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Fターム[4K029DB05]の内容

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Fターム[4K029DB05]に分類される特許

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【課題】分光特性の再現性が良く、さらに帯電抑制を図る。
【解決手段】光学フィルタ1には、透明基板2と、透明基板2上に形成されたフィルタ群3とが備えられている。フィルタ群3は、IAD蒸着法により形成された高屈折率材料からなる第1薄膜31と、EB蒸着法により形成された低屈折率材料のSiO2からなる第2薄膜32とが交互に複数積層されてなる。 (もっと読む)


【課題】蒸着時の突沸を防止して膜上のパーティクルを低減すると同時に、蒸着材料の使用効率を向上させる装置を提供する。
【解決手段】電子ビーム蒸着装置において、蒸着材料が充填される坩堝、前記蒸着材料に電子ビームを照射して該蒸着材料を蒸発させるための電子銃、及び前記坩堝に対向して配置され、蒸発した前記蒸着材料が成膜される基板を保持する基板保持部を備え、前記電子ビームの出力電力が1.2〜3.0kWの範囲で、前記成膜の条件に基づいて加速電圧が数値2kV以上〜6kV未満の範囲で設定されるよう構成した。 (もっと読む)


【課題】 スパッタ法により良好にNa添加されたCu−In−Ga−Seからなる膜を成膜可能なスパッタリングターゲット及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 Cu,In,GaおよびSeを含有し、さらに、NaF化合物、NaS化合物、又はNaSe化合物の少なくとも1種の状態でNaが、Na/(Cu+In+Ga+Se+Na)×100:0.05〜5原子%の割合で含有され、酸素濃度が、200〜2000重量ppmであり、残部が不可避不純物からなる成分組成を有する。 (もっと読む)


【課題】高精細で高輝度の表示性能を備え、かつ低消費電力のプラズマディスプレイパネルを実現することを目的とする。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネルは、保護層を形成した前面板と、前記前面板に対向配置した背面板とを備え、前記保護層は、酸化マグネシウムと酸化カルシウムからなる金属酸化物により形成され、前記保護層は、アルミニウムを含み、前記保護層面におけるX線回折分析において、酸化マグネシウムの結晶方位面(111)ピークが発生する回折角と、当該ピークと同一方位の前記酸化カルシウムのピークが発生する回折角との間にピークが存在するとともに、前記保護層のカルシウムの濃度を3atom%以上15atom%以下である。また前記保護層のアルミニウムの濃度は、重量比率で100ppm以上200ppm以下であることが望ましい。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ドロップレットが少なく、表面凹凸の少ない膜を基材上に形成する技術の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、ターゲットから構成粒子を叩き出し若しくは蒸発させるパルス状レーザー光を出射するアブレーション用第1のレーザー光源と、第1のレーザー光源がターゲットの表面にレーザー光を集光照射した領域とその領域周辺をスポット加熱する連続波レーザー光を出射する第2のレーザー光源とを処理容器の外部に備えた成膜装置を用い、第2のレーザー光源からターゲットの表面に処理容器に設けた照射窓を介し連続波レーザー光を集光照射してアブーション領域とその周辺領域のターゲット表面の温度を上昇させ、第1のレーザー光源からアブレーション領域に処理容器に設けた照射窓を介しパルス状のレーザー光を集光照射して基材上に成膜することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高い成膜速度を確保した上で、透明性及び高バリア性を付与し、蒸着材料から発生する突沸やスプラッシュなどによりフィルムがダメージを受けることを最小限に抑えることを可能とする真空成膜装置およびガスバリア性積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】真空成膜装置30は、基材の一方の面に蒸着法によって薄膜を形成する真空成膜装置であって、蒸着材料を蒸発させる蒸発手段である電子ビーム銃20と、蒸発した蒸着材料を活性化させるためのプラズマを発生させるプラズマ発生手段であるホローカソード放電を用いたホローカソードガン18と、蒸着材料と基材との間に設置された異物捕捉手段である異物ガード24とを具備する。 (もっと読む)


【課題】バリア性に優れた窒化酸化珪素膜を形成可能にしたガスバリア性フィルムの製造方法およびガスバリア性フィルムを提供する。
【解決手段】プラスチック基材11と、プラスチック基材11の両面または一方の面に設けた窒化酸化珪素膜13とを備えるガスバリア性フィルムの製造方法であって、窒化酸化珪素膜13が、窒化珪素と、珪素、一酸化珪素、二酸化珪素のうち一種類以上とを含む蒸着材料を用いた真空蒸着法により形成され、成膜中の真空槽内の圧力が0.10Pa以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】スパッタリングターゲットに利用された場合には異常放電等が抑制され、蒸着用タブレットに利用された場合にはスプラッシュ現象が抑制されるZn-Si-O系酸化物焼結体とその製法等を提供する。
【解決手段】酸化亜鉛を主成分とし、Siを含有するZn-Si-O系酸化物焼結体であって、Siの含有量が、Si/(Zn + Si)原子数比で0.1〜10原子%であり、Si元素がウルツ鉱型酸化亜鉛相に固溶していると共に、SiO2相および珪酸亜鉛(Zn2SiO4)であるスピネル型複合酸化物相を含有していないことを特徴とする。上記焼結体の製法は、原料粉末であるZnO粉末とSiO粉末から得られた造粒粉を成形し、その成形体を焼成して上記焼結体を製造する際、700〜900℃の温度域を昇温速度5℃/分以上の速さで昇温させる工程と、成形体を焼成炉内において900℃〜1400℃で焼成する工程を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ZnO膜の成膜時にスプラッシュの発生を防止することができる、ZnO蒸着材を提供する。
【解決手段】ZnO蒸着材は、ZnOの多孔質焼結体からなり、その焼結体が0.2以上3.0%未満の気孔率とすることで、内部に存在するガスを著しく減少させることができ、0.1〜300μmの範囲の平均気孔径をとすることで、蒸発速度を高くすることが可能となり、製造コストを低減することができる。ZnO膜は、上記ZnO蒸着材を用いて形成される。 (もっと読む)


【課題】結晶配向性が良好なCeOのキャップ層を備えた酸化物超電導導体用基材を低コストで製造できる製造方法、及びこれを用いて製造された酸化物超電導導体用基材並びに酸化物超電導導体の提供。
【解決手段】本発明の酸化物超電導導体用基材の製造方法は、YAGレーザ光の第3高調波(波長355nm)、第4高調波(波長266nm)、第5高調波(波長213nm)のいずれかを、ターゲット上でのエネルギー密度が6J/cm以上となるように該ターゲット上に照射して、このターゲットの構成粒子を叩き出し若しくは蒸発させ、前記構成粒子を基材の上方に形成された中間層の表面上に堆積させて、該中間層上にCeOのキャップ層を形成することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】生産性向上のために高い出力での電子ビーム加熱蒸着法を利用した場合でもスプラッシュ現象を抑制でき、高いガスバリア性の蒸着フィルムを得る。
【解決手段】金属珪素と、二酸化珪素と、金属マンガンもしくは酸化マンガン粉末とを含有し、珪素とマンガンの合計の原子数と、酸素の原子数の比(O/(Si+Mn))が1.0〜1.8であり、マンガンと珪素の原子数の比(Mn/Si)が0.05〜0.45である蒸着用材料を、電子ビーム加熱方式により蒸発させ、高分子フィルム基材1上に無機酸化物膜2を成膜し、ガスバリア性蒸着フィルムを得る。 (もっと読む)


【課題】本発明は、電解質との界面抵抗を低減した正極活物質を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、(111)面が優先的に形成されたLiMn系薄膜からなることを特徴とする正極活物質を提供することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】構成が簡単なプラズマ成膜方法及びプラズマ成膜装置、より具体的には、危険な原料ガスを用いる必要がなく、高速に成膜が可能なプラズマ成膜方法及びプラズマ成膜装置を提供することを目的とする。
【解決手段】誘導結合型プラズマトーチユニットTには、ソレノイドコイル31が、石英管4の内部に配置され、その周囲に真鍮ブロック5が配置されている。筒状チャンバ内にガスを供給しつつ、ソレノイドコイル31に高周波電力を供給して、筒状チャンバ内にプラズマを発生させる。誘導結合型プラズマトーチユニットTと基材2間に設置したシリコン材料にプラズマが照射することで、基材2にシリコン系薄膜を成膜する。 (もっと読む)


【課題】スパッタリングターゲットや蒸着用タブレットとして利用され、成膜中にクラック等が発生し難いZn−Sn−O系酸化物焼結体とその製法を提供する。
【解決手段】上記酸化物焼結体は、錫がSn/(Zn+Sn)の原子数比として0.01〜0.6含有され、焼結体中における平均結晶粒径が4.5μm以下で、CuKα線を使用したX線回折によるZnSnO相における(222)面、(400)面の積分強度をそれぞれI(222)、I(400)としたとき、I(222)/[I(222)+I(400)]で表される配向度が0.52以上であることを特徴とする。この酸化物焼結体は機械的強度が改善されているため、焼結体を加工する際に破損が起こり難く、スパッタリングターゲット若しくは蒸着用タブレットとして使用された際においても透明導電膜の成膜中に焼結体の破損やクラック発生が起こり難い。 (もっと読む)


【課題】スプラッシュ現象の発生を抑制し、高いガスバリア性を付与できる蒸着用材料と、その蒸着用材料を用いたガスバリア性蒸着フィルムの製造方法と、その蒸着用材料を用いて蒸着したガスバリア性蒸着フィルムとを提供する。
【解決手段】蒸着用材料は、金属珪素粉末と二酸化珪素粉末と金属銅粉末もしくは酸化銅粉末とを含有した加熱方式の蒸着用材料であって、珪素と銅の合計の原子数に対する酸素の原子数の比が1.0以上1.8以下の範囲内であり、珪素の原子数に対する銅の原子数の比が0.05以上の範囲であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】真空計への成膜材料の付着を抑制し、真空計の機能の低下を回避することが可能な成膜装置を提供すること。
【解決手段】基板に成膜材料を成膜する成膜装置において、基板が通過する真空環境を形成する真空容器123と、真空容器123内の真空度を測定する真空計1と、真空計1への付着を抑制する付着抑制手段10とを備える構成とする。このように、真空計1への成膜材料の付着を抑制する付着抑制手段10を備える構成とすることで、真空計1への成膜材料の付着を抑制し、真空計1の機能の低下を緩和することができる。 (もっと読む)


【課題】種結晶の側面や表面外周部からの原子の脱離を抑えることができ、高品質な単結晶の作製が可能な単結晶の製造方法を提供すること。
【解決手段】単結晶の製造方法は、種結晶9が固定された坩堝蓋8で密閉される坩堝7内に原料6を配置して、原料6を昇華させて単結晶を製造する単結晶の製造方法であって、坩堝蓋8に固定された種結晶9の露出面を覆うように、予め、種結晶9が昇華しない温度領域で結晶薄膜15を形成する成膜工程と、結晶薄膜15が形成された坩堝蓋8で坩堝7を密閉して、原料6を昇華させて単結晶を成長させる成長工程と、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】塊状に変容した蒸着材料の残滓を複雑な機構や専用のアクチュエータを用いることなく、自動的に簡便に除去する。
【解決手段】リング状のターンテーブル5の上面に円環状の溝7を形成する。供給装置12により溝7の中に顆粒状の蒸着材料10を一定量ずつ供給する。ターンテーブル5を回転させ、エリア5bに供給された蒸着材料10を蒸発位置Bで蒸発させ成膜を行う。一層目の成膜の後、ターンテーブル5を回転させ、エリア5bを休止位置Cに移動する。蒸発位置Bと休止位置Cとの間に、ターンテーブル5の移動路を横切るようにトラップ手段24が設けられ、櫛歯状に並列させた複数本のアーム25が塊状になった材料残滓をターンテーブル5の上から排除する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、高蒸着速度の電子ビーム物理的蒸着による燃料電池用の固体酸化物電解質を提供し、さらにこの固体酸化物電解質を使用した燃料電池を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、高蒸着速度の電子ビーム物理的蒸着による燃料電池用の固体酸化物電解質であって、柱状酸化物微細構造を有している。前記酸化物電解質は、前記燃料電池のアノードとカソードとを気体密封するに十分に高密である。アノードと、カソードと、前記アノードと前記カソードとの間の酸化物電解質とからなる燃料電池であって、前記酸化物電解質は、複数の酸化物柱からなる微細構造を有する。前記酸化物柱は、前記アノードおよび前記カソードの対向面に対して直角の方向に延長している。 (もっと読む)


【課題】 層間剥離を生じること無く、またクラックやピンホールが生じないようにすることを可能とした、ハードコートフィルムやガスバリアフィルムを得ることの出来る樹脂層積層体、及びこれを用いた高機能性を有したハードコートフィルムやガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】 基材となるプラスチックフィルムの表面に樹脂層を形成してなる樹脂層積層体であって、前記樹脂層を構成する樹脂が、ポリシラザン系樹脂とシラン化合物系樹脂との混合物であること、を特徴とする。 (もっと読む)


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