【課題】熱拡散器を用いた物理蒸着装置及び方法を提供する。
【解決手段】物理蒸着装置は、側壁を有する真空チャンバと、真空チャンバの内側にあって、スパッタリングターゲットを含むように構成されたカソードと、カソードに電力を供給するように構成された高周波電力源と、真空チャンバの側壁の内側にあって、側壁と電気的に接続されたアノードと、真空チャンバの側壁の内側にあって、側壁から電気的に絶縁されていて、基板１１６を支持するように構成されたチャック１１０と、チャック上に支持された基板を加熱するヒータ６０１と、を含む。チャックは、チャック本体６０５と、チャック本体上に支持されていて、基板と接触するように構成された、黒鉛熱拡散器と、を含む。 （もっと読む）

ペデスタル上に支持されたウエハにプラズマ処理を行うための装置および方法を提供する。本装置は、ウエハを支持することができるペデスタル、可変容量を有する可変コンデンサ、可変コンデンサのキャパシタンスを変える可変コンデンサに取り付けられたモータ、モータを回転させてモータに接続されたモータコントローラ、およびペデスタルに接続された可変コンデンサからの出力部を含むことができる。可変コンデンサの所望の状態は、プロセスコントローラにおける処理方策に関連づけられている。処理方策が実行されると、可変コンデンサは所望の状態に置かれる。
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【課題】Ｔｉ合金、ステンレス鋼等の難削材の高速高送り切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐熱性および耐溶着性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に硬質被覆層を形成してなる表面被覆切削工具において、前記硬質被覆層が、（ａ）組成式：（Ｔｉ_1−αＡｌ_α）Ｎあるいは組成式：（Ｔｉ_1−α−βＡｌ_αＭ_β）Ｎ（但し、Ｍは、Ｔｉを除く周期律表４ａ，５ａ，６ａ族の元素、Ｓｉ、Ｂ、Ｙのうちから選ばれた１種又は２種以上の添加成分を示し、原子比で、０．４５≦α≦０．７５、０．０１≦β≦０．２５）を満足するＴｉとＡｌ（とＭ）の複合窒化物層からなるＴｉＡｌ（Ｍ）Ｎ薄層、（ｂ）組成式：（Ｖ_１−γＹ_γ）Ｎ（但し、原子比で、０．０１≦γ≦０．１）を満足するＶとＹの複合窒化物層からなるＶＹＮ薄層、前記（ａ）、（ｂ）の交互積層からなることを特徴とする表面被覆切削工具。 （もっと読む）

【課題】Ｔｉ合金、ステンレス鋼等の難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐熱性及び耐溶着性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に硬質被覆層を形成してなる表面被覆切削工具において、該硬質被覆層は、組成式：（Ｖ_１−γＹ_γ）Ｎ（但し、原子比で、０．０１≦γ≦０．１）を満足するＶとＹの複合窒化物層の単層から構成するか、または、組成式：（Ｔｉ_1−αＡｌ_α）Ｎで表されるＴｉとＡｌの複合窒化物層からなる下部層、あるいは、組成式：（Ｔｉ_1−α−βＡｌ_αＭ_β）Ｎで表されるＴｉとＡｌとＭの複合窒化物層からなる下部層（但し、Ｍは、Ｔｉを除く周期律表４ａ，５ａ，６ａ族の元素、Ｓｉ、Ｂ、Ｙのうちから選ばれた１種又は２種以上の添加成分を示し、原子比で、０．４５≦α≦０．７５、０．０１≦β≦０．２５）と上記（Ｖ_１−γＹ_γ）Ｎ層からなる上部層との２層構造として構成する。 （もっと読む）

【課題】高硬度難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐熱性および耐溶着性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に、（ａ）組成式：（Ａｌ_1−α−βＣｒ_αＭ_β）Ｎ（但し、Ｍは、Ａｌを除く周期律表４ａ，５ａ，６ａ族の元素、Ｓｉ、Ｂ、Ｙのうちから選ばれた１種又は２種以上の添加成分を示し、原子比で、０．４５≦α≦０．７５、０．０１≦β≦０．２５）を満足するＡｌとＣｒ（とＭ）の複合窒化物層からなる下部層、（ｂ）組成式：（Ｖ_１−γＹ_γ）Ｎ（但し、原子比で、０．０１≦γ≦０．１）を満足するＶとＹの複合窒化物層からなる上部層、以上（ａ）、（ｂ）で構成された硬質被覆層を形成してなる表面被覆切削工具。 （もっと読む）

本願は、複合Ａｌ−Ｃｒターゲットの反応性陰極アーク蒸発、ならびに、合成されたＡｌ−Ｃｒ−Ｏ層の核形成および相形成に関する。酸素分圧およびアーク電流のパルス動作が、ターゲット表面での金属間相および固溶体の形成に影響を及ぼす。基板箇所での三元酸化物の核形成は、ターゲット表面に形成された金属間化合物または固溶体によってある程度制御可能であるように思われる。したがって、基板箇所での特定の核形成プロセスは、酸素反応性ガスの分圧と組合せてターゲット組成を自由に選択できることによって引き起こされ得る。それはまた、酸素分圧がより高い状態で時折生じるターゲット表面での酸化物アイランドの成長に対する制御も可能にする。これは、層およびターゲット表面のＸ線回折分析によって立証される。 （もっと読む）

【課題】耐摩耗性、耐欠損性、および密着性を兼ね備えた被覆膜を表面に有する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】本発明の表面被覆切削工具は、基材とその上に形成された被覆膜とを備え、該被覆膜は、１μｍ以上１５μｍ以下の膜厚でありかつＡｌ_aＴｉ_bＳｉ_cＭ_dＮ（式中、０．３５≦ａ≦０．７、０＜ｃ≦０．１、０＜ｄ≦０．３）からなるＡ層と、Ｔｉ_eＳｉ_fＭｅ_gＮ（式中、０＜ｆ≦０．１、０＜ｇ≦０．３）からなるＢ層とが交互に各２層以上積層された積層体を含み、式中ＭおよびＭｅは、Ｖ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｈｆ、Ｔａ、およびＷからなる群より選ばれる１種以上の元素を示し、Ａ層およびＢ層はそれぞれ、２０ｎｍ以下の層厚であり、Ａ層を構成するＳｉの原子比ｃと、Ｂ層を構成するＳｉの原子比ｆとは、以下の式（Ｉ）を満たすことを特徴とする。
｜ｃ−ｆ｜≦０．０５ ・・・（Ｉ） （もっと読む）

【課題】Ｎｉ基合金、Ｃｏ基合金などの耐熱合金の高速切削条件下で、硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体表面に、１〜５０ｎｍの層厚の薄層Ａと１〜５０ｎｍの層厚の薄層Ｂとが交互に積層された複層領域と、１００〜５００ｎｍの層厚の単一層にて構成された単層領域との交互積層構造からなる硬質被覆層を蒸着形成した表面被覆切削工具において、薄層Ａは、［Ｔｉ_１−ＸＳｉ_Ｘ］Ｎ（Ｘは原子比で０．０１〜０．３０）層、薄層Ｂは、［Ｔｉ_１−ＹＶ_Ｙ］Ｎ（Ｙは原子比で０．４０〜０．７０）層であって、単一層は、上記薄層Ａまたは薄層Ｂと同一種の層で構成する。 （もっと読む）

【課題】実用可能な耐湿性と、透明導電膜として必要な特性を備え、しかも経済性に優れた、ＺｎＯ系の透明導電膜を提供する。
【解決手段】ＺｎＯにIII族元素酸化物をドーピングして基体上に成長させた透明導電膜において、ＺｎＯ（００２）ロッキングカーブ半値幅が１３．５°以上であるようにする。
III族元素酸化物のドーピング量を、透明導電膜中のIII族元素酸化物の割合が７〜４０重量％となるように、ＺｎＯにIII族元素酸化物をドープさせる。
透明導電膜を、ＳｉＮｘ薄膜を介して、基体上に形成する。
基体にバイアス電圧を印加しながら、薄膜形成方法により基体上に透明導電膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】密着性が良好でｃ−ＢＮ相を高い割合で有する極めて実用性に秀れた窒化ホウ素皮膜の提供。
【解決手段】ｃ−ＢＮ相を含む窒化ホウ素皮膜であって、ｃ−ＢＮ相の平均結晶粒径が５〜１００ｎｍであり、各々の結晶の周りが厚さ１〜２０ｎｍのｓｐ^２結合相で囲まれた組織を有する窒化ホウ素皮膜。 （もっと読む）

【課題】２層構造を有する硬質皮膜層１、２において、硬質皮膜層１は残留圧縮応力により亀裂の伝播抑制を図り、硬質皮膜層２は残留圧縮応力の低減化により厚膜化を可能とし、基材との密着強度を改善して硬質皮膜被覆切削工具の長寿命化を図る。
【解決手段】超硬合金を基材とする切削工具に硬質皮膜を被覆した硬質皮膜被覆切削工具において、表面側に硬質皮膜層１、基材側に硬質皮膜層２が被覆され、硬質皮膜層１は（Ａｌ_ａＣｒ_１−ａ）Ｎ_ｘ、但し、０．５≦ａ≦０．７５、０．９≦ｘ≦１．１であり、硬質皮膜層２は（Ｔｉ_ｂＡｌ_１−ｂ）Ｎ_ｙ、但し、０．４≦ｂ≦０．６、０．９≦ｙ≦１．１であり、Ｘ線回折における硬質皮膜層１の（１１１）面の格子定数をａ１（ｎｍ）、硬質皮膜層２の（２００）面の格子定数をａ２（ｎｍ）としたとき、０．９９０≦ａ１／ａ２≦０．９９９であることを特徴とする硬質皮膜被覆切削工具。 （もっと読む）

【課題】Ｎｉ基合金、Ｃｏ基合金などの耐熱合金の高速切削条件下で、硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性、耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体表面に、１〜５０ｎｍの層厚の薄層Ａと１〜５０ｎｍの層厚の薄層Ｂとが交互に積層された複層領域と、１００〜５００ｎｍの層厚の単一層にて構成された単層領域との交互積層構造からなる硬質被覆層を蒸着形成した表面被覆切削工具において、薄層Ａは、［Ａｌ_{１−Ｘ−Ｙ}Ｔｉ_ｘＳｉ_Ｙ］Ｎ（Ｘは原子比で０．１５〜０．９４、Ｙは原子比で０．０１〜０．１５）層、薄層Ｂは、［Ａｌ_１−ＺＣｒ_Ｚ］Ｎ（Ｚは原子比で０．３０〜０．８０）層であって、単一層は、前記薄層Ａまたは薄層Ｂと同一材種の層で構成する。 （もっと読む）

【課題】耐摩耗性、耐欠損性、および密着性を兼ね備えた被覆膜を表面に有する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】本発明の表面被覆切削工具は、基材とその上に形成された被覆膜とを備え、該被覆膜は、１μｍ以上１５μｍ以下の膜厚であり、かつＡｌ_aＴｉ_bＳｉ_cＮ（ただし式中、０．３５≦ａ≦０．７、０＜ｃ≦０．１、ａ＋ｂ＋ｃ＝１）からなるＡ層と、Ｔｉ_dＳｉ_eＮ（ただし式中、０＜ｅ≦０．１、ｄ＋ｅ＝１）からなるＢ層とが交互に各２層以上積層された積層体を含み、Ａ層およびＢ層はそれぞれ、２０ｎｍ以下の層厚であり、Ａ層を構成するＳｉの原子比ｃと、Ｂ層を構成するＳｉの原子比ｅとは、以下の式（Ｉ）を満たすことを特徴とする。
｜ｃ−ｅ｜≦０．０５ ・・・（Ｉ） （もっと読む）

【課題】連続鋳造機のガイドロール用軸受等のように、高荷重、低速回転であって、冷却水が内部に混入し易い環境で使用した場合でも、軌道面や転動面に摩耗や剥離が生じにくい自動調心ころ軸受を提供する。
【解決手段】自動調心ころ軸受のころ３の転動面に、ヤング率が１５０ＧＰａ以上２２０ＧＰａ以下であるダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）膜を形成する。このＤＬＣ膜の表面に存在する、直径が１０μｍ以上で深さが１μｍ以上の凹状欠陥を、面積率で０．１％以下にする。 （もっと読む）

【課題】２層構造を有する硬質皮膜層１、２において、硬質皮膜層１は結晶組織の微細粒状化と密着強度の改善を図り、硬質皮膜層２は結晶組織の粒状化と高硬度化による耐摩耗性の改善を図って硬質皮膜被覆切削工具の長寿命化を実現する。
【解決手段】超硬合金を基材とする切削工具に硬質皮膜を被覆した硬質皮膜被覆切削工具において、表面側に硬質皮膜層１、基材側に硬質皮膜層２が被覆され、硬質皮膜層１は（Ａｌ_ａＣｒ_１−ａ）_１−ｘＮ_ｘ、但し、０．５≦ａ≦０．７５、０．４５≦ｘ≦０．５５、硬質皮膜層２は（Ｔｉ_ｂＡｌ_１−ｂ）_１−ｙＮ_ｙ、但し、０．４≦ｂ≦０．６、０．４５≦ｙ≦０．５５、Ｘ線回折における硬質皮膜層１の（２００）面の格子定数をａ１（ｎｍ）、硬質皮膜層２の（１１１）面の格子定数をａ２（ｎｍ）としたとき、０．９８０≦ａ１／ａ２≦０．９９０であることを特徴とする硬質皮膜被覆切削工具である。 （もっと読む）

【課題】耐摩耗性、耐欠損性、および密着性を兼ね備えた被覆膜を表面に有する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】本発明の表面被覆切削工具は、基材とその上に形成された被覆膜とを備え、該被覆膜は、１μｍ以上１５μｍ以下の膜厚であり、かつＡｌ_aＴｉ_bＳｉ_cＭ_dＮからなるＡ層と、Ｔｉ_eＳｉ_fＭｅ_gＮからなるＢ層とが交互に各２層以上積層された積層体を含み、Ａ層およびＢ層はそれぞれ、２０ｎｍ以下の層厚であり、各Ａ層は、実質的に同一の層厚であり、各Ｂ層は、実質的に同一の層厚であり、Ａ層は、基材側から被覆膜の表面側にかけて連続的または段階的にＡｌの原子比が減少し、基材に最も近い側のＡ層を構成するＡｌの原子比をａ₁とし、被覆膜の表面に最も近い側のＡ層を構成するＡｌの原子比をａ₂とすると、ａ₁−ａ₂≧０．００５を満たすことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】耐摩耗性、耐欠損性、および密着性を兼ね備えた被覆膜を表面に有する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】本発明の表面被覆切削工具は、基材とその上に形成された被覆膜とを備え、該被覆膜は、１μｍ以上１５μｍ以下の膜厚であり、かつＡｌ_aＴｉ_bＳｉ_cＮ（ただし式中、０．３５≦ａ≦０．７、０＜ｃ≦０．１、ａ＋ｂ＋ｃ＝１）からなるＡ層と、Ｔｉ_dＳｉ_eＮ（ただし式中、０＜ｅ≦０．１、ｄ＋ｅ＝１）からなるＢ層とが交互に各２層以上積層された積層体を含み、Ａ層およびＢ層はそれぞれ、２０ｎｍ以下の層厚であり、各Ａ層は、実質的に同一の層厚であり、各Ｂ層は、実質的に同一の層厚であり、Ａ層は、基材側から被覆膜の表面側にかけて連続的または段階的にＡｌの原子比が減少し、基材に最も近い側のＡ層を構成するＡｌの原子比をａ₁とし、被覆膜の表面に最も近い側のＡ層を構成するＡｌの原子比をａ₂とすると、ａ₁−ａ₂≧０．００５を満たすことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】断続重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐欠損性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】ＷＣ基超硬合金製工具基体表面に０．２〜２μｍの平均層厚のＣｒＡｌＮ層（但し、その組成式を（Ｃｒ_１−ＸＡｌ_Ｘ）Ｎで表わした場合、Ｘは、原子比で、０．１０〜０．７０が望ましい）からなる硬質被覆層を物理蒸着で形成した表面被覆切削工具において、ＣｒＡｌＮ層は、平均層厚と等しい高さを有し、かつ、工具基体表面に対して直立方向に成長した縦長平板状のＣｒＡｌＮ結晶粒からなり、さらに、前記ＣｒＡｌＮ層の表面から０．１μｍの深さの水平断面における結晶粒組織を観察した場合、短辺が５〜１００ｎｍ、アスペクト比が３以上である前記縦長平板状のＣｒＡｌＮ結晶粒の占める面積割合が、全水平断面積の３０％以上である。 （もっと読む）

【課題】ウルツ鉱型結晶の面内配向薄膜の製造において、大面積で製造することができ、且つ装置に要するコストを抑えることができる方法及び装置を提供する。
【解決手段】真空容器１１内にプラズマ生成ガスを導入し、真空容器１１内に配置されたウルツ鉱型結晶のターゲットＴをスパッタすることによる生成されたスパッタ粒子をターゲットＴに対向して真空容器１１内に配置された基板ホルダ１５に取り付けられた基板Ｓに堆積させることにより薄膜を製造する際に、基板ホルダ１５と真空容器１１の壁の間に高周波電圧を印加する。これにより、基板Ｓの表面においてプラズマシースが形成され、プラズマ生成ガスが電離して生じる陽イオンの量を増加させると共に、このプラズマシースによって陽イオンが加速され、十分なエネルギーをもって成膜中の薄膜に入射するため、ウルツ鉱型結晶の最密面が基板に平行に成長しにくくなる。その結果、全体としてウルツ鉱型結晶のc軸が面内方向に配向した面内配向薄膜を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】離型剤の塗布をなくす方向への改善を可能とするために、高硬度性、密着性（金型に対するもの）、耐ヒートクラック性、耐圧性、耐熱性（耐酸化性）、耐食性（耐溶損性）、低濡れ性（耐溶着性）の特性を満足する鋳造金型表面用保護膜を提供すること。
【解決手段】金属基材表面に形成される保護膜本体を備え、その保護膜本体はCrAlN相とBN相とが三次元的に混じり合う複合膜であることを特徴とする鋳造金型表面用保護膜。又、その表面に向かうほどBN含有量率（vol％）が連続的に多くなる傾斜膜もしくは段階的に多くなる多層膜、又はこれらを組み合わせた膜である。 （もっと読む）