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Fターム[4K029DB04]の内容

物理蒸着 (93,067) | 蒸着装置 (6,894) | 蒸発材、蒸発物質 (2,872) | 材質 (2,352) | 合金 (221)

Fターム[4K029DB04]に分類される特許

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【課題】品質の低下が抑制された有機ELデバイスを製造し得る有機ELデバイスの製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】帯状の基材を長手方向に移動させつつ蒸着により該基材に有機EL素子の構成層を形成する有機ELデバイスの製造方法であって、前記基材を長手方向に移動させつつ、該基材の移動方向に沿って設けられた第1及び第2蒸着部にて、前記基材の一面に蒸着源から気化材料を吐出して順次蒸着を行う構成層形成工程を備え、該構成層形成工程は、複数の上向き蒸着工程と、方向変換工程とを備えている有機ELデバイスの製造方法。 (もっと読む)


【課題】ターゲットを高融点金属とし、このターゲットを処理対象物に成膜するときにグレインサイズや表面モホロジーを制御し得るスパッタリング方法を提供する。
【解決手段】ターゲット2として高融点金属製のものを用い、真空チャンバ1内でこのターゲットに処理対象物Wを対向配置し、所定圧力の真空チャンバ内にスパッタガスを導入し、ターゲットに所定の電力を投入して真空チャンバ内にプラズマを形成してターゲットをスパッタリングし、処理対象物の表面に上記高融点金属からなる金属膜を成膜する。スパッタリング中、処理対象物の全面に亘って垂直な静磁場を作用させることを特徴とするスパッタリング方法。 (もっと読む)


【課題】蒸着装置を用いた成膜技術において、蒸発源への蒸着材料の供給を容易とすることにより作業者への負担を低減し、また、蒸着膜の組成や厚さ等の再現性を向上させる。
【解決手段】坩堝11は、蒸発源の筐体の内部に固定された坩堝本体11Aと、坩堝本体11Aの内側に収納される坩堝材料室11Bと、から構成され、坩堝本体11Aは、主に、それぞれ所定の厚みを有する底面部11A1と側面部11A2と上面部11A3とから成り、坩堝材料室11Bは、主に、それぞれ所定の厚みを有する底面部11B1と側面部11B2f,11B2s,11B2s,11B2bとから成り、坩堝本体11Aの側面部11A2を設けていない開口領域から、坩堝材料室11Bを坩堝本体11Aの内側に出し入れすることができ、坩堝材料室11Bの側面部11B2fに、複数の吹き出しノズル12が設けられている。 (もっと読む)


【課題】金属層の剥離が発生する可能性が低く、信頼性の高い真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明の真空蒸着装置では、冷却機構を有し、ボート11からの金属蒸気の基材方向以外への飛散を防止する第1の防着板16と、第1の防着板16よりもボート11側に防着面を有し、ボート11からの金属蒸気の基材方向以外への飛散を防止するとともに脱着自在に配設された第2の防着板19とを備えた構成とした。この構成により、蒸着時に第2の防着板19はボート11からの輻射熱にて十分に熱を帯びた状態となっているため、金属蒸気は第2の防着板19の表面上では固化しにくく、第2の防着板19に蒸着金属が付着することはほとんどないものとなる。この結果、金属層の剥離の可能性が低減され、本発明の真空蒸着装置は信頼性の高いものとなっている。 (もっと読む)


【課題】基板をy方向に搬送しつつ蒸着によって成膜を行う際に、光源や受光器を成膜材料で汚染することなく、原子吸光法によって、y方向と直交するx方向の蒸着フラックスを測定する。
【解決手段】x方向に延在し、y方向に離間して配置される、x方向に延在する測定光透過領域を有し、前記蒸着による成膜空間と気密に分離される第1および第2の筒状部と、第1の筒状部において、光源をx方向に移動する光源移動手段、および、第2の筒状部において、光源の移動に同期して受光器をx方向に移動する受光器移動手段とを有することにより、前記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】 リチウム膜の性能の向上を実現しうるリチウム積層部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】真空チャンバー10内で、気相成長法により、基材フィルム21(基材)上にリチウム膜22を堆積させて、リチウム積層フィルム23(リチウム積層部材)を作成する。その後、リチウム膜積層フィルム23を電子デバイスの一部として利用するための処理を行う。リチウム積層フィルム23を収納する特定容器内の雰囲気を、不活性ガスと、COと、露点が−20℃未満となる水分とを含む特定雰囲気に調整する。特定容器としては、真空チャンバー10,作業室11,パスボックス12(中間室)などがある。これにより、リチウム膜を利用した電池の変色防止性能,保存特性,電池容量などの特性の向上が実現する。 (もっと読む)


【課題】高信頼性を備え且つより安定的に長期間使用可能な燃料電池セパレータ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】燃料電池セパレータ1は、基材3と基材3上に形成されるアモルファス合金層5とを備えたことを特徴とする。基材3は、金属又は導電性樹脂からなる。導電性樹脂は導電性プラスチックでもよい。アモルファス合金層5は積層された膜からなり、主成分は、ニッケル、鉄、クロム及びコバルトの何れかである。アモルファス合金層5の材料は、3つ以上の元素からなる金属ガラスでもよい。 (もっと読む)


【課題】高硬度鋼の高速切削加工において、硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン基サーメットで構成された工具基体の表面に、(Cr,Al,M)N(但し、Mは、ZrまたはHf)からなる硬質被覆層が蒸着形成された表面被覆切削工具において、該硬質被覆層は、粒状晶(Cr,Al,M)Nからなる薄層Aと柱状晶(Cr,Al,M)Nからなる薄層Bの交互積層構造として構成され、薄層Aおよび薄層Bはそれぞれ0.05〜2μmの層厚を有し、さらに、前記粒状晶の結晶粒径は30nm以下、また、前記柱状晶の結晶粒径は50〜500nmである。 (もっと読む)


【課題】高硬度鋼の高速高送り切削加工において、硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン基サーメットで構成された工具基体の表面に、(Cr,Al,B)Nからなる硬質被覆層が蒸着形成された表面被覆切削工具において、該硬質被覆層は、粒状晶(Cr,Al,B)Nからなる薄層Aと柱状晶(Cr,Al,B)Nからなる薄層Bの交互積層構造として構成され、薄層Aおよび薄層Bはそれぞれ0.05〜2μmの層厚を有し、さらに、前記粒状晶の結晶粒径は30nm以下、また、前記柱状晶の結晶粒径は50〜500nmである。 (もっと読む)


【課題】高硬度鋼の高速切削加工において、硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン基サーメットで構成された工具基体の表面に、(Cr,Al,V)Nからなる硬質被覆層が蒸着形成された表面被覆切削工具において、該硬質被覆層は、粒状晶(Cr,Al,V)Nからなる薄層Aと柱状晶(Cr,Al,V)Nからなる薄層Bの交互積層構造として構成され、薄層Aおよび薄層Bはそれぞれ0.05〜2μmの層厚を有し、さらに、前記粒状晶の結晶粒径は30nm以下、また、前記柱状晶の結晶粒径は50〜500nmである。 (もっと読む)


【課題】 高硬度鋼の高速断続切削加工において、硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性と耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】 炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン基サーメットで構成された工具基体の表面に、(Cr,Al,Ti,B)Nからなる硬質被覆層が蒸着形成された表面被覆切削工具において、該硬質被覆層は、粒状晶(Cr,Al,Ti,B)Nからなる薄層Aと柱状晶(Cr,Al,Ti,B)Nからなる薄層Bの交互積層構造として構成され、薄層Aおよび薄層Bはそれぞれ0.05〜2μmの層厚を有し、さらに、上記粒状晶の結晶粒径は30nm以下、また、上記柱状晶の結晶粒径は50〜500nmである。 (もっと読む)


【課題】蒸着時のスプラッシュの発生を抑制することが可能な蒸着用線材を提供することで信頼性の高い金属化フィルムコンデンサを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明における蒸着用芯材1は、アルミニウムとマグネシウムの合金からなる芯材2と、前記芯材2の外周面を被覆し、少なくとも前記アルミニウムと前記マグネシウムの酸化物からなる酸化層3とを備え、前記酸化層3の厚さを0.3μm以下とした。この結果、蒸着の際に酸化層3が溶融せず芯材2のみが蒸発することで発生するスプラッシュを抑制することができる。そして、本発明における蒸着用芯材1を用いて形成した金属化フィルムコンデンサの誘電体フィルムはスプラッシュによるダメージを受けることがなく、信頼性の高いものとなる。 (もっと読む)


【課題】ロール・ツー・ロール方式で樹脂フィルム上に反射膜を連続成膜する場合でも、蒸着状態を安定させ、膜組成の変動を防止し、反射率のバラツキを小さくすることができる反射膜形成用蒸着材を提供する。
【解決手段】質量%で、Inを0.2〜2.0%、Mg、Ca、Srから選ばれる少なくとも1種を合計で0.004〜0.01%含有し、残部がAgと不可避不純物からなる蒸着材により、ロール・ツー・ロール方式で連続走行させられる樹脂フィルムに連続的に反射膜を蒸着する。 (もっと読む)


【課題】 薄型の固体電解コンデンサの陽極体として好適な箔状の多孔質バルブ金属陽極体を製造する際に、高容量を可能にする膜厚の厚いスパッタ膜の形成に有効なメタルマスクを提供する。
【解決手段】 略方形で相似形の開口形状を有する貫通した開口部を備え、相似比が小さい方の開口形状を有する平面の開口部縁に、前記開口部の壁が張り出し部を形成している金属製板材で、相似比の大きな方の開口形状を有する平面が、被スパッタ材と接する側であることを特徴とするスパッタ用メタルマスク。 (もっと読む)


【課題】Ni基合金、Co基合金などの耐熱合金の高速切削条件下で、硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性、耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体表面に、1〜50nmの層厚の薄層Aと1〜50nmの層厚の薄層Bとが交互に積層された複層領域と、100〜500nmの層厚の単一層にて構成された単層領域との交互積層構造からなる硬質被覆層を蒸着形成した表面被覆切削工具において、薄層Aは、[Al1−x−yTiSi]N(xは原子比で0.15〜0.94、yは原子比で0.01〜0.15)層、薄層Bは、[Ti1−z]N(zは原子比で0.25〜0.75)層であって、単一層は、前記薄層Aまたは薄層Bと同一材種の層で構成する。 (もっと読む)


【課題】Ni基合金、Co基合金などの耐熱合金の高速切削条件下で、硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性、耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体表面に、1〜50nmの層厚の薄層Aと1〜50nmの層厚の薄層Bとが交互に積層された複層領域と、100〜500nmの層厚の単一層にて構成された単層領域との交互積層構造からなる硬質被覆層を蒸着形成した表面被覆切削工具において、薄層Aは、[Al1−X−YTiSi]N(Xは原子比で0.15〜0.94、Yは原子比で0.30〜0.80)層、薄層Bは、[Ti1−ZCr]N(Zは原子比で0.10〜0.90)層であって、単一層は、前記薄層Aまたは薄層Bと同一材種の層で構成する。 (もっと読む)


【課題】高硬度鋼の高速重切削加工条件下において、硬質被覆層がすぐれた密着性と潤滑性と耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】WC基超硬合金またはTiCN基サーメットで構成された工具基体の表面に、硬質被覆層として、下部層に(Al,Cr)N層または(Al,Cr,M)N層を形成し、上部層に立方晶構造のNbNと六方晶構造のNbNの混合組織からなり、かつ、該混合組織についてX線回折による回折ピーク強度を調査したとき、立方晶構造のNbNの(200)面からの回折ピーク強度をIc、また、六方晶構造のNbNの(103)面と(110)面からの回折ピーク強度をIhとした場合、0.05≦Ic/Ih≦1.0を満足する回折ピーク強度比を有する層を形成した表面被覆切削工具。 (もっと読む)


【課題】蒸発面の内側領域において、局部的な集中をなくして全体に均等にアークスポットが移動することにより、蒸発源が均等に消耗し、利用効率がよくなるアークイオンプレーティング装置を提供する。
【解決手段】蒸発源5の端面から内方に所定幅の端部領域を除く内側領域表面の磁束密度が7〜10mTであり、端部領域表面の磁束密度が内側領域表面の磁束密度よりも3mT以上大きく、蒸発面11における磁力線は、蒸発面の法線に対する角度θが0°<θ<20°であり、端部領域表面では内側領域に向けて傾いており、内側領域の磁束密度は、標準偏差が3以下である。 (もっと読む)


【課題】Ti合金、高硬度ステンレス鋼、Ni基耐熱合金などの高硬度難削材の高速高送り切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐熱性および耐溶着性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に、(a)組成式:(Al1−αCrα)Nあるいは組成式:(Al1−α−βCrαβ)N(但し、Mは、Al、Crを除く周期律表4a,5a,6a族の元素、Si、B、Yのうちから選ばれた1種又は2種以上の添加成分を示し、原子比で、0.45≦α≦0.75、0.01≦β≦0.25)を満足するAlとCr(とM)の複合窒化物層からなるAlCr(M)N薄層、(b)組成式:(V1−γγ)N(但し、原子比で、0.01≦γ≦0.1)を満足するVとYの複合窒化物層からなるVYN薄層、前記(a)、(b)の交互積層からなる硬質被覆層を形成した表面被覆切削工具。 (もっと読む)


【課題】Ni基合金、Co基合金などの耐熱合金の高速切削条件下で、硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性、耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体表面に、1〜50nmの層厚の薄層Aと1〜50nmの層厚の薄層Bとが交互に積層された複層領域と、100〜500nmの層厚の単一層にて構成された単層領域との交互積層構造からなる硬質被覆層を蒸着形成した表面被覆切削工具において、薄層Aは、[Al1−X−YTiSi]N(Xは原子比で0.15〜0.94、Yは原子比で0.01〜0.15)層、薄層Bは、[Al1−ZCr]N(Zは原子比で0.30〜0.80)層であって、単一層は、前記薄層Aまたは薄層Bと同一材種の層で構成する。 (もっと読む)


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