説明

Fターム[4K029CA01]の内容

物理蒸着 (93,067) | 被覆処理方法 (12,489) | 真空蒸着 (3,263)

Fターム[4K029CA01]の下位に属するFターム

反応性 (559)

Fターム[4K029CA01]に分類される特許

161 - 180 / 2,704


【課題】 基材表面に位置する官能基がアミド化や窒化することを防ぎつつ、また酸素結合に頼ることなく層間密着力を向上させることを可能としたガスバリアフィルムの製造方法及び係る製造方法によるガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】 基材となるプラスチックフィルムの表面に対し、不活性ガス導入下において、気圧気圧0.1Pa〜10Paという環境下にて予めプラズマ処理を施すプラズマ処理工程と、前記プラズマ処理工程を実施した後に、その表面にシラノール基を有する鱗片状シリカを主剤に対して添加した第1高分子樹脂層、ガスバリア層、シラノール基を有する鱗片状シリカを主剤に対して添加した第2高分子樹脂層、をこの順に積層してなる備えてなる製造方法、及び該方法により得られるガスバリアフィルムとした。 (もっと読む)


【課題】筒状体の内周面に均一な膜厚で、かつ均一なドープ濃度で共蒸着膜を形成可能な成膜装置および成膜方法。
【解決手段】成膜装置30は、筒状体1の内周面に共蒸着膜を形成するための成膜装置であって、筒状体1を保持するための筒状体ホルダ2と、第1の蒸着材料11を充填するための内部空間を有する第1の蒸着容器12と、第2の蒸着材料12を充填するための内部空間を有する第2の蒸着容器22とを備えている。筒状体ホルダ2と第1および第2の蒸着容器12、22とは、筒状体1の延在する方向に互いに相対的に移動可能であり、筒状体1の延在する方向に延びる仮想の軸線A−Aを中心として互いに相対的に回転可能である。 (もっと読む)


【課題】 成膜対象物上への薄膜の形成を好適に行うことが可能な成膜装置、及び成膜方法を提供する。
【解決手段】 Si原子を含む化合物または混合物を表面改質材料として導入する導入管20と、キャリアガスを導入する導入管25と、表面改質材料及びキャリアガスを内部に導入、加熱して、それらが混合された表面改質ガスを供給するホットウォール管12と、ホットウォール管12の内部において加熱されることで金属材料を含む成膜材料ガスを供給する成膜材料体30と、成膜面上に薄膜を形成するための成膜用基板16を保持する基板保持ステージ15とを用いて成膜装置1Aを構成する。そして、ホットウォール管12から基板16の成膜面へと表面改質ガス及び成膜材料ガスを供給することによって、金属材料を少なくとも含む薄膜を成膜面上に形成する。 (もっと読む)


【課題】光量を高めた特殊な光源や感度の高い特殊な検出器を用いることなく、成膜される光学薄膜の膜厚を、高い精度で計測する光学式膜厚モニターを備えた成膜装置を得ることである。
【解決手段】モニター基板と、真空チャンバーの外に設置され、透明窓を介してモニター基板にモニター光を投射する発光手段と、モニター基板から反射され、真空チャンバーの外に導出されるモニター光を受光する受光手段と、受光手段で計測したモニター光の強度変化から、被成膜部材に形成される薄膜の膜厚を算出する手段とを有する光学式膜厚モニターを備えた成膜装置であって、モニター基板が、平面に半導体でなる膜厚が100nm未満の第1の薄膜を備えているものである。 (もっと読む)


【課題】高いガスバリア性を有し、かつ、ガスバリア層と積層する薄膜層との密着性に優れた透明ガスバリアフィルム、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】高分子基材フィルム上に、少なくとも珪素酸化物からなる薄膜層が積層された透明ガスバリアフィルムであって、該珪素酸化物からなる薄膜層の表面がアルゴン(Ar)と窒素(N2)の混合ガスを原料とするイオン照射処理されてなるものであることを特徴とする透明ガスバリアフィルム。 (もっと読む)


【課題】Alの這い上がり、あるいはAl蒸気浸入を防止して破損の起こりにくい蒸発源を有する蒸着装置を低コストで提供することである。
【解決手段】真空チャンバ内に蒸着源ユニット26を有する蒸着装置であって、前記蒸着源ユニット26は、蒸発材5を収容する坩堝1と、前記坩堝1の開口部に取り付けられたノズル2と、前記坩堝1を囲み、ヒータ3を収容するヒータ室10と、固定具7を有し、前記坩堝1の内壁と前記ヒータ室10との間には、前記坩堝1において溶融した前記蒸発材5または前記蒸発材5の蒸気が前記ヒータ室10に侵入することを阻止する切欠き12を有することを特徴とする蒸着源ユニットを有する蒸着装置である。 (もっと読む)


【課題】大型基板上に膜厚が均一で不純物の少ない薄膜を高速に成膜させ、長時間連続運転可能な真空蒸着装置及び成膜装置を提供する。
【解決手段】蒸発源は蒸着材料17を収容し、蒸気16を外部に放出するノズル16を有する坩堝14と、坩堝14を加熱するヒーター13で構成されている。蒸気15が放出されるノズル14の先端に金属で形成されたリング状の信号検出センサー11を配置する。蒸着材料17が過熱されて分解されたときに発生する荷電粒子が信号検出センサー11に衝突すると微弱電流が流れる。この微弱電流を蒸着室の外部に設置された第1の制御装置18によって検出し、第1の制御装置18からの信号を用いる第2の制御装置12によって蒸発源のヒーター13に加える電力を制御することによって蒸着膜厚を制御する。 (もっと読む)


【課題】複数の機能領域を有する有機化合物膜を作製する成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜室内に複数の蒸発源を備え、それぞれの有機化合物からなる機能領域を
連続的に形成し、さらに機能領域間の界面には混合領域を形成することができる。さらに
、成膜室の内壁の表面は電解研磨されている。成膜部内を連続的に移動できる基板搬送手
段を有し、基板搬送手段は、成膜部の上方に設けられ、成膜部と同一空間を有しており、
成膜室内にある基板を平面方向に搬送する手段を有している。成膜部は、基板搬送手段に
よる基板の搬送空間を含んで設けられ、基板搬送手段に基板が保持された状態で蒸着が行
われる。 (もっと読む)


【課題】誘電体フィルム上の金属蒸着電極中の各金属成分の比率を制御し、優れた特性を有する金属化フィルムを提供する。
【解決手段】真空蒸着装置は、上部が開口した蒸着室8と、蒸着室内に設けられ、金属材料を加熱して金属蒸気を発生させる複数の蒸発源16と、蒸着室内において、複数の蒸発源どうしを仕切る隔壁18を備え、隔壁は、水平方向に可動な板状の基部24と、基部の上部に設けられ、鉛直方向に可動な仕切り板25を有する構成とした。この構成により、各金属蒸気が放出される開口部の面積を自由に変更できるようになり、さらに夫々の蒸発源からの金属蒸気どうしが重なり合う量を制御することができる。この結果、金属蒸気の蒸着量やその状態の制御が可能となり、金属蒸着電極中の各金属成分の比率や分布状態を制御できる。そして、優れた特性を有する金属化フィルムを作製できる。 (もっと読む)


【課題】複数の蒸発源ユニットを用いた真空蒸着装置において、蒸発源ユニットの個数を増加させることなく蒸着膜厚の均一性を向上し、かつ、高速に成膜する真空蒸着装置を提供すること。
【解決手段】長手方向(X方向)を有する蒸発源を、前記X方向および基板面に沿って垂直な方向(Z方向)に基板と蒸発源を相対的に移動させる機構を有する真空蒸着装置において、
前記蒸発源には蒸着材料が封入された複数の蒸発源ユニット3がX方向に所定の間隔をもって配置され、Z方向へ複数回の走査を繰り返す際、往路と復路で前記蒸発源ユニット3をX方向に所定のピッチで移動させて成膜する。Z方向への往路と復路の間のX方向への小さな移動により、蒸発源ユニット3の個数を増加することなく、膜厚均一性を向上することができる。 (もっと読む)


【課題】大型基板上に膜厚が均一で有機EL上部電極用のアルミ金属薄膜を高速に成膜させ、長時間連続運転可能な真空蒸着装置及び成膜装置を提供する。
【解決手段】セラミック製の坩堝を用いてアルミの這い上がりを防止し、同一方向に所定の角度で傾いた蒸発源3−1を少なくとも2つ以上、縦方向に並べた蒸発源列3−2を横方向に操作して蒸着する機構を用いることにより、大型化した縦置き基板1−1に対して、有機EL上部電極用金属薄膜を高速成膜し、長時間の連続成膜をすることを可能にする。 (もっと読む)


【課題】蒸発源のノズル付近に蒸着物が堆積し、蒸着精度が低下することを防止することが出来る真空蒸着装置を実現する。
【解決手段】蒸発源3から蒸着物質を蒸発させ、メタルマスク4を介して有機EL表示装置用基板1の上に有機薄膜2を蒸着する。蒸発源3には、ノズルが線状に配置され、線状のノズルから蒸気15が噴射される。蒸発源を上下させることによって、基板1全面に蒸着を行うことが出来る。蒸着室内において、蒸気が当たらない箇所に赤外線ランプユニット11を配置し、赤外線を蒸発源のノズル付近に照射して、ノズル付近に堆積した蒸着物質を除去する。これによってノズルの径が小さくなったり、目づまりが生じたりすることを防止する。 (もっと読む)


【課題】物理蒸着中に、凝縮した蒸気を収集するための装置および真空システムを提供する。
【解決手段】物理蒸着中に、凝縮した蒸気を収集するための装置は、真空チャンバ内の1つ以上の蒸気源に隣接して配置されるように構成された筐体を備える。この筐体は、対象物を収容するように構成された空間の体積を部分的に囲む筐体の内面を含み、この筐体は、上記1つ以上の蒸気源よりも低い温度に保たれる。上記筐体の内面は1つ以上の排水溝に結合される。 (もっと読む)


【課題】成膜材料であるDy、Tbを有効に利用しつつ、所定形状鉄−ホウ素−希土類系の磁石の表面に高速で成膜させて生産性が向上し、低コストで永久磁石を製造できる成膜装置を提供する。
【解決手段】真空排気可能な処理室2と、前記処理室内を加熱する加熱手段23と、前記処理室内でバルク体たる金属蒸発材料と被処理物とをそれぞれ保持する保持手段6とを備え、前記処理室の減圧下で前記加熱手段を作動させ、少なくとも金属蒸発材料が蒸発する温度まで処理室を加熱して処理室内に金属蒸気雰囲気を形成し、前記金属蒸気雰囲気中の金属原子が、加熱されている被処理物表面に付着するように構成した。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、材料の損出の少なくできる、あるいは安定した蒸着の妨げとなる内圧の変化を防ぐ蒸発源を提供することである。また、前記蒸発源に適した有機ELデバイス製造装置及び有機ELデバイス製造方法を提供することである。
【解決手段】
本発明は、内部に蒸着材料を内在する坩堝と、前記蒸着材料を加熱し蒸発・昇華させる加熱手段と、前記蒸発・昇華した前記蒸着材料を噴射する蒸着物噴射口をライン状に複数並ぶ蒸着物噴射口部を有する蒸発源において、前記蒸着物噴射口部を複数設け、各前記蒸着物噴射口部毎に開閉する開閉手段を有することを第1の特徴とする。また、本発明は、複数ある前記蒸着物噴射口部のうち少なくとも一つの前記蒸着物噴射口部を開き、そのときに他の前記蒸着物噴射口部の全ての前記蒸着物噴射口部を閉じるように前記開閉手段を制御する制御手段を有することを第2の特徴とする。 (もっと読む)


【課題】蒸発源の冷却時間を短縮する。
【解決手段】蒸着工程では、蒸着材料を収納する坩堝、坩堝を加熱する加熱部、坩堝内で気体化した前記蒸着材料を前記被処理物に向かって放出するノズル、および坩堝の周囲に配置されるリフレクタ15を備える蒸発源から、蒸着材料ガスを発生させ、被処理物に蒸着膜を形成する。また、冷却工程では、リフレクタ15に固定された冷却体16に冷媒を流して坩堝を冷却する。ここで、冷却工程には、冷却体16に冷媒ガスを流す冷媒ガス供給工程と、冷媒ガス供給工程の後、冷却体16に冷媒ガスよりも熱容量が大きい冷媒液を流す冷媒液供給工程と、が含まれる。 (もっと読む)


【課題】蒸発源の冷却時間を短縮する。
【解決手段】蒸着準備工程では、蒸着材料30を収納する坩堝13、坩堝13を加熱する加熱部14、および坩堝13内で気体化した蒸着材料30を被処理物に向かって放出するノズル12、を備える蒸発源10、および被処理物を真空チャンバ内に配置する。次に、坩堝13に収納された蒸着材料30を加熱部14により加熱して、気体化した蒸着材料ガスを発生させ、被処理物に蒸着膜を形成する。次に、蒸発源10の外側からノズル12を介して坩堝13内にガス26を供給し、かつ、加熱部14を停止させて坩堝13を冷却する。 (もっと読む)


【課題】 接着性、水蒸気バリア性、特に水蒸気バリア性に優れた蒸着用積層フィルムを提供すること。
【解決手段】 プラスチックフィルムの少なくとも一方の表面に樹脂組成物層が積層してなる蒸着用の積層フィルムであって、樹脂組成物層は、ウレタン結合基及びウレア結合基と酸基を有するポリウレタン樹脂とオキサゾリン基を含有する樹脂からなる樹脂組成物により形成されることを特徴とするガスバリア性積層フィルム。 (もっと読む)


【課題】高速成膜で発光層を成膜しても発光素子の発光効率の低下を抑制することができる連続成膜装置を提供する。
【解決手段】連続成膜装置は、第2の蒸着室214と、それに繋げられた第3の蒸着室215と、第2の蒸着室内から第3の蒸着室内へ基板10を搬送する搬送機構と、第2の蒸着室内に配置され、前記基板の搬送方向に並べて配置された複数の第3の蒸着源14と、第3の蒸着室内に配置され、前記搬送方向に交互に並べて配置された第4の蒸着源15a〜15c及び第5の蒸着源16a,16bと、を具備し、第3の蒸着室において最も第2の蒸着室側に配置される蒸着源は第4の蒸着源15aであり、第4の蒸着源は、ホスト材料を有し、第5の蒸着源は、ドーパント材料を有し、第3の蒸着源の蒸着材料のHOMO準位は、前記ホスト材料のHOMO準位に揃えられている。 (もっと読む)


【課題】スプラッシュ現象の発生を抑制し、高いガスバリア性を付与したガスバリア性蒸着フィルムを提供する。
【解決手段】高分子フィルム基材1上に、金属珪素と、二酸化珪素と、金属ビスマスもしくは酸化ビスマス粉末とを含有し、珪素とビスマスの合計の原子数と、酸素の原子数の比{O/(Si+Bi)}が1.0〜1.8であり、ビスマスと珪素の原子数の比(Bi/Si)が0.02〜0.10である蒸着用材料を加熱方式で蒸発させて蒸着し、蒸着膜の珪素とビスマスの合計の原子数と、酸素の原子数の比{O/(Si+Bi)}が1.6〜1.9であり、ビスマスと珪素の原子数の比(Bi/Si)が0.02〜0.10である無機酸化物膜2を形成した。 (もっと読む)


161 - 180 / 2,704