【課題】成膜マスク装置の各ガイドピン、ガイド孔に蒸着粒子が付着しないような手段を得る。
【解決手段】成膜マスク装置Ａは、表裏両面に被成膜基板１０を保持する複数の第２のガイドピン１３ｂ、及びマスク板２０の位置決め用の第１のガイドピン１３ａを有する保持基板１３と、各被成膜基板１０を間に挟んで保持基板１３の表裏両面に添設されるマスク板２０と、遮蔽カバー１１、１５と、を備えた成膜マスク装置である。蔽カバー１１、１５は、各第１、及び第２のガイドピン１３ａ、１３ｂに対して蒸着粒子の付着を防止する第１、及び第２の凹部１１ａ、１１ｂを備えている。 （もっと読む）

【課題】長期間に亘って正常な動作を行える水晶振動式膜厚センサ装置を提供する。
【解決手段】加速した電子を照射し加熱して蒸発させた材料７を、形成した磁場により電子を遮蔽しつつ基板フィルム２の表面に付着させて薄膜を形成する際に薄膜の膜厚を求める水晶振動式膜厚センサ装置１０である。膜厚センサ１１と材料７間に、スリットを有する回転体１２を配置する。スリットの長手方向に対して交差する方向に磁場を発生させる磁石を設ける。
【効果】水晶振動子の振動に悪影響を与える電子の膜厚センサへの入射を効果的に遮蔽することができるので、長期間に亘って正常な動作が行えるようになる。 （もっと読む）

【課題】添加剤(着色剤や艶消し剤など)を添加しても金属との蒸着密着性に優れており、かつ耐アルコール性の良いアクリル系樹脂フィルムを提供する。
【解決手段】一方の表層は酸価が０．１ｍｍｏｌ／ｇ以下のアクリル系樹脂層であり、他方の表層は酸価が０．２ｍｍｏｌ／ｇ以上１．５ｍｍｏｌ／ｇ以下のアクリル系樹脂層である、積層フィルム。 （もっと読む）

【課題】基板に有機物薄膜を蒸着する全体の工程時間を最小化できる平板パネル製造装置を提供する。
【解決手段】少なくとも二つの基板１０が処理される複数の工程チャンバー１１０；第１の方向Ｌ１に沿って複数の工程チャンバーの間に配置され、第１の方向に直交する第２の方向Ｌ２に沿って直線状に往復移動しながら未処理の基板を工程チャンバーに供給したり、処理が完了した基板を工程チャンバーから排出する移送ロボット１２３を備える移送チャンバー１２０；移送チャンバーの一側に結合され、供給される基板を収容するローディングチャンバー１３０；及び移送チャンバーの他側に結合され、排出された基板を収容するアンローディングチャンバー１４０；を含み、工程チャンバーの内部では、第２の方向に沿っていずれか一つの基板に工程ガスが蒸着されると同時に、残りの基板に対する移送及び位置整列が行われることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、簡易な方法でペレットがインゴット上を転がることを防止できる蒸着装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本願の発明に係る蒸着装置は、蒸着材料で形成されたインゴットと、該インゴットの上に供給され、該インゴットと同一材料で形成された複数のペレットと、該インゴットと同一材料で形成され、該複数のペレットが該インゴットの上を転がらないように該複数のペレットを囲う固定用ペレットと、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高速蒸着と、坩堝内の材料に照射された後の反射電子や軌道をそれた電子による成膜部へのダメージを抑制する。
【解決手段】加速した電子を照射し加熱して蒸発させた材料５を、形成した磁場により電子を遮蔽しつつ基板フィルム２の表面に付着させて薄膜を形成する電子ビーム蒸着装置である。前記磁場を、複数の磁石１０によって基板フィルム面に沿って形成させると共に、基板フィルム２を複数に配置した磁石１０の一方側から他方側に向けた移動が可能なように構成する。
【効果】成膜範囲を広くした場合にも各々の磁石の磁場強度を低減でき、磁石と電子ビーム源間の距離を短くできるので、高速蒸着と、坩堝内の材料に照射された後の反射電子や、軌道をそれた電子による成膜部へのダメージ抑制を共に達成することができる。 （もっと読む）

【課題】蒸発量に見合った材料を連続的に供給する。
【解決手段】加速した電子を照射し、加熱して蒸発させた坩堝６内の材料７を基板フィルム２の表面に付着させて薄膜を連続的に形成する際の前記材料７の連続的な供給制御を、坩堝６内の材料７の蒸発速度が一定になるように制御されているエミッション電流値を検出することで行う電子ビーム蒸着用材料供給装置である。前記坩堝６として、内面を底部から開口端にかけて逆末広がりのテーパ状に形成したものを使用する。
【効果】材料供給装置からの材料の供給量が自動的に制御され、蒸発量に見合った材料を供給できるので、長時間の運転が可能になる。 （もっと読む）

【課題】劣化を抑制しつつ、金属酸化物を蒸発または昇華することが可能な蒸発源を提供する。また、高温で蒸着が可能な蒸着装置を提供する。
【解決手段】筒状セル１１２、及び筒状セルの蓋として機能し、且つ貫通口が設けられ且つ筒状セルの外側に突出する突起部を有する第１の蓋体１１４で構成される坩堝１１１と、坩堝の外周部に設けられた発熱部１０４と、発熱部と接するように配設され、第１の蓋体を覆うと共に、第１の蓋体の突出部の少なくとも一部を貫通させる貫通口を有する第２の蓋体１０６と、を有する蒸発源である。 （もっと読む）

【課題】強力な磁気ガイドを含み、無限の異なる軌道内でアークの陰極点を誘導できるようにし、個別に選択され得、かつターゲットを均等に使用するアーク蒸着装置を得る。
【解決手段】磁気ガイドは、２つの独立した磁気システムを含み、該磁気システムのうちの第１のものは、陰極つまりターゲットの周囲に配置されかつ、その磁化がターゲット２の表面領域に対し垂直であるように前記ターゲットと多少の差こそあれ同一平面にくるように配置されている一群の永久磁石３からなり、第２の磁気システムは、ターゲット２の後方部分上に設置されかつ、その磁極のうちの少なくとも１つがターゲットの表面領域に対し平行である状態で前記ターゲット２からある一定の距離のところにて蒸着装置の電気絶縁性本体６内に収納されている電磁石４，５からなる。 （もっと読む）

【課題】蒸着時の突沸を防止して膜上のパーティクルを低減すると同時に、蒸着材料の使用効率を向上させる装置を提供する。
【解決手段】電子ビーム蒸着装置において、蒸着材料が充填される坩堝、前記蒸着材料に電子ビームを照射して該蒸着材料を蒸発させるための電子銃、及び前記坩堝に対向して配置され、蒸発した前記蒸着材料が成膜される基板を保持する基板保持部を備え、前記電子ビームの出力電力が１．２〜３．０ｋＷの範囲で、前記成膜の条件に基づいて加速電圧が数値２ｋＶ以上〜６ｋＶ未満の範囲で設定されるよう構成した。 （もっと読む）

【課題】品質の低下が抑制された有機ＥＬデバイスを製造し得る有機ＥＬデバイスの製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】帯状の基材を長手方向に移動させつつ蒸着により該基材に有機ＥＬ素子の構成層を形成する有機ＥＬデバイスの製造方法であって、前記基材を長手方向に移動させつつ、該基材の移動方向に沿って設けられた第１及び第２蒸着部にて、前記基材の一面に蒸着源から気化材料を吐出して順次蒸着を行う構成層形成工程を備え、該構成層形成工程は、複数の上向き蒸着工程と、方向変換工程とを備えている有機ＥＬデバイスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】大型の成膜対象物の表面に分布が均一な成膜を簡素な構成の装置で行うことができる技術を提供する。
【解決手段】本発明の蒸着装置１は、真空槽２と、真空槽２内に設けられ、溶融蒸発材料３０を収容する細長形状の収容部１２と、当該収容部１２内の蒸発材料をその蒸発温度以上の温度で加熱する加熱手段１３とを有する蒸発源１０を有する。真空槽２内には、蒸発源１０の収容部１２の長手方向に対して直交する方向に基板４を搬送するための搬送経路５と、蒸発源１０の収容部１２の両側部に、蒸発材料３１、３２を移動させつつ収容部１２の両端部にそれぞれ所定量の蒸発材料３１、３２を供給する第１及び第２の材料供給手段２１、２２とを有する。 （もっと読む）

【課題】高精細な複数の開口パターンの形成を容易にすると共に、ハンドリング中も開口パターンの形状及び位置が維持できるようにする。
【解決手段】平板状の磁性金属材料に薄膜パターンよりも形状が大きい貫通する複数の開口部６を設けて保持部材１を形成し、保持部材１の一面に可視光を透過する樹脂製フィルム２を密着して保持し、第１の磁気チャック１７上に載置された基板３に対して保持部材１を位置合わせした後、磁力により保持部材１を吸着してフィルム２を基板３面に密着させ、保持部材１の開口部６内のフィルム２の部分にレーザ光を照射して、薄膜パターンと同形状の貫通する開口パターン４を形成し、第２の磁気チャック１８の磁力により保持部材１を吸着して該保持部材１及びフィルム２を一体的に基板３上から剥離する。 （もっと読む）

【課題】メタルマスクを直接冷却することが可能なメタルマスク冷却機構と、そして、当該機構を備えた有機ＥＬ成膜装置を提供する。
【解決手段】真空蒸着チャンバ中で、基板とメタルマスク８３とのアライメントを行って蒸着材料を当該基板に蒸着する有機ＥＬ成膜装置におけるメタルマスクの冷却機構は、メタルマスクを間に挟み込んで、外形「ロ」の字状に形成され、一方の表面上に前記マスクを取り付ける固定フレーム８２の外枠に沿って設けられる、複数の固定板８４を備えており、固定板は、各々、熱伝導性に優れた部材により細長い板状に形成されると共に、その内部には冷媒を流すための流体流路を形成すると共に、更に、固定板の各々には、前記固定板の流路に冷媒を供給するための配管と排出するための配管とを設けた。 （もっと読む）

【課題】 珪素の高い初期効率と電池容量を維持しつつ、サイクル特性に優れ、充放電時の体積変化を減少させた非水電解質二次電池の負極用として有効な活物質としての珪素粒子からなる負極活物質の製造方法を提供する。
【解決手段】 非水電解質を用いる二次電池用の負極活物質の製造方法であって、金属珪素を原料とした電子線蒸着法により、温度を８００−１１００℃に制御した基板上に、１ｋｇ／ｈｒを超える蒸着速度で、蒸着膜厚が２−３０ｍｍの範囲で珪素を堆積させる工程と、該堆積させた珪素を粉砕・分級して、前記負極活物質を得る工程とを含むことを特徴とする非水電解質二次電池用負極活物質の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高精細な複数種の薄膜パターンの形成を効率よく行い得るようにする。
【解決手段】フィルム２に有機ＥＬ層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂと同形状の開口パターン４を設けたマスク１をフィルム２がＴＦＴ基板１９側となるようにして該ＴＦＴ基板１９上に位置決めし載置し、ＴＦＴ基板１９のＲ対応アノード電極２１Ｒ上にマスク１の開口パターン４を介して成膜し、Ｒ有機ＥＬ層１７Ｒを形成した後、マスク１を複数種の有機ＥＬ層１７Ｒ〜１７Ｂの配列ピッチと同寸法だけアノード電極２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂの並び方向に移動し、ＴＦＴ基板１９のＧ対応アノード電極２１Ｇ上にマスク１の開口パターン４を介して成膜し、Ｇ有機ＥＬ層１７Ｇを形成する。 （もっと読む）

【課題】１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下の高い水蒸気透過度を有する透明なガスバリア積層フィルムを提供する
【解決手段】樹脂基材１１とプライマー層１２と蒸着膜層１３とからなり、樹脂基材１１の片面にプライマー層１２と蒸着膜層１３とがこの順に積層されたガスバリア積層フィルム１０であり、プライマー層１２が脂環構造を有するモノマーを１０モル％以上８０モル％以下の割合で重合させて得られたアクリルポリオールとイソシアネート系化合物との複合物によって形成されたものであり、蒸着膜層１３が金属珪素と二酸化珪素とを含有した蒸着材料を蒸着させたものである。 （もっと読む）

【課題】基板とマスクとの隙間を高精度に制御することのできる有機ＥＬデバイス製造装置を提供する。
【解決手段】真空処理室内に設けられたシャドウマスクと、基板を載置する基板ホルダーと、基板とシャドウマスクとの間を、接近させ又は離間させる基板密着手段と、基板ホルダーの四隅に設けられた距離計測機構とを備え、距離計測機構は、基板ホルダーを貫通するように設けられた距離計測用空間と、基板ホルダーの表面上に設けられた透明ガラス板と、距離計測用空間に配置された距離計測部とを備え、距離計測部は、光を発射し反射光を受光して距離を計測する距離計と、距離計を真空処理室内の雰囲気から隔離する距離計筐体と、距離計筐体の一部に設けられた透明ガラス窓とを備え、距離計が、透明ガラス窓を介して透明ガラス板とシャドウマスクとの間の距離を計測するよう、有機ＥＬデバイス製造装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】厚さが均一なコーティングを得る方法を提供すること。
【解決手段】材料を気化させて基板の表面に膜を形成する方法は、所定量の材料を気化装置の中に供給し、その気化装置の中にあるその材料を第1の温度状態に加熱し、その材料の一部に作用する熱パルスを印加してその材料のその部分を気化させることにより基板の表面に付着させる操作を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】アクチュエータを設けることなく、基板を確実に保持できる有機ＥＬデバイス製造装置を提供する。
【解決手段】基板ホルダー９１と、基板搬送機から基板６を受取るための基板受けピン６６と、基板ホルダー昇降機構６８と、基板ホルダー９１の端部に設けられ、基板クランプ６１とクランプ支持金具６２とクランプ付勢バネからなる基板保持機構と、基板６を基板クランプ６１から解放するためのクランプ開閉ピン６７とを備え、クランプ支持金具６２は縦方向に回転し第１の腕６２ａ
と第２の腕６２ｃを有し、第１の腕６２ａの端には基板クランプ６１の一端が固定され、第２の腕６２ｃの端には縦方向に回転する回転部が設けられ、基板クランプ６１が基板６を基板ホルダー９１に押圧するよう、有機ＥＬデバイス製造装置を構成する。 （もっと読む）