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Fターム[4K029CA09]の内容

物理蒸着 (93,067) | 被覆処理方法 (12,489) | イオンビームミキシング (262) | 蒸着とイオンビーム照射の併用 (154)

Fターム[4K029CA09]に分類される特許

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【課題】大気中において、これまでに比べてより低い摩擦係数を確保することができる摺動部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基材の表面に、窒素を含有した非晶質炭素被膜を成膜する摺動部材の製造方法である。この方法では、基材表面に向けて窒素イオンビームを照射すると共に、非晶質炭素被膜の表面に、複数の突起部が形成されるように、カーボンターゲットに電子ビームを照射することにより、カーボンターゲットの一部を基材の表面に蒸着させながら非晶質被膜を成膜する。 (もっと読む)


【課題】本件発明の課題は、プラスチック光学部品の表面に対する密着性に優れ、広い波長領域の光に対して優れた反射防止性能を有するプラスチック光学部品の反射防止膜及びプラスチック光学部品の反射防止膜の製造方法を提供することである。
【解決手段】上記課題を解決するため、反射防止膜を、プラスチック光学部品基材上に設けられ、有機系ケイ素化合物を用いて形成された応力緩和層と、当該応力緩和層上に、高屈折率層と、有機系ケイ素化合物を用いて形成される低屈折率層とを当該順序で積層した二層を一組の反射防止ペア層として、当該反射防止ペア層を少なくとも二組積層した構造を有する反射防止構造体とを備える構成とする。 (もっと読む)


【課題】実用に耐えうる耐摩耗性を備えた撥油性膜を持つ撥油性基材を製造することができる成膜方法を提供する。
【解決手段】前照射工程、第1の成膜工程、後照射工程及び第2の成膜工程を順次有する。前照射工程では、基板101の表面にエネルギーを持つ粒子を300〜600秒の照射時間で照射する。第1の成膜工程では、前照射工程後の基板101の粒子照射面にイオンビームを用いたイオンアシスト蒸着法によって第1の膜103を3nm以上の厚みで成膜する。後照射工程では、基板101に成膜された第1の膜103にエネルギーを持つ粒子を照射する。これにより第1の膜103の厚みを0.1〜500nmとし、かつ第1の膜103の表面に特定の表面特性を満足する凹凸を形成させる。第2の成膜工程では、後照射工程後の第1の膜103の凹凸面に撥油性を有する第2の膜105を成膜する。 (もっと読む)


【課題】簡単な構成で蒸着物質の収率を向上できる蒸着装置を提供すること。
【解決手段】
プラスチックレンズ上に蒸着物質を蒸着する蒸着装置であって、上面に開口した凹部912を備える筐体と、凹部912に設けられた蒸着源92と、筐体の上面911A,913Aに接触するとともに、スライド可能に取り付けられ、かつ蒸着源92を覆う補正板93とを、備え、筐体は、蒸着源92とともに補正板93を加熱するハロゲンランプ94を内部に設けられたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】幅方向における膜厚分布・膜質分布を均一にすることができる成膜装置を提供する。
【解決手段】本発明の成膜装置は、被処理対象を走行させる搬送手段と、被処理対象の走行方向に対して直交する方向に沿うように、被処理対象の成膜面に対向して設けられたライン状の蒸着原料と、蒸着原料を溶融するための複数の電子ビーム装置23と、蒸着原料からの蒸着粒子を活性化させるイオンビームを放出する複数の第1イオンソース31とを備える。 (もっと読む)


【課題】面内方向における膜厚分布・膜質分布を均一にすることができ、かつ、成膜材料を交換するために成膜を一時的に停止せずに成膜できる成膜装置を提供する。
【解決手段】被処理対象を走行させる搬送手段と、被処理対象の走行方向に対して直交する方向に沿うように設けられたライン状の一以上の蒸着原料と、蒸着原料を溶融し、走行方向に対して直交する方向に列設される電子ビーム装置と、蒸着原料にイオンビームを照射し、走行方向に対して直交する方向に列設されるイオンソースとを備え、蒸着原料を支持する支持部材24と、蒸着原料を昇降させる昇降部材25とを備える。 (もっと読む)


【課題】耐水性等の諸性能が良好な反射防止層、および反射防止層を備えたレンズなどの光学物品を提供する。
【解決手段】レンズ10は、n+1層の低屈折率層31とn層(nは2以上の整数)の高屈折率層32から構成される反射防止層3を含む。低屈折率層31と高屈折率層32とが交互に積層され、複数の高屈折率層32のうちの少なくとも1層は酸化ジルコニウムを主成分とする第1の蒸着源のみを用いて蒸着形成された第1タイプの層であり、その他の高屈折率層32は酸化チタンを主成分とする第2の蒸着源のみを用いて蒸着形成された第2タイプの層である。複数の低屈折率層31はそれぞれ酸化シリコンを主成分とする第3の蒸着源のみを用いて蒸着形成された第3タイプの層である。 (もっと読む)


【課題】防塵性能の高い光学物品を提供する。
【解決手段】基板1の上に複数層からなる無機薄膜2を有する防塵ガラス10であって、無機薄膜2は、複数の酸化ケイ素層2Aと、複数の金属酸化物の層2Bと、が積層され、金属酸化物は、ジルコニウム、タンタルまたはチタンのいずれかを含んだ金属酸化物であり、酸化ケイ素の層2Aには、低密度の酸化ケイ素層と、この低密度の酸化ケイ素層より密度の高い高密度の酸化ケイ素層とがあり、無機薄膜2の最表層2Sは、低密度の酸化ケイ素層であり、無機薄膜2の最表層2Sの表面粗さは0.55nm以上0.70nm以下である。 (もっと読む)


【課題】水蒸気バリア性能に優れ、クラック発生が抑制された反射防止膜を提供すること。
【解決手段】基材上に、少なくともSiOを含有する層を含む低屈折率層と、高屈折率層とを有する反射防止膜において、SiOを含有する層の少なくとも1層をイオンアシスト法により蒸着成膜する。 (もっと読む)


【課題】例えばより抵抗が低く透過率の高いITO薄膜のような透明導電膜を、樹脂フィルムの軟化点以下の温度で比較的低コストに均一かつ高速度で成膜する。
【解決手段】真空容器1内の上部に、成膜ローラ10に巻回された樹脂フィルムFがその被成膜面Sを下向きにして配設するとともに、真空容器1内の下部には、蒸着材料を電子ビームガン4によって蒸発させる蒸発源5と、この蒸発源5において蒸発させられた蒸着材料の材料蒸気Aに向けてプラズマBを照射するプラズマ放出源7とを、被成膜面Sに対向するように配置し、このうちプラズマ放出源7を、成膜ローラ10の軸線Oを含んで鉛直方向に延びる仮想平面Rから間隔をあけて配設する。 (もっと読む)


【課題】帯電防止性およびその耐久性の良好な第1の層を含む光学物品を提供する。
【解決手段】光学物品は、光学基材と、光学基材の上に直にまたは他の層を介して形成された、TiOx(0<x≦2)を含む透光性の第1の層とを有する。この光学物品においては、第1の層の表層域のアルゴン濃度は第1の層の深部のアルゴン濃度よりも高い。この光学物品の一例は、第1の層を表面から深さ方向に二次イオン質量分析した際のスペクトルにおいてアルゴンのピークが表層域にあるものである。この光学物品は、たとえば、眼鏡レンズに好適である。 (もっと読む)


【課題】低コストで、かつ、高品質な酸化物半導体ターゲットを形成することのできる技術を提供する。
【解決手段】薄膜トランジスタのチャネル層を構成する酸化物半導体の製造に使用する亜鉛錫複合酸化物(ZTOターゲット)の製造工程において、意図的に原材料にIV族元素(C、Si、Ge)またはV族元素(N、P、As)を添加することによって、ZTOターゲットの製造工程時に混入されたIII族元素(Al)による過剰キャリアを抑制し、良好な電流(Id)−電圧(Vg)特性を有する薄膜トランジスタを実現する。 (もっと読む)


【課題】蒸着時の蒸着対象物の温度を正確かつ精密に取得することのできる蒸着温度計測装置、及びこれを用いた蒸着装置を提供することを目的とする。
【解決手段】受熱量に応じた検出信号を出力する温感素子と、温感素子からの出力信号を記録する記憶部と、を含む電子温度センサと、蒸着面に貫通孔の設けられた基板と、を備え、基板の貫通孔内に電子温度センサを配設した蒸着温度計測装置とする。また、この蒸着温度計測装置をコートドームに配設した蒸着装置とする。 (もっと読む)


【課題】カルコゲナイドガラスに対して密着性が良好であり、かつ耐候性が良好な赤外線用の反射防止膜を提供する。
【解決手段】硫黄やセレン,テルルを主成分としたいわゆるカルコゲナイドガラスからなる基材12の表面に反射防止膜13を設ける。反射防止膜13は、基材12側から順に、第1薄膜16と第2薄膜17を備える。第1薄膜16は、酸化ビスマス(Bi)からなる。第2薄膜17は、フッ化イットリウム(YF)からなる。 (もっと読む)


【課題】Roll To Roll方式で、基材の搬送速度を非常に速い条件に設定しても、基材上に絶縁性の高品質な薄膜を成膜することが可能な蒸着フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】蒸発源から蒸発させた珪素を含む蒸着材料に向けて、プラズマガンにより出力が3KWから12KWの範囲内でArプラズマを照射して、基材の被成膜面に上記蒸着材料よりなる酸化珪素を含む薄膜を成膜する。これにより、基材の搬送速度を10m/分以上200m/分以下の非常に速い条件に設定しても、基材上に絶縁性の高品質な薄膜を成膜することができる。 (もっと読む)


【課題】Roll To Roll方式で、基材の搬送速度を非常に速い条件に設定しても、基材上に絶縁性の高品質な薄膜を成膜することが可能なプラズマアシスト付きの真空成膜装置を提供する。
【解決手段】真空容器内の上部に、成膜用ドラム13に巻き掛けられた基材11がその被成膜面110を下向きにして配設されるとともに、上記真空容器内の底部には、蒸着材料2を蒸発させる蒸着源17と、この蒸着源から蒸発した上記蒸着材料に向けてプラズマを照射するプラズマガンとが、上記被成膜面の下方に配置されており、上記プラズマガンは、上記基材の流れ方向に対して直交する方向から、上記被成膜面に向けて配置されている。これにより、薄膜形成前の基材の被成膜面に対してプラズマを照射する前処理、プラズマアシストによる成膜、基材に形成された薄膜に対してプラズマを照射する後処理が1台で逐次連続的に行える。 (もっと読む)


【課題】ウルツ鉱型結晶の面内配向薄膜の製造において、大面積で製造することができ、且つ装置に要するコストを抑えることができる方法及び装置を提供する。
【解決手段】真空容器11内にプラズマ生成ガスを導入し、真空容器11内に配置されたウルツ鉱型結晶のターゲットTをスパッタすることによる生成されたスパッタ粒子をターゲットTに対向して真空容器11内に配置された基板ホルダ15に取り付けられた基板Sに堆積させることにより薄膜を製造する際に、基板ホルダ15と真空容器11の壁の間に高周波電圧を印加する。これにより、基板Sの表面においてプラズマシースが形成され、プラズマ生成ガスが電離して生じる陽イオンの量を増加させると共に、このプラズマシースによって陽イオンが加速され、十分なエネルギーをもって成膜中の薄膜に入射するため、ウルツ鉱型結晶の最密面が基板に平行に成長しにくくなる。その結果、全体としてウルツ鉱型結晶のc軸が面内方向に配向した面内配向薄膜を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】 十分に静電耐性を有する圧電デバイス(50)を提供する。
【解決手段】 圧電デバイス(50)はパッケージ(PKG)内に圧電振動片(20)を収納するものである。そして圧電デバイスは、第1面と第2面とを有し、圧電振動片を第1面に載置するとともに静電気保護回路が形成された台座(60)と、パッケージ内に形成され台座の第2面と接続する内部電極(59)と、を備える。台座(60)の第1面には、圧電振動片の電極と接続する第1パット(71)が形成され、台座の第2面には、内部電極と接続する第2パット(72)及び静電気を拡散する第3パッド(74)が形成され、台座には第1パッドと第2パッドとを接続する配線(73)が形成されている。 (もっと読む)


【課題】多孔質基材上にイオン伝導膜を形成してなるイオン伝導性膜材を製造する方法であってイオン伝導性がより一層向上し得る優れたイオン伝導性膜材の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明により提供されるイオン伝導性膜材の製造方法は、少なくとも金属成分を含む無機多孔質基材と、該多孔質基材上に形成された所定の結晶配向性を有するイオン伝導膜とを備えるイオン伝導性膜材を製造する方法であり、上記金属成分の酸化物を含む緻密な基材を用意すること、上記緻密な基材上にイオン伝導膜を所定の方向に結晶配向させた状態で形成すること、および上記イオン伝導膜が形成された緻密な基材を還元処理して上記金属成分を酸化物状態から金属状態に還元することにより上記緻密な基材を多孔質化すること、を包含する。 (もっと読む)


【課題】帯電防止性および耐久性の良好な光学物品の製造方法を提供する。
【解決手段】光学基材1の上に、直にまたは他の層を介して透光性の第1の層を形成することと、第1の層の表面に、遷移金属カーバイド、遷移金属シリサイド、遷移金属ゲルマニドの少なくともいずれかを含む透光性薄膜33を物理的蒸着により形成することとを有する。透光性薄膜を物理的蒸着により形成することは、炭素、ケイ素、ゲルマニウムのいずれかを含む第1の化合物群に含まれる少なくとも1種を含む第1の気体をイオン化することを含む。 (もっと読む)


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