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【課題】CrAlN/BNナノコンポジット被膜が高い付着強度で工具母材に設けられ、そのCrAlN/BNナノコンポジット被膜が有する優れた被膜性能が適切に得られるようにする。
【解決手段】Ala Tib Crc の窒化物または炭窒化物から成るI層22が工具母材12の表面上に設けられるとともに、CrAlN/BNナノコンポジット被膜から成るII層26が最表層となるように、それ等のI層22およびII層26が交互に2層以上積層されて硬質被膜20が構成されているため、高い付着強度が得られる。また、I層22およびII層26の層厚T1、T2は何れも50nmを超えており、且つ被膜全体の総膜厚Ttotal は0.1μm〜20μmの範囲内であるため、II層26を構成しているCrAlN/BNナノコンポジット被膜が有する優れた被膜性能が適切に得られ、高負荷時の工具寿命が向上するとともに、溶着が抑制されることで加工面粗さが向上する。 (もっと読む)


【課題】低抵抗、高透過率および適切な表面凹凸を有する透明導電膜を、低温でより少ないプロセスで得られる太陽電池用透明導電膜の形成方法、それによって形成された透明導電膜、およびその透明導電膜を形成するための形成装置を提供する。
【解決手段】一つの真空チャンバー1内で、スパッタリング法により基板7の表面に透明導電膜を形成する方法であって、基板7の表面上に、拡散板16を通してレーザー光Lを照射しながら成膜する。 (もっと読む)


【課題】先行技術の諸問題を解決し且つ改善された品質を有するイオン伝導性の、特に酸素透過性の膜を製造することができる、プラズマスプレー法を提供すること。
【解決手段】イオン伝導性を有するイオン伝導膜を製造するためのプラズマスプレー法であって、この膜がプロセスチャンバー内で基材(10)上に層(11)として堆積され、出発材料(P)が、プロセスガス(G)を用いてプロセスビーム(2)の形で基材(10)表面にスプレーされ、この出発材料は、最大で10,000Paの低いプロセス圧力でプラズマに注入され、且つそこで部分的に又は完全に溶融される方法が提供される。酸素(O;22)は、プロセスガスの全流量の少なくとも1%、好ましくは少なくとも2%になる流量で、スプレー中にプロセスチャンバー(12)に供給される。 (もっと読む)


【課題】ダマシン構造を有するCu配線において、バリア膜の拡散防止機能を低下させずにCu配線内のCuの埋め込み性を改善し、半導体装置の歩留まりおよび信頼性を向上する。
【解決手段】ダマシン配線を有する半導体装置において、第2層間絶縁膜6に形成した配線溝G2およびビアホールV2のそれぞれの内壁にバリア膜としてTaN膜7およびCuと濡れ性の良いTiからなるTi膜8とを順に形成することにより、Ti膜8上に均一にCuシード膜9aを形成することを可能とする。これにより、Cuシード膜9aを電極として電界メッキ法によりCu膜9を形成した際に、配線溝G2およびビアホールV2内に空隙が形成されることを防ぐ。 (もっと読む)


【課題】鋼、鋳鉄等の鉄系材料の切削加工において、すぐれた密着性、付着強度、靭性、耐熱衝撃性、耐摩耗性を発揮する複合硬質膜を被覆形成した表面被覆切削工具を提供すること。
【解決手段】 工具基体の表面に、WCとTiNの複合硬質膜からなる中間層およびTiNとcBNの複合硬質膜からなる上部層を被覆形成した表面被覆切削工具において、中間層の工具基体側ではWC含有比率が高く(好ましくは、WC/(WC+TiN)=0.6〜0.9。但し、体積比)、上部層側ではTiN含有比率が高くなる(好ましくは、TiN/(WC+TiN)=0.7〜0.9。但し、体積比)組成傾斜構造を備え、また、上部層の中間層側ではTiN含有比率が高く、表層側ではcBN含有比率が高くなる組成傾斜構造を備える。 (もっと読む)


【課題】成膜工程において微細な粉末が発生し得る成膜装置において、成膜室内の粉末の付着を抑制する成膜装置を提供する。
【解決手段】基板保持具22上に載置された基板21の表面に対して成膜材料を吹き出すノズルを備えた成膜室1を有し、成膜室内の粉末が付着する部分を選択的に加熱する加熱手段を設け、また基板21の表面に存在する段差について、基板21から段差が立ち上がる点を中心とし、段差の高さまでの段差端部と、段差が立ち上がる点から段差の高さとほぼ同じ距離離れるまでの基板21の表面の範囲を選択的に加熱する加熱手段30を設けた。 (もっと読む)


鋳鉄または鋼で作製されているのが好ましいスライド要素、とりわけピストンリングは、CrN層(14)およびa−C:H:Me層(16)が交互に重なり合った多重層を有するコーティングを備える。鋳鉄または鋼で作製されているのが好ましいスライド要素、とりわけピストンリングをコーティングするための方法では、複数のCrN層とa−C:H:Me層が交互に設けられる。 (もっと読む)


【課題】成膜工程において微細な粉末が発生し得る成膜装置において、成膜室内に漂ったり、成膜室壁に付着したりして成膜室内に残留する粉末の量を軽減する成膜室外への粉末の漏れを抑制する成膜装置及び成膜室を提供する。
【解決手段】成膜室内に残留する粉末を減少させるために、成膜室内での粉末の主要な流れ方を考慮して、成膜室内を減圧する減圧ポンプが取り付けられる排気口の設置位置を設定し、粉末の排気系への吸い込み量を増やす。 (もっと読む)


−プロセス空間雰囲気圧のプロセス空間雰囲気を用意することと、−プロセス空間雰囲気圧とは異なる外部雰囲気圧の外部雰囲気を用意することと、−外部雰囲気がプロセス空間雰囲気に開口連通する通路であって、外部雰囲気とプロセス空間雰囲気との間での基板の交換が可能である通路を設けることと、−この通路の少なくとも一部を通って延在する交換用流体の流れを生じさせるように、少なくとも1つの交換用流体注入点において交換用流体を通路に注入することと、を含む方法であって、この流れの方向は、−外部雰囲気圧がプロセス空間雰囲気圧より大きい場合は、外部に向かい、−外部雰囲気圧がプロセス空間雰囲気圧より小さい場合は、プロセス空間に向かう、方法。 (もっと読む)


【課題】焼入れ鋼等の高硬度鋼の切削加工で、すぐれた耐欠損性、耐摩耗性を発揮する複相混合層からなる硬質被覆層を形成した表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】 工具基体の表面に、cBN相とTiN相との複相混合層からなる硬質被覆層を形成した表面被覆切削工具において、該硬質被覆層中のcBN相の体積割合は40〜80%であり、残りは、非晶質TiN相と結晶質TiN相の混相からなり、混相に占める上記非晶質TiN相の面積割合は30〜80%であって、非晶質TiN相は、cBN粒子の表面を被覆している。 (もっと読む)


【課題】基板上に膜を成膜する際に、マスクやレジスト膜を用いることなく、しかも、簡便な方法により、膜を安価に得ることができる成膜方法を提供する。
【解決手段】基材1の表面に撥液膜2を形成する工程と、この撥液膜上に、インクジェット法により、所定のパターンを有する樹脂層5を形成する工程と、樹脂層及び撥液膜に親液化処理を施す工程と、樹脂層のみに撥液化処理7を施す工程と、樹脂層を含む撥液膜上に蒸着材料8を堆積し、この蒸着材料を、樹脂層以外の撥液膜上に集合させ、この集合した蒸着材料を膜9とする工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】基板上に膜を成膜する際に、マスクやレジスト膜を用いることなく、所望のパターンを有する膜を安価に得ることができる成膜方法を提供する。
【解決手段】本発明の成膜方法は、基材1の表面1aに撥液膜2を形成する工程と、この撥液膜2上に、インクジェット法により所定のパターンを有する樹脂層5を形成する工程と、この樹脂層5に、CFプラズマを用いて撥液性を示すフッ素イオンを打ち込むことによりフッ素化処理7を施す工程と、樹脂層5を含む撥液膜2上に蒸着材料を堆積し、この蒸着材料を、樹脂層の付着エネルギーが低くかつ所定のパターンを有する領域以外の撥液膜上に集合させ、この集合した蒸着材料を膜とする工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】同じ成膜室内で薄膜を蒸着及びスパッタすることができる薄膜製造装置を提供する。
【解決手段】薄膜製造装置は、成膜室をスパッタチャンバー及び蒸着チャンバーに分け、スパッタチャンバー及び蒸着チャンバーを連通する貫通孔1213を有する固定板121を備える。ワークピースを積載する第一積載板122を有する積載装置120と、スパッタ装置と、蒸着装置140と、を備え、第一積載板は、スパッタチャンバー又は蒸着チャンバーに回動可能に取り付けられ且つ貫通孔の近傍に位置する。第一積載板を回動して、第一積載板が貫通孔を遮蔽しない際には、第一積載板に積載されるワークピースはスパッタチャンバー又は蒸着チャンバーに暴露され、第一積載板を回動して、第一積載板が貫通孔を遮蔽する際には、第一積載板に積載されるワークピースは蒸着チャンバー又はスパッタチャンバーに暴露される。 (もっと読む)


【課題】安価かつ短時間でバルブ金属と異相成分との混合膜を形成することにより、多孔質バルブ金属膜を工業的に提供可能とする。
【解決手段】1)メカニカルアロイングにより、バルブ金属と該バルブ金属と相溶性を持たない異相成分からなる合金粉を作製し、2)衝撃固化法により、バルブ金属箔集電体の少なくとも一方の面に、該合金粉を吹き付けて、前記バルブ金属と前記異相成分からなる混合膜を形成し、3)得られた混合膜を熱処理し、4)該混合膜中の異相成分を除去することにより、前記バルブ金属箔集電体の上にバルブ金属多孔質層を形成する。 (もっと読む)


【課題】超微粒子の粒径を大幅に変えることができしかも超微粒子の収率のよく、また基板上の成膜範囲を制御できるヘリコンプラズマを用いた超微粒子薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】スパッタカソード室11と成膜室12とを有し、スパッタカソード室で生成された原子及び超微粒子の集合体を成膜室内の基板に吸着させて薄膜を形成するようにした装置において、成膜室にレンズ効果により超微粒子を収束、発散をさせる静電レンズが設けられる。 (もっと読む)


【課題】マイクロ電池製造時のリチウム真空堆積プロセスで用いられるメカニカルマスクから安全にリチウムを除去するとともに、該リチウムをリサイクルする方法を提供する。
【解決手段】支持体上の金属リチウムの除去方法は、プラズマ応用ステップを備える。プラズマは、50Wから400Wの間のパワーを持つ炭素源及び酸素源から形成される。プラズマは、金属リチウムを炭酸リチウムに変換する。さらに、水溶液に炭酸リチウムを溶解させるステップを備える。 (もっと読む)


【課題】フィルムが弾性筒体の内面に貼着するゲートバルブの使用でも、遮断による真空確保の問題を改善し、かつフィルムの貼着力を小さくし、通常のフィルム通過に問題を派生させないゲートバルブおよびフィルムのゲートバルブ通過方法を提供する。
【解決手段】入口側と出口側のフィルム通過窓と内部のま空間部が形成されたバルブ本体と、前記空間部内を延在し、前記入口側と出口側のフィルム通過窓をそれぞれ包囲閉塞する弾性筒状部を備えた筒体と、前記空間部の前記弾性筒状部のフィルム10,が通過する側を内面とした時に、外面に接触して該弾性筒状部を面押圧するピストン71A、71Bと、から構成された気密を保持するゲートバルブにおいて、前記ピストン71A、71Bは、その押圧する面が、フィルム端部に接触する面で幅広とし、中央部96、97において幅狭とし、幅狭面の幅は8mm未満、幅広面の幅は8〜20mmとする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、その表面が摩耗した場合でも凹凸面を維持することのできる摺動用構造部材及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基材の表面に形成された不規則な凹凸上に、異種材料の膜が交互に積層された多層膜を設けてなることを特徴とする摺動用構造部材及びその製造方法。 (もっと読む)


【課題】比較的安価な構成により、スイングアームのロックし忘れを防止する真空成膜装置を提供する。
【解決手段】真空成膜装置3は、ホルダ19fを支持しかつ揺動自在なスイングアーム90を備えている。スイングアーム90は、ホルダ19fを他のホルダ19と共に周回状に配置する閉位置と、ホルダ19fを中心位置15aの外方に移動させた開位置との間で揺動可能である。真空成膜装置3は、スイングアーム90を閉位置に保持するロック機構と、スイングアーム90が閉位置にあるとスイングアーム90を開位置側に向かって付勢する付勢部材61と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】膜剥離や短絡の発生を抑制し、かつ圧電特性を向上する圧電素子を提供する。
【解決手段】基板7の上に、単一の拡散防止層12と、圧電層13とが、この順序で積層された、基板7を含めた3層構造の圧電素子100であって、拡散防止層12及び圧電層13は、それぞれエアロゾルデポジション法によって成膜された膜であり、拡散防止層12の弾性率は、基板7の弾性率以下でかつ圧電層13の弾性率以上の関係を有する。拡散防止層12は、アルミナを添加したジルコニア、若しくは、チタン酸ジルコン酸鉛、若しくは、膜厚が5μm以上となるジルコニアにより構成する。 (もっと読む)


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