【課題】１回の工程で２種以上の蒸着材料を対象物に蒸着させることができ、蒸着対象物側と表面側とで蒸着材料の濃度の傾斜特性を有する蒸着膜を形成することができる蒸発源の形成方法、光学部材の製造方法及び光学部材を提供する。
【解決手段】異なる２種以上の蒸着材料を積層してなる蒸発源の一方の側から加熱し、対象物に蒸着させ蒸着膜を形成する蒸着膜の形成方法、前記対象物が光学部材であり、該光学部材上に前記方法により蒸着膜を形成する光学部材の製造方法、この方法によって製造されてなる光学部材である。 （もっと読む）

【課題】生産安定性が高く、緻密でガスバリア性の高いガスバリア膜を成膜できるイオンプレーティング用蒸発源材料の原料粉末等を提供する。より具体的には、イオンプレーティング法に適したイオンプレーティング用蒸発源材料の原料粉末、イオンプレーティング用蒸発源材料及びその製造方法、ガスバリア性シート及びその製造方法を提供することにある。
【解決手段】平均粒径が５μｍ以下の窒化ケイ素又は酸窒化ケイ素１００重量部に対して、平均粒径が５μｍ以下の導電性材料を５重量部以上１００重量部以下含有する原料粉末により、上記課題を解決する。導電性材料が、導電性を有する、金属酸化物、金属窒化物、及び金属酸窒化物から選ばれる少なくとも１つであることが好ましい。本発明のイオンプレーティング用蒸発源材料は、上記の原料粉末を焼結又は造粒させて平均粒径が２ｍｍ以上の塊状粒子又は塊状物に加工したものである。 （もっと読む）

本発明は、基材が次々と少なくとも１つのプラズマ処理ゾーンを通り搬送される、１つ又は複数の鋼製品を含む連続基材のプラズマ処理用の方法及びシステムであって、処理ゾーン内でプラズマを発生させるための電力が、基材がこのゾーンを通過しているときこの処理ゾーン内に存在する基材の面積に応じて変化することを特徴とする方法及びシステムに関する。
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【課題】るつぼや冷却水が不要となり、構造を簡素化するとともに、投入エネルギを低減し、更に成膜時におけるスプラッシュの発生を防止する。
【解決手段】チャンバ１４内で基板１１に対向して設けられた蒸着材１３から粒子１７を蒸発させて基板表面に堆積させることにより基板表面に保護膜を形成する。上記蒸着材をチャンバ内で固体のまま露出した状態で宙に浮かせる。具体的には、蒸着材が中心に孔を有する円板である。先ず複数個の蒸着材を一本のロッドにそれぞれ孔を嵌入させることによって一列に配置させる。次に複数個の蒸着材を配置させたロッドをチャンバ内に挿入して水平に保持する。更にこのロッド先端に配置された蒸着材の外周面にビーム１６を照射して蒸着材から粒子を蒸発させ、ロッド先端に配置された蒸着材が消費されると次に配置された蒸着材をロッド先端に移動させる。 （もっと読む）

【課題】ＲＧＢの発光色ごとに有機ＥＬ素子の発光層を塗り分けるためのパターニング方法として、蒸着マスクを用いた真空蒸着法は表示装置の大型化に向かず、レーザー熱転写法は製造装置のコストが高いという欠点があった。
【解決手段】ガラス基板１２上にストライプ状に形成された第１電極パターン１３と、第１電極パターン１３と交差するようにガラス基板１２上にストライプ状に形成された第２電極パターン１４と、第１電極パターン１３と第２電極パターン１４の交差部に設けられた抵抗加熱層１５とを備える蒸発源１１を用いて、有機材料からなる蒸発材料層２５が形成されたガラス基板１２と素子形成用基板３とを重ね合わせて、第１電極パターン１３と第２電極パターン１４に所定の電圧を印加することにより、それらの交差部に設けられた抵抗加熱層１５に発生するジュール熱で有機材料を昇華させ、素子形成用基３板上に有機膜を形成する。 （もっと読む）

本発明は、本体基部と、それに適用される単層又は複数層の被覆物とを有する切削工具に関する。本発明によれば、先行技術に対して改良された切削工具を提供するために、その被覆物が少なくとも二つの異なる金属酸化物相を含む少なくとも一つの二相又は多相の層を含み、その少なくとも一つの二相又は多相の層が導電性であることが提案される。
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【課題】材料の利用効率が高く、膜厚及び膜質の均一性が高い膜を形成する成膜方法を提供する。
【解決手段】蒸着源基板の一主表面上に蒸着材料を含むバインダ材料層を形成し、該バインダ材料層と一主表面が対向するように被成膜基板を配置し、蒸着源基板の裏面を加熱処理することでバインダ材料層中の蒸着材料を加熱して昇華等させることで、被成膜基板に蒸着材料の層を形成する。蒸着材料を低分子材料とし、バインダ材料を高分子材料とすることで、粘度の調整が容易であり、従来よりも高いスループットで成膜することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】ハード磁気ディスクに潤滑剤蒸気を塗布する方法および装置を提供する。
【解決手段】潤滑剤コーティングを、潤滑剤蒸気の状態で、ディスク１８と蒸気になるよう加熱される液体のためのリザーバ２４との間の潤滑剤蒸気の流路内に配置するディスク１８に塗布する。この流路は、リザーバ２４と、開孔を有するディフューザ３０との間における蒸気チャンバ２６と、流路を選択的にかつ同時に開放および遮蔽するシャッタ２８とを備える。シャッタ２８を閉じている間に、潤滑剤蒸気は蒸気チャンバ２６内に閉じ込める。シャッタ２８が開いている間に、潤滑剤蒸気は流路を経てリザーバ２４からホルダ１６に流れる。流路内のディスク１８への塗布における長期間にわたるアイドル期間中、シャッタ２８を閉じ蒸発熱を液体潤滑剤に加え、それにより蒸気チャンバ２６内の圧力がリザーバ２４内の液体の量をほぼ一定を維持するようにする。 （もっと読む）

【課題】
真空内で基板上にコーティングを形成するためのアセンブリを提供する。
【解決手段】
本発明は、真空内で基板にコーティングを形成するアセンブリに関する。当該アセンブリによると、カソードとして接続されている１つのターゲット上で少なくとも、電気アーク放電を発生させることによってプラズマが生成される。アーク放電は、アノードとターゲットとの間において、窓を通してターゲット表面に方向づけられている偏向可能な集束レーザビームによって発生させられる。本発明は、真空チャンバの窓領域に形成される望ましくないコーティングを大幅に低減するための技術的解決法を提供することを目的とする。本発明によると、このような構成とすることによって、永久磁石または電磁石が、窓と、少なくとも１つのターゲットとの間において、レーザビームの光軸に対して隣接して、上方、または、下方に配設され、レーザビームは、永久磁石または電磁石によって発生させられる磁界によって誘導される。 （もっと読む）

【課題】蒸着材の加熱時に熱歪みの逃げ場がなく発生する蒸着材中の熱応力により蒸着材にクラックが生じ、このクラックを起点に蒸着材の一部が破損して破損微粒子が飛び散り、スプラッシュが発生する。該スプラッシュの発生しない蒸着材を提供する。
【解決手段】多孔質焼結体からなる円板状のＺｎＯ蒸着材１０で、この蒸着材１０には、中央に断面円形の貫通孔が形成される。この貫通孔１１の直径は蒸着材１０の外径の１０〜５０％である。 （もっと読む）

【課題】ガラス転移点（Ｔｇ）が低い通常の多成分系ガラスであっても、高い被覆率でダイヤモンド薄膜を合成するダイヤモンド薄膜の合成方法及びガラス基板にダイヤモンドの薄膜が積層してなる複合体を提供する。
【解決手段】多成分系ガラスからなるガラス基板にダイヤモンドの薄膜が積層してなる複合体であって、ガラス基板が多成分系ガラスであり、かつダイヤモンドの被覆率が５０％以上である複合体であって、上記ダイヤモンド薄膜の合成方法は、（Ａ）内部に加熱手段を有する密閉されたチャンバ内に水素及びダイヤモンド薄膜の炭素源としての液体炭素源を導入する工程、（Ｂ）前記加熱手段にて加熱し、液体炭素源から炭素を蒸発させてガラス基板上にダイヤモンドとして析出させる工程を有する。 （もっと読む）

【課題】大電流放電を行ってアークを安定して蒸発面上所定のエリアに閉じ込め制御可能とする真空アーク蒸発源を提供する。
【解決手段】 柱状蒸発物質の蒸発面を含む領域に磁界を形成して放電する真空アーク蒸発源であって、柱状蒸発物質の蒸発面における柱状蒸発物質の軸方向に伸びる略長円状の放電電圧の低い放電領域にアークスポットを閉じ込めるように、磁力線の角度を設定する磁場発生源と、２００Ａ以上のアーク電流値を設定するアーク電源とを備えている。 （もっと読む）

本発明の主題は、レーザアブレーションにもとづくコーティング方法であって、基材とアブレーションされるターゲットとの間の距離が例外的に小さいコーティング方法に関する。この短い距離は、基材のコーティングを、工業的規模においても、好ましくは低真空あるいは非真空の雰囲気のもとですら可能にする。本発明は、あらゆる大型サイズの物体または種々の形状を有する物体の最適なコーティングに関して好ましい。
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本発明は、物体を１つ以上の表面によってコーティングするためのレーザアブレーション方法であって、コーティング対象の物体、すなわち基材を、コーティング対象の物体へと蒸着される表面の一様性が±１００ｎｍとなるように、ターゲットをアブレーションすることによってコーティングする方法に関する。コーティングされた物体の表面は、有利にはミクロンサイズの粒子が存在せず、典型的には個々の粒子のサイズが最大でも±２５ｎｍであるであるナノテクノロジー表面である。さらに、物体は、前記方法によって製造される製品に関する。
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【課題】 良好な膜質の薄膜を形成することができる成膜装置の提供。
【解決手段】
ターゲット１１を保持するターゲットホルダ１０と、ターゲットホルダ１０を回転可能な回転機構８０と、成膜用基板２１を保持する基板ホルダ２０と、電子線を発生する電子線発生装置３０と、電子線収束装置４０と、レーザ光照射装置５０とを備えた回転ターゲット式成膜装置である。電子線収束装置４０は、回転機構８０により回転するターゲット１１に対して、電子レンズを形成することにより電子線発生装置３０から発生された電子線を収束させ、もってターゲット１１の少なくとも一部を液体化する。レーザ光照射装置５０は、液体化されたターゲット１１の少なくとも一部にレーザ光を照射してアブレーションを行う。 （もっと読む）

【課題】 真空蒸着装置のホットプレート型蒸発源に関し、蒸発材料中に含まれた余分な成分、分解物、溶剤、ガス等が被蒸着基板に蒸着されるのを防止する。また、蒸発材料が蒸発源に固着し蒸発レートが変化するのを防止する。
【解決手段】 真空容器７０内に略階段状に配置した複数の傾斜板３０、４０、５０と、前記各傾斜板を加熱する加熱手段９１、９２、９３と、前記最上段に位置する傾斜板３０の上端側近傍に配設した蒸発材料供給ノズル１０とからなり、蒸発材料８１が前記各傾斜板の上面を流動する間に蒸発材料８１を蒸発させる構成。また、予熱部廃棄部、メイン蒸発部、老廃物廃棄部の３つのゾーンと加熱手段とを備えたフード２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃを傾斜板の上方に配設した。 （もっと読む）

【課題】 複雑な蒸着パターンを形成可能で、蒸着パターンの精度を向上できる蒸着パターン形成方法及び蒸着パターン形成装置を実現する。
【解決手段】 蒸着パターン形成装置１０は、蒸着源基板１４の上面に収容部材１１を取り付けて構成される。蒸着源基板１４は、収容部材１１を加熱するためのヒータ１２を支持基板１３の上面に取り付けて構成される。収容部材１１の上面１１ｂには、半導体基板に形成する所定の蒸着パターンと対応した形状に開口した開口面１１ｄが形成されている。半導体基板３１の基板面３１ａを、収容部１１ａに金属ナノ粒子２１が収容された収容部材１１の開口面１１ｄに対向させて配置し、収容部材１１をヒータ１２により加熱すると、金属ナノ粒子２１は収容部１１ａの内部で蒸発し、開口面１１ｄを通じて基板面３１ａに蒸着され、所定の蒸着パターン３２が形成される。 （もっと読む）

【課題】 単結晶炭化ケイ素（ＳｉＣ）のマイクロパイプ欠陥を短時間で修復することに加えて、不純物原子をイオン注入した多結晶炭化ケイ素（ＳｉＣ）基板をソースとして半導体単結晶炭化ケイ素（ＳｉＣ）膜を気相エピタキシャル成長することを可能とし、ＳｉＣ高耐圧半導体が高い歩留まりとスループットで生産可能となる方法を提供する。
【解決手段】 表面にドーパントをイオン注入した前記多結晶ＳｉＣ基板１９に対し、単結晶炭化ケイ素（ＳｉＣ）基板５を近接又は密接させて密閉容器に収納して、１，６００℃〜２，１００℃（好ましくは１，７００℃〜１，９００℃）の高温に短時間で加熱して熱処理する。単結晶炭化ケイ素（ＳｉＣ）基板５と多結晶ＳｉＣ基板１９との距離（隙間ｇの大きさ）は、密接から０．６ｍｍ以下が好ましく、０．１ｍｍ以上０．３ｍｍ以下が更に好ましい。 （もっと読む）

【課題】 連続的に蒸着トレーにアルカリ金属やアルカリ土類金属を供給でき、取扱いが
容易な蒸着材と蒸着材の使用方法、製造方法を提供する。
【解決手段】 酸化が激しく取扱い難いアルカリ金属やアルカリ土類金属を、芯材として
金属外装材で覆うことで取扱いが容易になる。蒸着機内で外装材から芯材を蒸着トレーに
押し出して供給することで、抵抗加熱や電子ビーム加熱も可能となる。芯材を連続的に供
給することで長時間の蒸着作業が可能となる。 （もっと読む）

【目的】成膜対象基板の所望する部位に成膜材料を成膜する際に、マスクの位置合わせや、レーザ走査位置の位置合わせを不要とし、容易な成膜処理を実現する。
【構成】成膜対象となる基板にレーザ光を照射して成膜材料をアブレーションさせて成膜対象基板の成膜対象面に溶射する成膜方法にて、成膜材料から成るターゲット基板と、成膜対象となる基板の成膜面との間にあらかじめ形成すべき成膜パターンに対応した間隙寸法差を形成し、その寸法差による成膜条件の違いを利用して、パターニングを行う。 （もっと読む）