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Fターム[4K029DB00]の内容

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【課題】蒸発面の内側領域において、局部的な集中をなくして全体に均等にアークスポットが移動することにより、蒸発源が均等に消耗し、利用効率がよくなるアークイオンプレーティング装置を提供する。
【解決手段】蒸発源5の端面から内方に所定幅の端部領域を除く内側領域表面の磁束密度が7〜10mTであり、端部領域表面の磁束密度が内側領域表面の磁束密度よりも3mT以上大きく、蒸発面11における磁力線は、蒸発面の法線に対する角度θが0°<θ<20°であり、端部領域表面では内側領域に向けて傾いており、内側領域の磁束密度は、標準偏差が3以下である。 (もっと読む)


【課題】薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】大型基板の量産工程にさらに適し、高精細のパターニングを可能にするためのものであり、被蒸着用基板を静電チャックに固定させるローディング部;真空に維持されるチャンバと、チャンバの内部に配され、基板と所定程度離隔されて静電チャックに固定された基板に薄膜を蒸着する薄膜蒸着アセンブリを含む蒸着部;静電チャックから、蒸着が完了した基板を分離させるアンローディング部;基板が固定された静電チャックを、ローディング部、蒸着部及びアンローディング部に順次移動させる第1循環部;アンローディング部から、基板と分離された静電チャックを、ローディング部に送り戻す第2循環部;を含み、第1循環部は、蒸着部を通過するとき、チャンバ内部に貫通するように備わった薄膜蒸着装置、及びこれによって製造された有機発光表示装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】装置の外径サイズを一定寸法以下に維持しつつ、生産効率及びコストパフォーマンスの高い真空装置を提供する。
【解決手段】真空排気可能なチャンバ30と、第1及び第2トレイを、チャンバ30の上部の第1及び第2の領域の直下に、交互に移動させるように回転する円盤状の回転機構31とを備え、第1の領域の直下を第1及び第2トレイ11,21のいずれかが仕切ることにより、第1の領域がなす密閉領域を処理室20として定義し、第2の領域の直下を第1及び第2トレイ11,21の他のいずれかが仕切ることにより、第2の領域がなす密閉領域をロードロック室10として定義し、チャンバ30の内部において、第1及び第2トレイ11,21をロードロック室10と処理室20との間を交互に搬送し、回転機構31の載置面で規定される領域のサイズに応じて第1及び第2トレイ11,21のそれぞれが複数の被処理基板101,201を配列する。 (もっと読む)


【課題】ガス供給量が低減されたガスデポジション装置を提供すること
【解決手段】
上記課題を解決するための、本発明の一形態に係るガスデポジション装置1は、搬送管4に嵌合する位置と嵌合しない位置のいずれかをとる可動部材15を有するガス規制機構と、微粒子流fの流路上の位置とそれ以外の位置をとる吸引口18を有する吸引機構7とを具備する。
成膜停止時において、可動部材15が搬送管4と嵌合することで、搬送管4の第1の開口4cに流入するガスの流量が規制される。同時に吸引口18が上記規制されたガス流量を微粒子流fの経路上において吸引する。成膜時に搬送管4を流通して微粒子を搬送するガス流量の一部を、成膜停止時において微粒子の排出に流用することにより必要なガス供給量が低減される。 (もっと読む)


【課題】被処理体の成膜材料を吹き出す蒸着ヘッドを成膜位置と収納位置との間にて移動させることが可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】6層連続成膜装置10は、成膜材料が収納された複数の蒸着源155と、複数の蒸着源155に連結され、蒸着源155にて気化された成膜材料を搬送する複数の連結管150と、複数の連結管150にそれぞれ連結され、高さ方向にそれぞれ離隔しながら配設された複数の蒸着ヘッド125と、複数の蒸着ヘッド125から吹き出された成膜材料により、内部にて被処理体を連続成膜する処理室100と、を備える。複数の蒸着ヘッド125は、複数の連結管150を搬送した成膜材料を基板Gに向けて吹き出すために収納位置と成膜位置との間を移動する。 (もっと読む)


【課題】 成膜装置の保守点検・成膜源の再調整を短時間で行うことができるメンテナンス性に優れた蒸着装置1を提供する。
【解決手段】蒸着装置1は、内部に成膜機構(蒸発源6、ガス導入管10b、基板ホルダ4、回転支持枠12a)が配置してある真空チャンバ2を有する。真空チャンバ2は、底板22と、底板22上に処理空間を形成するように底板22の角隅部2022上に底枠202を介して立設される複数の側柱206a〜206dと、処理空間の上方開口を閉塞するように複数の側柱206a〜206dの上端に天枠204を介して設けられる天板24と、一端が側柱206a,206c,206dに接続されたヒンジ40,42,44を回動支点に、隣接する柱部材間に形成された側方開口に対して開閉自在な複数の側板26,28,30を有する。底板22及び天板24にのみ成膜機構が配置しており、側板26,28,30には成膜機構を有しない。
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【課題】再作動の時の追突、自動時の間違って入力されたデータによる棚の追突、及び受動時の作業者の間違いによる棚の追突などがあらかじめ防止されることができるとともに、駆動部による作動から離脱して落下または一方向への慣性力によって棚が超過移動されて隣接した棚と追突されるダメージが防止できるようになった蒸着源用追突防止装置を提供する。
【解決手段】駆動源と、駆動源によって動作するように設置された駆動軸と、駆動軸に垂直往復移動するように設置された1以上の棚と、この棚に固定された蒸着機が含まれてなる駆動部と、隣接した棚の距離が検知されるように設置されたセンサーが含まれてなる検知部と、検知部のセンサーから収集されたデータと前もって設定されたデータを比べて駆動部の作動を制御する制御部と、が具備されてなることを特徴とする蒸着源用追突防止装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】るつぼや冷却水が不要となり、構造を簡素化するとともに、投入エネルギを低減し、更に成膜時におけるスプラッシュの発生を防止する。
【解決手段】チャンバ14内で基板11に対向して設けられた蒸着材13から粒子17を蒸発させて基板表面に堆積させることにより基板表面に保護膜を形成する。上記蒸着材をチャンバ内で固体のまま露出した状態で宙に浮かせる。具体的には、蒸着材が中心に孔を有する円板である。先ず複数個の蒸着材を一本のロッドにそれぞれ孔を嵌入させることによって一列に配置させる。次に複数個の蒸着材を配置させたロッドをチャンバ内に挿入して水平に保持する。更にこのロッド先端に配置された蒸着材の外周面にビーム16を照射して蒸着材から粒子を蒸発させ、ロッド先端に配置された蒸着材が消費されると次に配置された蒸着材をロッド先端に移動させる。 (もっと読む)


【課題】簡易な構成によって極めて高い天板の位置再現性を実現することが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、チャンバ壁38の開口部38aを閉塞する天板40と、天板40をチャンバ壁38に対して昇降させる複数のスライドピン56と、各スライドピン56にそれぞれ設けられた歯付きプーリ62に掛け渡された歯付きベルト66とを備える。各スライドピン56は、歯付きベルト66によって各歯付きプーリ62を介して同期して駆動され、天板40の姿勢を維持したまま天板40を昇降させる。チャンバ壁38には位置決めピン48が設けられ、天板40にはピン挿入孔40aが設けられている。 (もっと読む)


【課題】たとえば真空蒸着室の内面に電気絶縁性かつ易剥離性のダミー壁を形成するのに好適なスラリーを提供する。
【解決手段】窒化硼素粉末を5〜30質量%含有するラリーであって、窒化硼素粉末が、黒鉛化指数が3〜15、酸化硼素含有量が0.5質量%未満、平均粒径が20μm以下である窒化硼素粉末含有スラリー。窒化硼素粉末が、(a)黒鉛化指数が5〜30、酸化硼素含有率が0.5〜5質量%、比表面積が20m/g以上、平均粒径が10μm以下、最大粒径が40μm以下である窒化硼素粉末aと、(b)黒鉛化指数が5未満、酸化硼素含有率が0.5質量%未満、平均粒径が5〜30μmである窒化硼素粉末bとの混合窒化硼素粉末であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】ラビング処理することなく、所望の品質を有する配向膜を形成できる成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置は、有機材料を含むターゲット部材の表面にイオン粒子を照射して、ターゲット部材より配向膜を形成するためのスパッタ粒子を放出させるスパッタ装置と、基板の表面がターゲット部材の表面と対向しないように基板を保持する基板保持部材と、ターゲット部材からのスパッタ粒子が供給可能な位置に配置され、ターゲット部材から供給されたスパッタ粒子を基板の表面に供給するようにスパッタ粒子の進行方向を変える所定面を有する所定部材とを備えている。 (もっと読む)


【課題】例えば真空蒸着室の内面に電気絶縁性かつ易剥離性のダミー壁を形成するのに好適なスラリーを提供する。
【解決手段】窒化硼素粉末を5〜30質量%含有するスラリーであって、窒化硼素粉末が、粉末X線回折による黒鉛化指数が3〜30、酸化硼素含有率が0.5〜5質量%、比表面積が20m/g以上、平均粒径が10μm以下、最大粒径が40μm以下であることを特徴とする窒化硼素含有スラリーである。とくに、真空蒸着室の内面にダミー壁を形成させるための窒化硼素含有スラリーである。 (もっと読む)


【課題】 蒸着面が汚染されることがなく、それ故蒸着不良による品質の低下がなく、また在庫管理も格別に必要としない、表面に薄膜を有する成形品の成形方法を提供する。
【解決手段】
固定側金型(2)と、スライド金型(15)とを使用して、第1の成形位置で第1の基板(K1)を、第2の成形位置で第2の基板(K2)を成形する。そして、第2の基板(K2)を成形中にその前に成形された第1の基板(K1)の表面に蒸着し、第1の基板(K1)を成形中にその前に成形された第2の基板(K2)の表面に蒸着する。このとき、内部にターゲット電極、基板電極、真空吸引管等の蒸着要素が設けられている蒸着用チャンバー(25)により、スライド金型(15)の凹部(16、17)に残っている状態の基板を覆って、金型内で蒸着条件を出して蒸着する。 (もっと読む)


【課題】機能性薄膜の蒸着法において、簡便な装置及び温度制御で蒸発源材料の突沸を防止し、高レートにピンホールやスプラッシュの膜欠陥の少ない高品質な機能性薄膜を提供すること。
【解決手段】ターゲット部材に真空中で機能性薄膜を成膜する成膜方法として、真空炉内に密閉空間を形成し、その内で蒸発源材料を蒸発させる第1の工程とその後、密閉空間に出口を設けて再蒸発を行いターゲット部材に機能性薄膜を成膜する第2の工程を有する。そして、前記第1の工程では、真空炉内の密閉空間を、蒸発源材料を内部に設置する容器に空いた穴に、蒸発させた蒸発源材料を詰めることで形成し、前記第2の工程では、その詰めた蒸発源材料を加熱して再蒸発させることで密閉空間に出口を設ける。 (もっと読む)


【課題】 基板の温度上昇を抑え、材質劣化を回避すると共に、生産性を向上させる基板冷却装置及び基板の冷却方法を提供する。
【解決手段】 帯状の基板1に連続して蒸着を行う真空蒸着装置に用いられ、チャンバ2内に設けられ、基板1の走行を案内する冷却ロール7と、冷却ロール7の周囲に設けられ、チャンバ2を、蒸着を行う圧力室10と、圧力室10より高い所定圧力を有する圧力室8、圧力室9とに分離する圧力分離壁6a、6bとを有し、冷却ロール7は、圧力室8にて基板1を巻き付け、基板1と冷却ロール7との間にガス層15を形成して、基板の冷却を行う。 (もっと読む)


【課題】 成膜中においても基板表面近傍から基板表面を効率的に加熱することが可能な膜形成装置を提供する。
【解決手段】 真空槽1と、該真空槽内に配設された蒸着源3と、真空槽1内に設置され基板Sを保持する基板ホルダ2と、蒸着源3と基板ホルダ2との間に設置された補正板11と、電源から電力の供給を受けて基板Sを加熱するためのヒータ13と、を有する膜形成装置において、ヒータ13を補正板11における基板ホルダ2に対向する面に設ける。 (もっと読む)


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