【課題】良好なガスバリア性を示すガスバリア性フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のガスバリア性フィルムの製造方法は、ポリエステル基材の少なくとも一方の面にポリエステルとメラミンとが架橋してなる成分を含有する有機層が形成された有機層ポリエステル積層基材を準備する工程と、イオンプレーティングにより上記有機層に蒸発源材料を付着させて無機層を形成する工程と、を有するように構成して上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】PZT圧電体層をアーク放電イオンプレーティング（ADRIP）法によって形成する前に真空雰囲気下でウェハを加熱した場合、PZT圧電体層の絶縁破壊電圧が小さく、この結果、印加電圧を大きくできず、圧電アクチュエータの信頼性が低かった。
【解決手段】単結晶シリコン基板を熱酸化して酸化シリコン層を形成し、酸化シリコン層上にスパッタリング法によってTi密着層を形成し、引き続いて、Ti密着層上にスパッタリング法によってPt下部電極層を形成する。次に、ADRIP装置において、ADRIP本処理の前処理として酸素雰囲気において約500℃までウェハを加熱する。引き続き、同一ADRIP装置において、Pb蒸発源のPb蒸発量、Zr蒸発源のZr蒸発量及びTi蒸発源のTi蒸発量を制御してPbZr_xTi_1-xO₃の組成比Pb/(Zr+Ti)が1.2以下となるようにする。最後に、PZT圧電体層上にスパッタリング法によってPt上部電極層を形成する。 （もっと読む）

【課題】炭化珪素の半導体層の表面に発生するステップバンチングを抑制する。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、炭化珪素のエピタキシャル層１４にドーパントを導入するドーパント導入工程と、ＰＬＤ、ＦＣＶＡ法又はＥＣＲスパッタ法を利用してエピタキシャル層１４の表面にカーボン膜２４を形成するカーボン膜形成工程と、カーボン膜２４が残存した状態でエピタキシャル層１４をアニール処理するアニール処理工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】耐摩耗性皮膜システムを提供する。
【解決手段】本耐摩耗性皮膜システム（３０）は、ガスタービンエンジンの高温構成要素（２２、２４）を含む組立体（２０）の表面（２６、３２）のような、高温における接触摩耗を受ける表面（２６、３２）を保護するのに適している。構成要素（２２、２４）は、互いに摩耗接触状態になった表面（２６、３２）を有する。表面の１つ（２６）は、他方の構成要素（２４）の表面（３２）と摩耗接触状態になるようになった耐摩耗性皮膜システム（３０）をその上に有する。本耐摩耗性皮膜システム（３０）は、ＴｉＡｌＮ及びＣｒＮの交互層を含む。 （もっと読む）

【課題】厚さ５〜２０ｎｍの銀を含む金属薄膜からなり、抵抗率が低く且つ透過率が高い透明導電薄膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板にイオンボンバード処理を施した後、この透明基板上にイオンプレーティングにより厚さ５〜２０ｎｍ、好ましくは厚さ５〜１０μｍの銀を含む金属薄膜を蒸着させて、抵抗率が１０^−４Ω・ｃｍ以下であり、波長３００ｎｍおよび５００ｎｍの光の透過率が７０％以上、好ましくは８０％以上である透明導電薄膜を製造する。 （もっと読む）

【課題】銀を含む金属薄膜からなり、抵抗率が低く且つ透過率が高い透明導電薄膜を提供する。
【解決手段】厚さ５〜２０ｎｍの銀を含む金属薄膜からなり、体積抵抗率が１０^−４Ω・ｃｍ以下であり、波長３００ｎｍと波長５００ｎｍとピーク波長のいずれかの光の透過率が７０％以上である。波長７００ｎｍおよび８００ｎｍの少なくとも一方の光の透過率が６０％以上であるのが好ましく、ピーク波長の光の透過率が８０％以上であるのが好ましい。金属薄膜は、銅、亜鉛およびインジウムからなる群から選ばれる１種以上を含むのが好ましく、金属薄膜中の銅、亜鉛およびインジウムからなる群から選ばれる１種以上の含有量が１０体積％以下であるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】様々な材料からなる基材表面を改質することができる表面改質方法及び装置を提供する。
【解決手段】セラミックスから溶出された無機材料を含む粒子が生成された処理溶液３を電解して粒子を帯電させた後、基材１表面に付与して乾燥させることで無機材料を固着させる。無機材料が固着した基材１表面は、親水性、防汚染性、反射防止特性といった様々な特性を備えるように改質処理される。例えば、ホウ酸シリカ水を電解してステンレス板の表面に電着させてシリカ等の無機材料を固着させることで、親水性及び防汚染性を有するように改質処理することができる。 （もっと読む）

【課題】透明性及びガスバリア性に優れた薄膜の形成に好適な蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シートを提供する。
【解決手段】第１酸化物粉末と第２酸化物粉末とを混合して作られた蒸着材において、
第１酸化物粉末がＳｉＯ₂粉末であって、第１酸化物粉末の第１酸化物純度が９８％以上であり、第２酸化物粉末がＺｎＯ、ＭｇＯ及びＣａＯからなる群より選ばれた１種の粉末又は２種以上の混合粉末であって、第２酸化物粉末の第２酸化物純度が９８％以上であり、蒸着材が第１酸化物粒子と第２酸化物粒子を含有するペレットからなり、蒸着材中の第１酸化物と第２酸化物とのモル比が５〜８５：９５〜１５であり、かつ、ペレットの塩基度が０．１以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板の処理に好適なプラズマ源を提供すること。
【解決手段】基板を処理するための直線形状のプラズマ源であって、 内部にマグネトロンプラズマが生成される放電キャビティであるとともに、内面上に配置されたカソード電極（１６）上にマグネトロンプラズマが生成され、アノード電極が放電キャビティの外部に配置されている、放電キャビティと；放電キャビティの外部に配置された複数の磁石（１，２）であるとともに、放電キャビティ内に無磁界ポイントを形成する、複数の磁石と；を具備し、処理の一様性が、プラズマに対して基板を移動させることにより、あるいは、基板に対してプラズマを移動させることにより、得られている。 （もっと読む）

【課題】静電容量センサの動作不良の発生を防ぎかつ少量生産時における生産効率向上を図ることが可能な金属調加飾シート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の金属調加飾シート３０は、基礎樹脂フィルム３１と、プライマー層３２と、金属層３３と、ホットメルト接着剤層３５と、透明樹脂フィルム３６とを順番に積層した構造になっている。そして、金属層３３は、複数の金属体３３Ａが互いに分離した状態で散在する金属体散在構造になっている。これにより、金属層３３全体が１枚の連続した導電体ではなくなり、金属調加飾シート３０にて車両用ドアハンドル１０の外面を覆っても、静電容量センサ１５の動作不良の発生が防がれる。また、ホットメルト接着剤を用いたので、少量生産を行う場合には、液状の接着剤を用いる場合と比較して接着工程に要する時間を短縮することができ、生産効率の向上を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであり、耐摩耗性に優れた硬質皮膜形成部材および硬質皮膜の形成方法を提供する。
【解決手段】基材１上に硬質皮膜４を備えた硬質皮膜形成部材１０であって、硬質皮膜４は、組成がＴｉ_ａＣｒ_ｂＡｌ_ｃＳｉ_ｄＹ_ｅ（Ｂ_ｕＣ_ｖＮ_ｗ）（ただし、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｕ、ｖ、ｗは所定量の原子比）を満足するＡ層２と、組成がＴｉ_ｆＣｒ_ｇＡｌ_ｈ（Ｂ_ｘＣ_ｙＮ_ｚ）（ただし、ｆ、ｇ、ｈ、ｘ、ｙ、ｚは所定量の原子比）を満足するＢ層３とを備え、Ａ層２とＢ層３が交互に積層され、前記Ａ層と前記Ｂ層の１組の積層構造を１単位としたときに、この１単位の厚さが、１０〜５０ｎｍであり、かつ硬質皮膜４の膜厚が１〜５μｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】透明性及びガスバリア性に優れた薄膜の形成に好適な蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シートを提供する。
【解決手段】第１酸化物粉末と第２酸化物粉末とを混合して作られた蒸着材において、第１酸化物粉末がＭｇＯ粉末であって、第１酸化物粉末の第１酸化物純度が９８％以上であり、第２酸化物粉末がＣａＯ及びＺｎＯの混合粉末であって、第２酸化物粉末の第２酸化物純度が９８％以上であり、蒸着材が第１酸化物粒子と第２酸化物粒子を含有するペレットからなり、蒸着材中の第１酸化物と第２酸化物とのモル比が５〜９０：９５〜１０であり、かつ、ペレットの塩基度が０．１以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 切刃における被覆層のチッピングや剥離を抑制できるとともに耐溶着性を向上した切削工具を提供する。
【解決手段】 棒状で、外周に切刃２と、切刃２よりも内側に凹んだ位置に形成される切屑排出溝３とを備えた基体４の表面に１層以上の被覆層５を被覆してなり、切刃２の表面には基体４の全周にわたって被覆される第１被膜層５ａに加えて基体４側に別途第２被覆層４ｂが形成されているツイストドリル１等の回転工具である。 （もっと読む）

【課題】プラズマＣＶＤ成膜を良好に行うために適切な位置で静電気除去を行うことができるプラズマＣＶＤ成膜装置を提供する。
【解決手段】長尺の基材１００を連続的に搬送しながら、該基材１００上に連続的に成膜するプラズマＣＶＤ成膜装置１において、基材１００を巻き掛けて搬送する第１成膜ロール６１と、第１成膜ロール６１と対向して配置された第２成膜ロール６２と、第１成膜ロール６１に巻き掛けた基材１００の第２成膜ロール６２に面する面を基材の成膜面１００ａとして、成膜面１００ａに帯電する静電気を除去する静電気除去装置と、を備え、第１成膜ロール６１と第２成膜ロール６２との間隙は、成膜面１００ａ上にプラズマＣＶＤ成膜を行う成膜空間であり、静電気除去装置は、成膜空間に対し、基材１００の搬送方向の上流側に設けられた第１静電気除去装置８１を含む。 （もっと読む）

【課題】材料の蒸発速度とプラズマ密度を自由に設定し、成膜速度に対するガスバリア性を自由に設定出来、酸素バリア性および水蒸気バリア性に優れた、透明、もしくは半透明なガスバリア性フィルムを作成し、それを用いた加熱殺菌用包装材料を提供する。
【解決手段】ガスバリアフィルム（１０，１１）、接着層（１３）、ナイロンフィルム（１４）、接着層（１５）およびヒートシール性樹脂（１６）がこの順で積層された加圧加熱殺菌用包装材料であって、前記ガスバリアフィルムが、プラスチックフィルム（１０）上に蒸着手段を用いた蒸着法によりセラミック層（１１）を形成させてなり、その際、前記蒸着手段とは別に高密度プラズマを発生させる手段を併せて用いることを特徴とする加圧加熱殺菌用包装材料。 （もっと読む）

【課題】キッカーの設定を容易、確実に行うことができ、キッカーによる被駆動輪のキックミス発生が抑制でき、膜形成対象物品の処理量を増大できる膜形成対象物品の支持装置を提供する。
【解決手段】この支持装置２は、回転駆動されるテーブル３０と、テーブル３０に立設され、テーブル３０の回転に伴いテーブル３０の回転中心線のまわりを円運動する複数本の外側パイプ１０２と、各外側パイプ１０２に沿って複数段に配置され、テーブル３０の回転に連動して外側パイプ１０２を中心に回転する小テーブル１０３と、各小テーブル１０３に傾斜するように立設され、小テーブル１０３の回転に伴い外側パイプ１０２のまわりを円運動する複数のホルダ１０４と、外側パイプ１０２が回転しても回転しない内側パイプ１０５に設けられ、ホルダ１０４と連動回転するギヤに接触してホルダ１０４を回転させるキッカーとを含む。 （もっと読む）

【課題】透明性及びガスバリア性に優れた薄膜の形成に好適な蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シートを提供する。
【解決手段】第１酸化物粉末と第２酸化物粉末とを混合して作られた蒸着材において、上記第１酸化物粉末がＺｎＯ粉末であって、この第１酸化物粉末の第１酸化物純度が９８％以上であり、上記第２酸化物粉末がＣａＯ粉末であって、この第２酸化物粉末の第２酸化物純度が９８％以上であり、蒸着材が第１酸化物粒子と第２酸化物粒子を含有するペレットからなり、蒸着材中の第１酸化物と第２酸化物との比率が５〜８５：９５〜１５であり、かつ、ペレットの塩基度が０．１以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 被蒸着体にカーボン粉を用い、蒸着材としてシリコンを付着することで、カーボン粉上に均一に所定のシリコンナノ粒子を均一に付着させることができる。微粒子形成装置を提供する。
【解決手段】 攪拌容器７３に収納された担持体であるカーボン粉（被蒸着体７）を攪拌しながらナノ粒子（蒸着体）のプラズマを上から照射し、カーボン粉表面に触媒金属を担持させる。この過程で、スタンプ８５のアーム部８９は、攪拌容器７３の回転に連動して、上部開口部の縁部９０の斜めに切りかけたスロープを登る。そして、最終上段まで上がったときに、段差９０ｃで低い段差に急激に落とされて、その下部にあった被蒸着体７の塊を粉砕する。また、蒸着材料のシリコンは電気を通さないといけないため比抵抗は０．１Ωｃｍ以下に保たないといけない。 （もっと読む）

【課題】部品組付け性およびコスト面での改良がなされたプラズマガンを提供する。
【解決手段】第１中間電極21および第２中間電極22の第１電極取付基体26および第２電極取付基体27において、それらの各胴部29，29の外周面に環状の第１磁石35および第２磁石36をそれぞれ嵌着する。第１中間電極21と第２中間電極22との間に配置された絶縁部材23は、第１磁石35と第２磁石36との間に位置する絶縁本体部37から第１被嵌部38および第２被嵌部39を軸方向に一体に突設し、これらの第１被嵌部38および第２被嵌部39を第１磁石35および第２磁石36の外周面上にそれぞれ被嵌する。そして、第１電極取付基体26および第２電極取付基体27の各フランジ部28，28を締結部材25で相互に締結する。 （もっと読む）

【課題】剥離の進展が抑制された状態のＤＬＣ膜より構成される硬質層がより簡便に形成できるようにする。
【解決手段】基材１０１の粗面とされた表面１０２と、表面１０２に形成されたダイアモンドライクカーボンからなる硬質層１０３とを備える。また、表面１０２の算術表面粗さが０．２から０．４の範囲とされ、硬質層１０３は、層厚１〜３μｍの範囲とされている。粗面は、例えば、サンドブラストなどのブラスト処理による加工や、バフ研磨などの粗研磨により形成することができる。硬質層１０３は、基材１０１の表面１０２の上に、よく知られたＰＶＤ法によりＤＬＣ膜を形成すればよい。例えば、ＤＬＣ膜は、黒鉛をターゲットとしたイオンプレーティング法やスパッタリング法により形成できる。 （もっと読む）