【課題】比較的大きい表面凹凸が形成される磁気記録層上であっても、ＦＣＶＡ法により、ステップカバレッジ、および、耐食性・耐摩耗性に優れた磁気記録媒体用薄膜を成膜できる。
【解決手段】回転駆動機構部およびチルト機構部が制御ユニット４０に制御されることにより、基板ホルダー２０および記録媒体用基板２８’の傾斜角θが、成膜中、保護層の膜厚の増大に応じて最小傾斜角度から最大傾斜角度まで連続的に変化する。 （もっと読む）

【課題】プラズマＣＶＤ法で形成したＤＬＣ膜よりも緻密であり、かつパーティクルを必要十分なレベルまで低減したテトラヘドラル・アモルファス・カーボン（ｔａ−Ｃ）膜を主体とする磁気記録媒体用保護膜、および該保護膜を有する磁気記録媒体の提供。
【解決手段】陰極ターゲットとしてガラス状炭素を用いたフィルタード・カソーディック・アーク法によって形成されるｔａ−Ｃ膜を主体とする磁気記録媒体用保護膜。基体と、磁気記録層と、ｔａ−Ｃ膜を主体とする保護膜とを有する磁気記録媒体。 （もっと読む）

【課題】真空プロセスによる薄膜形成時に見られる、基板冷却の不足を解決し、張力によるシワを抑制するための薄膜形成装置を提供すると共に、これを用いた薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】基板１２と接する側から順に少なくとも絶縁層２１と導電層２２を有する無終端帯７に沿って基板が走行中に、薄膜形成源９から飛来する粒子によって基板上に真空中で薄膜形成を行うにあたり、導電層２２と基板１２との間に変動する電位差を付与する。 （もっと読む）

【課題】高い生産性とサイクル特性に優れたリチウム二次電池用電極を提供する。
【解決手段】真空蒸着装置１００はチャンバー１と、真空ポンプ２、蒸発源３、蒸着領域２０を備える。（Ａ）表面に複数の凸部を有する集電体４を蒸着領域に配置し、蒸発源から集電体の法線方向Ｎに対して傾斜した方向に沿って集電体上に第１蒸着材料を供給して第１活物質層を形成する工程と、（Ｂ）第１活物質層が形成された集電体を蒸着領域に配置し、蒸発源から集電体の法線方向に対して傾斜した方向に沿って集電体上に第２蒸着材料を供給して第２活物質層を形成する工程とを包含し、工程（Ａ）では、チャンバーの真空度Ｐ₁パスカルと、集電体の表面と蒸発源との最小距離Ｌ_(1)minメートルとの積は０．０１以上であり、工程（Ｂ）では、チャンバーの真空度Ｐ₂パスカルと、集電体の表面と蒸発源との最大距離L_(2)maxメートルとの積は０．０１未満である。 （もっと読む）

【課題】 アンチモン系触媒を使用せずに製造された蒸着フィルムであって、且つ、優れたガスバリア性を示し、包装用途及び光学用途に好適な物性を備えた蒸着フィルム。
【解決手段】 重縮合触媒としてチタン系触媒を使用して製造したポリエステルフィルムからなる基材フィルムの一方の面に、アンカーコート、酸化物蒸着膜及びバリアコートを積層したガスバリア性蒸着フィルム。 （もっと読む）

【課題】 アンチモン系触媒を使用せずに製造された蒸着フィルムであって、且つ、優れたガスバリア性を示し、包装用途及び光学用途に好適な物性を備えた蒸着フィルム、並びにそれを用いた輸液バッグ及び輸液バッグ用外装袋。
【解決手段】 重縮合触媒としてチタン系触媒を使用して製造したポリエステルフィルムからなる基材フィルムの一方の面に、酸化物蒸着膜、バリアコート及びヒートシール性樹脂層を積層したガスバリア性蒸着フィルム、並びにそれを用いた輸液バッグ及び輸液バッグ用外装袋。 （もっと読む）

【課題】 アンチモン系触媒を使用せずに製造された蒸着フィルムであって、且つ、優れたガスバリア性を示し、包装用途及び光学用途に好適な物性を備えた蒸着フィルム。
【解決手段】 重縮合触媒としてチタン系触媒を使用して製造したポリエステルからなる基材フィルムの一方の面に、酸化物蒸着膜及びバリアコート層を積層したガスバリア性蒸着フィルム。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、成形品に形成された彫刻様の図柄と塗装や蒸着等による表面処理方法を組み合わせて、より立体的で高品位な質感を有する視覚効果を現出させるため構成、およびその構成を実現するための処理方法を創出することを課題とするものである。
【解決手段】 裏面の所定領域に、平坦部と、周辺にこの平坦部を残して彫刻状に形成された刻設凹部により図柄を形成した透明性を有する合成樹脂成形品を用い、平坦部と刻設凹部を含む所定領域全体に蒸着膜と塗装膜とインモールド転写膜から選ばれる少なくとも１層の膜からなる第１の加飾層を形成し、次に刻設凹部にレーザー光を照射して刻設凹部に形成される第１の加飾層を除去し、次に平坦部と刻設凹部を含む所定領域全体に、蒸着膜と塗装膜から選ばれる少なくとも１層の膜からなる第２の加飾層を再度形成する。 （もっと読む）

【課題】効果的な修飾微粒子の形成方法の提供。
【解決手段】微粒子を単層固定させる基板表面に金を所定の厚さで蒸着する。一方、1-ethyl-3(3-dimethylaminopropyl)carbodiimidehydrochloride（通称ＥＤＣ）、ＮａＣｌ、あるいは、ＫＣｌ等の微粒子間の静電反発力を抑制するための材料を利用した粒子固定液を作製し、これに微粒子を混合した粒子懸濁液として上記基板上に塗布することにより、金を所定の厚さで蒸着された基板表面に微粒子を単層固定させる。また、単層固定された微粒子表面に遷移金属、金属または半導体を蒸着させて修飾微粒子を形成する。基板から修飾微粒子剥離させるには、超音波洗浄装置等を利用して、基板に超音波を作用させて、剥離を促進する。修飾微粒子を生体機能分子によって修飾して生体物質の検査のための標識として利用する場合、修飾微粒子からの反射電子を利用する。 （もっと読む）

【課題】 斜め蒸着により基板４上に柱状体１４を形成する方法において、蒸発源３と成膜面との距離が大きければ、蒸発粒子とチャンバー１内残留ガス分子との衝突頻度が増大して入射粒子の入射方位に分布を生じるために、柱状体１４が太るために柱状体間の隙間が減少する。
【解決手段】 蒸発源３と成膜面との間の、蒸発源３から放射状に引き出した線上に整流板１１を配置する。整流板１１を配置することで、柱状体１４が太るために柱状体間の隙間が減少することを抑制できる。また、整流板１１へ付着する堆積物の量を抑制できる。 （もっと読む）

【課題】ＭＯＳトランジスタあるいはＭＩＭキャパシタにおいて、導体膜からなる電極に、多量の重水素をドープすることにより、絶縁膜との界面の欠陥を終端し特性劣化を抑制する。
【解決手段】電子ビームＥＢによりシリコンソース１３を加熱し、重水素ガス雰囲気中１１Ｃにシリコン原子を放出することにより、シリコン膜を基板Ｗ上に堆積する。このシリコン膜はＣＶＤ法による堆積よりも高濃度に重水素ドープされ、ダングリングボンドなどの欠陥が重水素で終端されている。 （もっと読む）

【課題】耐久性ないしは耐環境性に優れるとともに良好な光学特性を備えた赤外用多層膜を提供する。
【解決手段】赤外光学用基板２、１２に形成される赤外用多層膜３、１３。この赤外用多層膜３、１３は、前記基板側から、屈折率の低い低屈折層４、１４、この低屈折層４、１４よりも屈折率の高い中間屈折層５、１５、この中間屈折層５、１５よりも屈折率の高い高屈折層６、１６、中間屈折層７、１７、低屈折層８、１８、及び非酸化物材料からなる保護層９、１９がこの順に積層された積層体からなっている。前記低屈折層４、１４、８、１８はフッ化物膜からなり、前記中間屈折層５、１５、７、１７はＺｎＳ膜又はＺｎＳｅ膜からなり、且つ前記高屈折層６、１６はＧｅ膜からなる。
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【課題】アーク放電を行なわずに均一な粒子径を有し、その表面に炭素被膜が形成された炭素被覆金属微粒子を提供すること。
【解決手段】金属微粒子を構成する金属材料を保持したカーボンロッドをチャンバー内で懸架し、該チャンバー内を１０^−５〜１０^−３Ｐａに減圧し、該チャンバー内の圧力が１００〜５００００Ｐａとなるように不活性ガスを導入した後、カーボンロッドに電圧を印加して通電加熱をする炭素被覆金属微粒子の製造方法、外部空間と遮断して設けられたチャンバー内で金属材料保持用カーボンロッドの一端を懸架するための導電性懸架材Ａおよびカーボンロッドの他端を懸架するための導電性懸架材Ｂが懸架されて外部電源と接続され、減圧管および不活性ガス導入管がチャンバーの内部空間と接続されている炭素被覆金属微粒子の製造装置。 （もっと読む）

【課題】サブミクロンオーダーの金属膜を透明基板上に確実に形成することができるメタルワイヤーパタンの製造方法、バックライトシステム及びそれらを用いた液晶ディスプレイを提供する。
【解決手段】モールド２０ａにナノインプリント法により凹凸部１１を形成する凹凸部形成工程と、モールド２０ａの凹凸部１１上に真空成膜法またはめっき法により金属膜１３を堆積させる金属膜形成工程と、凹凸部１１上に堆積した金属膜１３のうち、凸部１５上に堆積した金属膜１３を透明基板３０に転写してメタルワイヤー層３２を形成する転写工程と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着室内への有機物の着膜を防止すること。
【解決手段】有機ＥＬディスプレイパネル製造装置は、真空蒸着室９内で蒸着源８から発した有機材料を有機ＥＬディスプレイパネルに用いられる基板３に蒸着させるようになっている。そして、有機ＥＬディスプレイパネル製造装置は、基板３を保持する基板トレイ１と、基板トレイ１の蒸着源の側に突設された防着部材２と、を備えている。有機ＥＬディスプレイパネル製造時における真空蒸着室への着膜を著しく低減することができる。 （もっと読む）

【課題】低コストにて、真空蒸着による高品質な膜形成を実現することができる真空蒸着方法を提供すること。
【解決手段】真空容器内を排気して真空状態にする真空工程と、真空状態となった真空容器内で蒸発物質を加熱手段にて加熱して蒸発させる蒸発工程と、を有し、これにより、真空容器内に保持された被成膜体に蒸発物質を蒸着させる真空蒸着方法であって、上記真空工程は、蒸発物質の蒸発温度よりも高い蒸発温度を有する加熱物質を真空容器内で加熱手段にて加熱して当該真空容器内を加熱する容器内加熱工程を有する。 （もっと読む）

【課題】気相成長速度が速く、安価で生産性に優れ、且つ、原料物質が加熱される際の熱から基体や成膜物を保護できる薄膜又は粉末製造方法、薄膜又は粉末製造装置、及び非水電解質二次電池用電極材の製造方法、並びに非水電解質二次電池用電極材を用いた非水電解質二次電池用電極及び非水電解質二次電池を提供する。
【解決手段】容器２内の原料物質３を加熱源４により減圧下で６００℃以上に加熱して蒸発させ、原料物質３の蒸気を基体１６上に凝縮させて気相成長させる薄膜の製造方法において、容器２と基体１６との間に断熱部材７を設置し、原料物質３の加熱源４からの熱による基体１６の加熱を抑制する。この断熱部材７に開口部を設け、蒸気を開口部を通して基体１６に導く。この断熱部材７は、熱伝導および輻射熱を軽減するための多孔性の断熱材を含む。 （もっと読む）

【課題】アーキング現象発生を抑制して、被処理物品に良好に目的とする処理を施す。
【解決手段】ホルダ２に被処理物品Ｗを配置した状態で真空容器１内から排気し、容器１内へ加熱用ガスを供給するとともに該ガスを加熱して容器１内に加熱用ガス雰囲気を形成し、該加熱用ガス雰囲気のもとで物品Ｗ等を加熱し、容器１から排気することでアーキング発生促進物質を該物品Ｗ等から脱離させ、加熱用ガスとともに容器１外へ排出する。次いで物品Ｗに目的とする処理（例えば膜形成処理）を施す。 （もっと読む）

【課題】高温耐久性を始めとする保護膜として要求される種々の特性、特に耐熱性や耐融着性、表面平滑性に優れたＤＬＣ膜と、このようなＤＬＣ膜を備えたＤＬＣコート金型を提供すること。
【解決手段】ＤＬＣ膜をｔａ−Ｃ、つまり、ｓｐ^３／（ｓｐ^２＋ｓｐ^３）構造比が０．５〜０．９、水素含有量が０〜５原子％、ナノインデンテーション硬さが４０〜１００ＧＰａ、密度が２．７〜３．４ｇ／ｃｍ^３であるＤＬＣから成るものとし、基材上に成膜された表面に対する針先端曲率半径２μmの触針式表面形状測定器による測定送り０．０１ｍｍの表面走査検出において、基材の成膜前における被成膜面の算術平均粗さＲａ（Ｓ）に対するＤＬＣ膜面の算術平均粗さＲａ（Ｄ）の絶対値変化量ΔＲａ（＝｜Ｒａ（Ｓ）−Ｒａ（Ｄ）｜）が０．７５ｎｍ以下、且つ当該ＤＬＣ膜面における高さ又は深さが２０ｎｍ以上の凹凸の数が単位走査距離及び単位膜厚あたり０．０１個／単位走査距離（ｍｍ）／単位膜厚（ｎｍ）以下のものとする。 （もっと読む）

【課題】同軸型アーク蒸着源のメンテナンスに要するコストを低減する。
【解決手段】本発明の蒸着源５は、円筒状のアノード電極２３と、円柱状のカソード電極１２と、円筒状のトリガ電極１３と、カソード電極１２に接続された蒸着材料１１と、蒸着材料１１とトリガ電極１３との間に配置されたハット状の絶縁碍子１４とを有し、ハット状の絶縁碍子１４は、円筒状部分と円板状部分からなり、円板状部分の側周部に凹所または凸所がある。このため、蒸着材料１１とトリガ電極１３との間の耐電圧が低下しないように、沿面距離を確保しつつ絶縁碍子１４の高さを低くできるので、交換部品である絶縁碍子１４のコストを低減することができる。 （もっと読む）