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Fターム[4K029CA13]の内容

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Fターム[4K029CA13]に分類される特許

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【課題】CrAlN/BNナノコンポジット被膜が高い付着強度で工具母材に設けられ、そのCrAlN/BNナノコンポジット被膜が有する優れた被膜性能が適切に得られるようにする。
【解決手段】Ala Tib Crc の窒化物または炭窒化物から成るI層22が工具母材12の表面上に設けられるとともに、そのI層22およびCrAlN/BNナノコンポジット被膜から成るII層26が交互に4層以上積層されて硬質被膜20が構成されているため、高い付着強度が得られる。I層22の層厚T2およびII層26の層厚T3は1nm〜50nmの範囲内で、総膜厚Ttotal は0.1μm〜20μmの範囲内であるため、II層26のCrAlN/BNナノコンポジット被膜が有する優れた被膜性能が適切に得られるとともに、層厚T2、T3が1nm〜50nmの極めて薄いナノレイヤー構造であるため、密着性が更に向上して40GPa以上の被膜硬さが得られるようになる。 (もっと読む)


【解決課題】 真空コーティング装置およびナノ・コンポジット被膜を堆積する方法を提供すること。
【解決手段】 真空チャンバ(31)と、少なくとも1対の対向カソード(1および4)と、この対向カソードにAC電圧を供給してこれをデュアル・マグネトロン・スパッタリング・モードで動作させる電源(8)とを備え、PVDコーティングのための少なくとも1のさらなるカソードが真空チャンバ内に提供された真空コーティング装置および方法は、少なくとも1のさらなるカソード(6および/または7)がマグネトロン・カソードとされ、マグネトロン・カソードまたはアーク・カソードに接続可能なパルス化電源またはDC電源の形態としてさらなる電源(42,44)が提供されている。 (もっと読む)


【課題】CrAlN/BNナノコンポジット被膜が高い付着強度で工具母材に設けられ、そのCrAlN/BNナノコンポジット被膜が有する優れた被膜性能が適切に得られるようにする。
【解決手段】Ala Tib Crc の窒化物または炭窒化物から成るI層22が工具母材12の表面上に設けられるとともに、CrAlN/BNナノコンポジット被膜から成るII層26が最表層となるように、それ等のI層22およびII層26が交互に2層以上積層されて硬質被膜20が構成されているため、高い付着強度が得られる。また、I層22およびII層26の層厚T1、T2は何れも50nmを超えており、且つ被膜全体の総膜厚Ttotal は0.1μm〜20μmの範囲内であるため、II層26を構成しているCrAlN/BNナノコンポジット被膜が有する優れた被膜性能が適切に得られ、高負荷時の工具寿命が向上するとともに、溶着が抑制されることで加工面粗さが向上する。 (もっと読む)


【課題】水素フリーで緻密で硬質なダイヤモンドライクカーボン膜を容易に形成することができる炭素薄膜成膜法を提供する。
【解決手段】この炭素被膜成膜方法は、マグネトロンスパッタ法により試料基板電極上に配置された試料基板表面に炭素被膜を堆積させる炭素被膜成膜装置を用い、炭素ターゲット基板電極と試料電極に対し、下記1〜4の条件でそれぞれ電圧を印加させることを特徴とする。
1.ターゲット基板電極に印加する電圧が負のパルス電圧であって、かつ、そのパルス電圧時間比が40%以下であること。
2.ターゲット基板電極に印加するパルス電圧のパルス時間が20μs〜200μsであること。
3.試料基板電極に印加する電圧が負のパルス電圧であって、かつ、そのパルス電圧時間比が50%以下であること。
4.試料基板電極に印加する負パルス電圧の大きさが−20V〜−200Vであること。 (もっと読む)


【課題】高硬度鋼の高速重切削加工条件下において、硬質被覆層がすぐれた耐溶着性と耐欠損性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】WC基超硬合金またはTiCN基サーメットで構成された工具基体の表面に、硬質被覆層として、AlとTiの複合窒化物層からなる下部層と、A層:AlとTiの複合窒化物層、B層:(111)面配向性のAlとCrの複合窒化物層、A層+B層を1積層周期とした1周期以上の積層構造を有する上部層とからなる層を形成した表面被覆切削工具。 (もっと読む)


【課題】耐欠損性、耐摩耗性にすぐれた表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に、物理蒸着法によって硬質被覆層を形成した表面被覆切削工具において、硬質被覆層は、組成式:(Al1−x−yCrSi)(N1−z)で表される平均層厚0.5〜8.0μmの複合炭窒化物層あるいは複合窒化物層からなり、硬質被覆層は、構成元素のうち90原子%以上が金属元素である断面長径0.05〜1.0μmの金属粒子を含有し、該金属粒子は硬質被覆層中に3〜20%の縦断面面積比率で分散分布し、金属粒子のうち、構成元素に50原子%以上のAlを含み、かつ縦断面形状のアスペクト比が2.0以上かつ断面長径が基板表面となす鋭角が45°以下などの条件を満たす粒子の縦断面面積比率をA%、それ以外の粒子の縦断面面積比率をB%としたとき、0.3≦A/(A+B)である。 (もっと読む)


【課題】高硬度鋼の高速重切削加工条件下において、硬質被覆層がすぐれた耐熱亀裂性および耐溶着欠損性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】WC基超硬合金またはTiCN基サーメットで構成された工具基体の表面に、硬質被覆層として、AlとTiの複合窒化物層からなる下部層と、A層:AlとTiの複合窒化物層、B層:(200)面配向性のAlとCrの複合窒化物層、A層+B層を1積層周期とした1周期以上の積層構造を有する上部層とからなる層を形成した表面被覆切削工具。 (もっと読む)


【課題】船舶用ピストンリングにおいて、摺動面の耐摩耗性をより向上させることである。
【解決手段】船舶用ピストンリング10であって、金属材料で形成されるピストンリング本体12と、ピストンリング本体12の摺動面13にイオンプレーティングで被覆され、CrNで形成されるCrN被覆層14と、を備え、CrN被覆層14は、70μm以上の膜厚で形成されており、X線回折によるCrN(200)面のピーク強度がCrN(111)面のピーク強度より大きい。 (もっと読む)


【課題】成膜条件が異なる場合であっても多数の基材に対して一度に且つ均一に成膜を行うことにより生産性を向上させる。
【解決手段】本発明のAIP装置101は、真空チャンバ内を真空排気する真空排気手段と、成膜対象である基材を自転状態で保持する4つの自転保持部4と、自転保持部4をその自転軸と軸心平行な公転軸Q回りに公転させる公転テーブル5と、アーク蒸発源6と、4つのバイアス電源10B1〜10B4を備えた電源ユニット10Bとを備え、自転保持部4の各々はスリップリング151を介して異なるバイアス電源に接続され、バイアス電位の差により異なる成膜条件を構成する。 (もっと読む)


【課題】シャドウマスクを使用することなく高精細な薄膜パターンの蒸着形成を容易にする。
【解決手段】蒸発源2から蒸発した有機EL材料の蒸着分子23が有機EL表示用基板5に到達する前に上記蒸着分子23を帯電させる段階と、発光層16を形成する箇所に対応して位置する画素電極14の基板側の面に電気的に接触させて設けられた抵抗体21に、帯電された蒸着分子23の帯電極性とは異なる極性で且つ有機EL材料を昇華させない程度に制限された温度を発生させ得る電圧を印加して通電する段階と、発光層16を形成しない箇所に対応して位置する画素電極14の基板側の面に電気的に接触させて設けられた抵抗体21に、帯電された蒸着分子23の帯電極性と同じ極性で且つ有機EL材料を昇華させるのに十分な温度を発生させ得る電圧を印加して通電する段階と、を行う。 (もっと読む)


【課題】 真空アーク蒸着法により、基材に付着するマクロパーティクルを抑制することの可能な真空アーク式蒸発源を提供する。
【解決手段】 真空アーク式蒸発源は、蒸発させる物質からなる棒状又は板状の陰極3と、該陰極の蒸発面の反対面に設けられるスペーサー部16と、該スペーサー部16が取り付けられるバッキングプレート10とを含み、前記スペーサー部16の軸方向に垂直な断面積が前記陰極の厚さ方向に垂直な断面積より小さくする。 (もっと読む)


【課題】耐摩耗性及び密着性に優れた硬質被膜を形成するためのターゲット、及び、表面がこのような硬質被膜で被覆された硬質被膜被覆切削工具を提供すること。
【解決手段】Cr1-x-y-zAlx[Ni1-aZra]yzで表される組成を有し、相対密度が95%以上であり、切削工具用硬質被膜を形成するために用いられるターゲット。但し、Mは、Ti、Nb、Si、B、W及びVから選ばれる少なくとも1種の元素、0.5≦x≦0.8、0.01≦y≦0.35、0≦z≦0.2、0.51≦x+y+z<1、0.2≦a≦0.5。基材と、基材の表面に形成された、上記ターゲットを用いて形成された窒化物、炭化物又は炭窒化物を含む硬質被膜とを備えた硬質被膜被覆切削工具。 (もっと読む)


【課題】一般鋼、高硬度鋼等の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐熱性および耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン基サーメットで構成された工具基体の表面に硬質被覆層を形成してなる表面被覆切削工具において、前記硬質被覆層が、0.5〜5μmの平均層厚を有し、かつ、組成式:(Al1−α−βCrαReβ)N(但し、αはCrの含有割合を示し、原子比で、0.25≦α≦0.55、βはReの含有割合を示し、原子比で、0.001≦β≦0.10である)を満足するAlとCrとReの複合窒化物層からなる表面被覆切削工具。 (もっと読む)


【課題】蒸発源の消耗に伴って変化する薄膜表面の平滑性変化を低減でき、蒸発源の利用効率を向上させることができるアークイオンプレーティング装置を提供する。
【解決手段】裏側リング状磁石17及び外側リング状磁石16の極性の向きは同一に設定され、中央磁石15の極性の向きは磁石16,17の極性の向きと逆に設定され、蒸発源5の直径をDとした場合に裏側リング状磁石17は、リング幅Wの中心位置Oが蒸発源5の端面からD/20の範囲内に配置されており、磁石15,16,17により蒸発源5の表面に生じる磁場の初期設定値は蒸発面の端面から内方にD/20の範囲の端部領域Eを除く内側領域C表面の磁束密度が7〜10mT、端部領域E表面の磁束密度が蒸発源中心部側から蒸発源端部まで連続的に増加し、端部領域E表面中心側が7〜10mT、端部領域E表面最端部が15mT以上、内側領域C表面の磁束密度の標準偏差が0.6以下に設定される。 (もっと読む)


【課題】耐エロージョン性に優れる硬質皮膜被覆部材を提供する。
【解決手段】スチームタービンブレード、ジェットエンジンの圧縮機ブレード、気体または液体圧縮用のコンプレッサースクリュー、ターボ圧縮機のインペラー、燃料噴射用バルブからなる群より選択されるいずれかに使用される基体と、前記基体を被覆する硬質皮膜とを備えた硬質皮膜被覆部材であって、硬質皮膜は、ナノインデンターにより測定した硬さ(H)とヤング率(E)において、硬さ(H)が20GPa以上であり、硬さ(H)とヤング率(E)との比率(H/E)が0.06以上であり、硬質皮膜は、TiおよびCrのうちの少なくとも一種とAlとNとを含有し、皮膜中の非金属元素以外の元素の総量に占めるTiとCrの総量が原子比で0.1以上0.6以下であり、かつ、皮膜中の非金属元素以外の元素の総量に占めるAlの量が原子比で0.4以上0.7以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】コーティング付き物品及び製造方法の提供。
【解決手段】コーティング付き物品(20,100)は、基材(22,102)と、PVDコーティング領域(110)を有するコーティング組織(24,106)とを有する。PVDコーティング領域(110)は、アルミニウムと、イットリウムと、窒素と、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、およびシリコンからなる群から選択される少なくとも1つの元素とを含む。アルミニウム及びイットリウムの含有量の合計は、アルミニウム、イットリウム及び他の元素の合計の約3原子%〜約55原子%である。イットリウム含有量は、アルミニウム、イットリウム及び他の元素の合計の約0.5原子%〜約5原子%である。基材を用意するステップと、PVDコーティング領域を含むコーティング組織を堆積させるステップとを含むコーティング物品の製造方法も開示する。 (もっと読む)


【課題】高硬度鋼の高速重切削加工条件下において、硬質被覆層がすぐれた耐溶着性と耐欠損性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】WC基超硬合金またはTiCN基サーメットで構成された工具基体の表面に、硬質被覆層として、AlとTiの複合窒化物層からなる下部層と、A層:(111)面配向性のAlとCrの複合窒化物層、B層:AlとTiの複合窒化物層、C層:(200)面配向性のAlとCrの複合窒化物層、B層+A層+B層+C層を1積層周期とした1周期以上の積層構造を有する上部層とからなる層を形成した表面被覆切削工具。 (もっと読む)


【課題】Ti合金、ステンレス鋼等の難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐熱性および耐溶着性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に硬質被覆層を形成してなる表面被覆切削工具において、硬質被覆層が、(a)0.01〜1μmの平均層厚を有し、かつ、組成式:(AlTi1−a)N(aはAlの含有割合を示し、原子比で0.4≦a≦0.75)を満足するAlとTiの複合窒化物からなるA層、(b)0.01〜1μmの平均層厚を有し、かつ、組成式:(AlCr1−b)N(bはAlの含有割合を示し、原子比で0.4≦b≦0.75)を満足するAlとCrの複合窒化物からなるB層、(c)0.01〜1μmの平均層厚を有する窒化クロムからなるC層、前記A層、B層、C層からなる単位被覆ユニットを2回以上積層した全体膜厚0.5〜6μmを有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】被洗浄基板、あるいは、さらに処理される清潔な基板を製造するための、方法および装置を提供する。
【解決手段】電子源カソード(5)およびアノード機器(7)を備えたプラズマ放電機器を用いることによって、基板のプラズマエッチ洗浄が実行される。アノード機器(7)は、一方ではアノード電極(9)を、他方では、自身から電気的に孤立されている閉じ込め部(11)を備えている。この閉じ込め部(11)は、洗浄されるべき基板(21)の領域(S)に向けられた、開口部(13)を備えている。電子源カソード(5)およびアノード電極(9)は、供給源(19)を有する供給回路によって、電気を供給されている。この回路は、電気的に浮遊して操作される。 (もっと読む)


【課題】ターゲット表面から基材方向に伸びる直進性の高い磁力線を、ターゲット表面の広い領域において発生させることができるアーク式蒸発源を提供する。
【解決手段】アーク式蒸発源1aに、ターゲット2の外周を取り囲むように配置されたリング状の外周磁石3と、ターゲット2の背面側に配置されたリング状の背面磁石4aとを備える。アーク式蒸発源1aにおいて、外周磁石3は、ターゲット2の前面と直交する方向に沿うと共に前方を向くような磁化方向となる極性を有する。背面磁石4aは、ターゲット2の前面と平行であり且つリング径内方向を向くような磁化方向となる極性を有すると共に、ターゲット2の大きさ以上の内径を有する。 (もっと読む)


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