【課題】昇華性の成膜材料６からの安定して分子を放出すると共に、成膜材料６の歩留まりを向上する。
【解決手段】薄膜形成装置は、成膜材料６に向けて電子束を照射する電子銃５を備え、この電子銃５から成膜材料６に電子束を照射し、成膜材料６から分子を放出して個体表面に被着させ、薄膜を形成するものであり、成膜材料６を回転させる回転機構４を備え、成膜材料６を回転しながらその表面に電子銃５から電子束を照射することにより、成膜材料６の表面に対する電子束の照射位置を変えながら分子を放射するものである。このような薄膜形成装置は、特に成膜材料６の表面に対し電子銃５から斜めに電子束を照射する形式のものに適用するとその効果が大きい。また、成膜材料６は電子束の照射により溶融せずに分子を放出する昇華性のものからなるものに適用するのが最適である。 （もっと読む）

【課題】親水性並びに汚染防止、抗菌、消臭作用等の多機能性を増加させた光触媒機能材料を主体とする光触媒コーティング剤及び蒸着加工方法を提供する。
【解決手段】光触媒機能材料に、助触媒として酸化トリウムゲル体又は希有元素類を含む鉱物、或いは酸化トリウムゲル体及び希有元素類を含む鉱物を含有させてなる光触媒作用を増幅させた光触媒コーティング剤を、ガラス、金属、樹脂、セラミック等の基材に蒸着加工した構成とする。 （もっと読む）

【課題】自立性薄膜の微細孔を覆うような多層薄膜を提供する。
【解決手段】自立性薄膜の微細孔内に乾燥泡膜を形成し、該自立性薄膜の片面に所定の材料を蒸着し、さらに別材質のものを蒸着することにより多層薄膜を製造する。 （もっと読む）

【課題】 長尺基材を連続して送りつつ、その表面に被覆層を形成する場合の搬送速度のばらつきを抑えるとともに、搬送中の厚み検出部での厚み方向の計量面の揺らぎの影響を最小限にして被覆層の厚みをより高精度で計量できる手段を提供することである。
【解決手段】 導電性長尺基材を搬送しつつ被覆処理基地で該基材上に被覆層を形成する装置に備えられた該被覆層の厚みを連続的に確認する計量機構であって、該被覆層の静電容量値を計量する検知部が、前記処理部の前後に配置され、該検知部での該基材にかかる張力が、該基地での該基材にかかる張力よりも大きく設定された計量機構である。これにより被覆層の厚みをより高い精度で計量でき、本発明の計量機構を使うことによって検知部での厚みデータの信頼性の高い被覆層形成装置と高精度の被覆基材の提供が可能になる。 （もっと読む）

【課題】 長尺基材を連続して送りつつ物理的または化学的処理を精度良く行うための基材の搬送機構、特に処理後の基材の機能が付加された部分の長さ方向での厚みのばらつきや表面の傷を抑えるための搬送機構を提供する。
【解決手段】 長尺基材が連続的に供給されて所定の速度で物理的または化学的に処理される基地が置かれ、ここで処理された基材が連続的に回収される搬送機構であって、同基材が、基地の供給側で搬送方向とは逆方向の引張応力Ｔ_１を、基地で摩擦応力Ｆを、また基地の回収側で搬送方向の引張応力Ｔ_２を、それぞれ負荷されており、これらの応力が、Ｆ＞Ｔ_１＞Ｔ_２の関係にあり、前記引張応力Ｔ_１が０の時の該基材の搬送速度が、該基地での搬送速度より大きくなるように、回収側での搬送速度が制御されている長尺基材連続処理用の搬送機構である。 （もっと読む）

【課題】光学的性質を劣化させずに長期間に渡って帯電防止効果を保つことができる光学多層膜フィルタと、該フィルタを簡便に製造する光学多層膜フィルタの製造方法、さらに、このような光学多層膜フィルタを組み込んだ電子機器装置を提供すること。
【解決手段】光学多層膜フィルタ１０は、基板１上に形成された複数層からなる無機薄膜２を有し、前記無機薄膜の最表層を構成する酸化ケイ素層の密度が１．９〜２．２ｇ／ｃｍ^３である。 （もっと読む）

【課題】 成膜方法及び成膜装置に関し、表面粗度が低く且つ硬度が高い炭素系保護膜の形成を可能にし、例えば、ヘッドクラッシュに高い耐性を示すと共に記録密度及び信頼性を向上した磁気ディスクを実現できるように、そして、放電不良確率を低減したＦＣＡ成膜装置を実現できるようにする。
【解決手段】 アーク放電により、カソードターゲット１からターゲット材料であるカーボンを蒸発させ、基板６上に堆積させる場合、アーク放電中にターゲット１上の放電点１Ａを電磁石７の作用に依って強制移動させる。 （もっと読む）

【課題】ＵＮＣＤを形成する技術を提供する。
【解決手段】グラファイトで構成されたカソード電極１３２とトリガ電極１３４の間にトリガ放電を発生させ、アノード電極１３１とカソード電極１３２の間にアーク放電を誘起させ、カーボン蒸気のイオンを真空槽１０内に放出させる。真空槽１０内は水素ガス雰囲気にしておき、電荷を有するカーボン蒸気を成膜対象物２０に到達させる。成膜対象物２０の表面にＳｉＣ膜２２を形成しておくと、ＵＮＣＤが成長する。 （もっと読む）

【課題】従来のＩＴＯ電極に代わる、ＩＴＯの欠点を示さない電極の製造方法を提供する。
【解決手段】第１層が、ポリマーアニオン及び一般式（I）：


［式中、Ａはアルキレン基を表し、Ｒは、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基等を表す。］で示される反復単位を有するポリチオフェン含む分散体を基材に塗布し、第２層が、有機正孔注入物質及びアニオンを第１層に塗布する少なくとも２層を有する電極の製造方法。 （もっと読む）

【課題】分子線セル坩堝にパイロリティックカーボンを被覆することにより、耐久性等に優れた珪素用分子線セル坩堝を提供する。
【解決手段】珪素用分子線セル坩堝は、グラファイト製の外管１と、パイロリティックカーボン４が被覆されたグラファイト製の内管とから構成された二重管である。前記内管は、開口管の上部３と、片閉口管の下部２とから構成され、この下部２は、下部２の深さｄと内径Ｄ４の比が１以下であり、熱化学気相蒸着法によりパイロリティックカーボン４が被覆されている。 （もっと読む）

【課題】製造時や廃棄時における赤外線フィルタの取り扱いを容易にする。
【解決手段】赤外線フィルタ１は、赤外線を透過する基板２と、基板２表面上に交互に多層積層されたＧｅ膜及びＨｆＯ_２膜とを備え、ＨｆＯ_２膜は（１１１）面と（−１１１）面を主とする面方向に配向した結晶構造を有する。これにより、多層膜構造を形成する際にＺｎＳを使用しないので、製造時や廃棄時における赤外線フィルタの取り扱いを容易にすることができる。また、ＨｆＯ_２膜は（１１１）面と（−１１１）面を主とする面方向に配向した結晶構造を有するので、Ｇｅ膜とＨｆＯ_２膜の密着力が高まり、高強度の赤外線フィルタを提供することができる。 （もっと読む）

【課題】電子工学、光学、又は光電子工学に応用するための、弾性的に歪みのない結晶材料製層を形成する方法の提供。
【解決手段】張力下で（又は圧縮して）弾性的に歪みのある第１の結晶層１と、圧縮して（又は張力下で）弾性的に歪みのある第２の結晶層２とを備え、前記第２の層が前記第１の層に隣接している構造体３０を用いて、それらの２つの層間での拡散ステップを備え、それにより２つの層のそれぞれの組成物間の差がほぼ同じになるまで次第に低減され、その後、それらの２つの層が、全体として均質な組成物を有する、結晶材料製のただ単一の最終層を形成する。それらの２つの層のそれぞれの組成物と、厚さと、歪みの程度とを最初に選択することにより、拡散後に、全体として弾性的な歪みを示さない最終層を構成する材料が得られることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】大気圧下において樹脂基材を３００ｍｍ／分以上という速度で移動させながら、樹脂基材の表面を改質することが可能な改質方法を提供する。
【解決手段】ターゲット１３の表面にレーザー光Ｌを照射して真空紫外光及び飛散粒子ａを発生させ、樹脂基材１５の表面に前記真空紫外光を照射しつつ飛散粒子ａを付着させる樹脂基材の表面改質方法であって、ターゲット１３の表面上に形成される照射光形状が長軸方向の幅が短軸方向の幅の１．５倍〜１０倍である略楕円形状となるようにターゲット１３の表面にレーザー光Ｌを照射しつつ、ターゲット１３の表面に対して平行な面上において前記長軸方向に対して垂直な方向と樹脂基材１５の移動方向との開口角度が１０°以内となるように樹脂基材１５を移動させ、酸素量が８容量％以下のシールドガス雰囲気下において樹脂基材１５の表面に前記真空紫外光を照射しつつ飛散粒子ａを付着させる。 （もっと読む）

開口マスクは、フィルムに形成された少なくとも１つの蒸着マスクパターンを有する可撓性フィルムからなる細長いウェブを含んで提供され、前記蒸着マスクパターンは、少なくとも１つ又はそれ以上の電子回路要素の一部分を画定する前記フィルムを通って伸びる蒸着開口を画定し、並びに、蒸着開口は枠によって境界をつけられ、前記枠はマスクの標準的な厚さより大きな厚さを有するマスクの一部である。別の態様では、本発明は、複数個の下寄り部分を含む支持体表面を用意する工程と、炎を支持するバーナを用意する工程であり、前記炎は前記バーナの反対側に炎先端を含むバーナを含む工程と、可撓性フィルムからなる細長いウェブの少なくとも一部分を支持体表面に対して接触させる工程と、バーナからの炎により前記フィルムを加熱して、複数個の下寄りの部分を覆う区域において前記フィルムに開口を作る工程と、を含む当該開口マスクを作製する方法を提供する。
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【課題】本発明の目的は、ダイヤモンド状炭素薄膜を、原子レベルで稠密な構造とすることで、そのガスバリア性能を高めることである。また、ダイヤモンド状炭素薄膜の可視光における着色を抑制することである。さらに、この薄膜をプラスチックフィルム、プラスチックボトル等のプラスチック成形体の表面に成膜することで、プラスチック成形体に高いガスバリア性を付与することである。
【解決手段】本発明に係るダイヤモンド状炭素薄膜は、ダイヤモンド状炭素にイオン性結合材料を含有させた組成を有し、且つ、ダイヤモンド状炭素とイオン性結合材料とにより形成される相を主相として有することを特徴とする。この薄膜を成膜する基板を、例えばプラスチックフィルムやプラスチックボトルとする。 （もっと読む）

【課題】炭素系膜を生産性良好に形成することができる真空アーク蒸着装置を提供する。
【解決手段】炭素系膜を形成するための、炭素を主成分とするカソード１１を真空アーク放電により蒸発させて炭素系膜を基材Ｗ上に形成する真空アーク蒸着装置。該装置は、１００アンペア程度以下の低アーク電流で真空アーク放電を維持するためにアーク電源１３とカソード１１との間のリアクタンス成分発生回路Ｒを有しており、アーク放電回路におけるリアクタンス成分発生のためのインダクタンスは１ｍＨ以上１０ｍＨ以下である。 （もっと読む）

【課題】 基板の表面に形成する薄膜に混入する還元作用を有するガスの量を抑制するとともに、基板の表面または基板の表面に形成する薄膜に与える損傷を抑制して基板の表面に結晶性の高い薄膜を形成することができる分子線エピタキシャル成長装置および分子線エピタキシャル成長方法を提供する。
【解決手段】 成長室１３の収容空間１２には、ウエハ１８を保持するマニピュレータ２１、分子線を発生する分子線源２２および液体窒素によって冷却されるシュラウド２３が設けられる。収容空間１２には、ウエハ１８が直接見込めない位置から、分子状態の水素ガスが導入される。収容空間１２に導入された水素ガスの分子は、シュラウド２３の表面に衝突しながら拡散する。収容空間１２に拡散された水素ガスを含む雰囲気において、分子線エピタキシャル成長を行い、ウエハ１８の表面に高品質な薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】同一の分子線材料を有する分子線セルを複数有する分子線エピタキシャル装置の稼動率を向上させ、かつ、成膜において高い再現性を実現する、分子線エピタキシャル装置の制御装置を提供する。
【解決手段】分子線エピタキシャル装置１００の制御装置１１８は、同一の分子線材料１０５を有する複数の分子線セル１０７について、各分子線セル１０７内の分子線材料１０５の残量を求める残量算出部４０５と、次回の成膜における各層での同一の分子線材料１０５の合計の消費量を等しくしたまま、上記各分子線セル１０７における設定を変更したものについて、次回の成膜後の当該各分子線セル１０７に残存する分子線材料１０５の予測消費時間を算出する予測消費時間算出部４０６と、上記予測消費時間の差が小さくなるように、次回の成膜での上記各分子線セル１０７における設定を決定するセル設定決定部４０７とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 不純物を低減して、リン分子を分子線として照射することができる分子線源および分子線源使用方法を提供する
【解決手段】 充填空間１１に赤リン材料を充填し、充填空間１１と精製空間１２とを連通させた状態で、充填部２１を第１気化温度ｔ１ｇに加熱して充填空間１１に存在する赤リンを昇華して、精製空間１２に白リンを凝縮する。次に精製空間１２と貯留空間１３とを連通させた状態で、精製部２２を第１気化温度ｔ１ｇよりも低い第２気化温度ｔ２ｇに加熱して精製空間１２に存在する白リンを気化して、貯留空間１３に白リンを凝縮する。このようにして貯留空間１３に生成した白リンを分子線の照射材料として用いて、リン分子線を照射する。 （もっと読む）

イオンビームスパッタリング法を用いて、表面に凹欠点を有する基板上にＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランクの多層反射膜を成膜する方法であって、前記基板をその中心軸を中心に回転させつつ、前記基板の法線と前記基板に入射するスパッタ粒子とのなす角度αの絶対値を３５°≦α≦８０°に保持してイオンビームスパッタリングを実施することを特徴とするＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランクの多層反射膜の成膜方法。
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