつ太陽電池構造とする。 （もっと読む）

【課題】パーティクルの発生や機構部寿命低下を生じさせることなく、動作時間を目標時間に納めることが可能なゲートバルブ装置を提供すること。
【解決手段】真空処理室１０の側壁に設けられた、ガラス基板Ｇの搬入出用の搬入出口１０ａを開閉するためのゲートバルブ装置３０は、搬入出口１０ａを開閉する弁体３３と、弁体３３を駆動させるエアシリンダ３６と、弁体３３の位置に応じて弁体３３の移動速度を異ならせるように弁体３３の駆動を制御するエア駆動回路６０とを具備する。 （もっと読む）

【課題】低温で成膜でき、膜形成材料と繊維材料の反応を抑制することができる繊維強化複合材料膜の製造方法を提供する。
【解決手段】表面に繊維材料が固定された基板３３を成膜チャンバー３０に配置し、一方、不活性ガス雰囲気で、膜形成材料の蒸発源１５の加熱により膜形成材料粒子を生成し、次に、膜形成材料粒子を移送し、超音速フリージェットＪの気流に乗せて真空チャンバー(３０)中に噴出して、繊維材料が固定された基板３３上に物理蒸着させて、膜形成材料からなる膜中に繊維材料が内包された繊維強化複合材料膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】耐衝撃性に優れると共に、良好な仕上げ面光沢が得られる切削工具を提供する。
【解決手段】切削工具10は、超硬合金層11とサーメット層12とが積層されてなり、すくい面全面が超硬合金層11で形成され、逃げ面が超硬合金層11とサーメット層12との積層面で形成される。切刃部分(切削工具10の角部)は、超硬合金層11が薄く、工具10の最大厚さをh1、切刃部分に存在する超硬合金層の最大厚さをh2とするとき、h2/h1が0.002以上0.02以下を満たす。すくい面側にサーメットよりも靭性に優れる超硬合金層を具えることで、切屑などとの接触による衝撃に強く、切刃部分の逃げ面側におけるサーメット層の割合が高いことで、良好な仕上げ面光沢が得られる。 （もっと読む）

本発明は、セラミック製の層状複合材（１）であって、非酸化物セラミックから成るセラミック製の基板（３）を含んでいる形式のものに関する。セラミック製の層状複合材（１）はその表面上にセラミック製の層（７）を含んでおり、該セラミック製の層（７）は、大きな比表面積を有している。本発明は、さらにセラミック製の層状複合材（１）を製造するための方法に関する。
（もっと読む）

【課題】高い耐久性と十分な本物感とが有利に表現され得る加飾樹脂成形品を提供する。
【解決手段】基材１２の意匠面１８に、物理蒸着法又は化学蒸着法により金属薄膜２０を直接に形成して、金属調の加飾を施すと共に、該金属薄膜２０に対して、該基材１２と該金属薄膜２０の両方に付着する特性を備えた透明な塗膜からなるトップコート層２２を１０〜４０μｍの厚さで形成して、構成した。 （もっと読む）

【課題】耐熱合金の高速断続切削加工において、硬質被覆層がすぐれた耐欠損性と耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に硬質被覆層を形成した表面被覆切削工具において、硬質被覆層の下部層はＴｉ化合物層、同上部層は、化学蒸着で形成した島状のＡｌ_２Ｏ_３／ＺｒＯ_２混合組織層（縦断面観察による）と、該島状Ａｌ_２Ｏ_３／ＺｒＯ_２混合組織層の間隙を埋める物理蒸着で形成された耐熱性高強度硬質膜からなる層構造を有し、上部層表面に平行な横断面において上記Ａｌ_２Ｏ_３／ＺｒＯ_２混合組織層が占める面積（Ａ_ＣＶＤ）と、上記耐熱性高強度硬質膜が占める面積（Ａ_ＰＶＤ）との面積比（Ａ_ＣＶＤ／Ａ_ＰＶＤ）は、０．９〜１６である層構造を有する。 （もっと読む）

【課題】外部リークをより少なくして真空状態を維持することができ、頻度の高いローラ交換時に素早く雰囲気圧力状態を形成し、１min（分）に１回は要する動作頻度に即座に対応することのできるフィルム搬送装置に使用するゲートバルブを提供する。
【解決手段】入口側のフィルム通過窓、弾性筒体の内部および出口側のフィルム通過窓はフィルムを通過させ、該フィルムが通過の一過程で、ピストンは弾性筒体を面押圧して該弾性筒体の内部両面を前記フィルムを介して密着させて前記入口側のフィルム通過窓および出口側のフィルム通過窓の連通を遮断する。 （もっと読む）

ピストンリング上の焼けを回避するために、ピストンリングを、熱伝導容量少なくとも１８０Ｗ／（ｍ・Ｋ）をもつ材料から成る耐摩耗及び耐剥傷性保護被膜で外装することが提案される。耐摩耗及び耐剥傷性保護被膜の少なくとも５体積％は、窒化アルミから成る。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着やスパッタリングなどの過程においてシャドーマスクの表面に累積した薄膜の剥離によって生じる粉塵による欠陥を防止して、長期間安定して用いることができるシャドーマスクを提供する。
【解決手段】シャドーマスク２００は、基板２１０と、マスク２２０と、剥離防止用の高分子層２４０とを備える。マスク２２０は、基板２１０の上に所望の形状に薄膜を転写するための開口部を有して形成される。剥離防止用の高分子層２４０は、マスクの上に形成される。マスク２２０は、金属からなることが好ましい。また、高分子層２４０は、４０℃〜２５０℃の範囲のガラス転移温度を有することが好ましい。さらに、高分子層２４０は、非結晶性ＰＥＴ、可塑化ＰＶＣ、高密度ＰＥ、ＰＰ及びＰＥＩのいずれか１つの材料からなることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 二酸化チタン光触媒皮膜の形成において、有機バインダ等の結合剤を用いずに、大面積の基材に厚い膜を形成することにより、二酸化チタンの光触媒作用による、有機バインダの劣化が無く、長期間安定な光触媒皮膜を形成する。
【解決手段】 凝集した形態のアナターゼ型二酸化チタンを原料粉末とし、比較的低いガス圧力及び、アナターゼ型二酸化チタンの結晶変態温度以下の温度にて、原料粉末を加熱・加速し、基材上に衝突させることにより、基材上にアナターゼ型ニ酸化チタン光触媒皮膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】高周波放電によってプラズマを励起させ、活性種を生成させる放電室３と、放電室３で生成された活性種による処理対象である基板１０を収容する基板処理室４と、プラズマを放電室３に閉じ込めると共に、貫通孔５を介して活性種を放電室３から基板処理室４へと移動させることができる仕切り板２とを備えた真空処理装置において、放電室３内に生ずる活性種の数を増大させることで、基板処理室４へ移動する活性種の数を増大させて、もって処理効率を向上させる。
【解決手段】放電室３において高周波放電を生じさせる電極間の間隔を１５〜２５ｍｍとし、高電力の高周波でプラズマを形成する。 （もっと読む）

【課題】様々なデバイスに適用できるｐ型不純物がドーピングされたＺｎＯ系薄膜を提供する。
【解決手段】
基板上に形成されたＭｇ_ＸＺｎ_１−ＸＯ膜（０≦Ｘ＜０．５）で、ｐ型ドーパントのアクセプタ濃度を、５×１０^２０ｃｍ^−３以下になるように形成する。アクセプタ濃度が、５×１０^２０ｃｍ^−３を超えてくると、ｐ型不純物と母体となるＺｎＯ結晶との混晶化が発生し、ｐ型にドーピングされた良質のＺｎＯ系薄膜とならない。これは、ＺｎＯ２次イオン強度に変化が見られることでわかる。 （もっと読む）