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【課題】蒸発材料の、蒸着対象物に対向する対向面内で、蒸発流密度の分布を均一にすることができる真空蒸着装置、これに用いられる電子銃及びその蒸着方法を提供すること。
【解決手段】真空蒸着装置100では、メインコントローラ14及び/または電子銃ドライバ59により、電子ビームBが、蒸発材料10の上面10aの外形にしたがって揺動するように、揺動コイル62が制御される。これにより、電子ビームが、その上面10a全体に均一に入射される。したがって、蒸発材料10の上面10aからの蒸発流分布(蒸発流密度)を均一にすることができる。その結果、成膜レートの安定化を図ることができ、基板Wに形成される蒸着膜の膜厚分布を均一にすることができる。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、蒸着用マグネシウムペレットの突沸を防止することができ、安定した蒸着レートを維持できるマグネシウムの蒸着方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 本発明は、マグネシウム塊体と前記塊体の表面を覆う酸化マグネシウム被膜とを有する被包ペレットの、前記マグネシウム塊体の一部又は全部を露出させる露出工程と、前記露出工程を経て得られたペレットを加熱してマグネシウムを被着体に蒸着させる蒸着工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】スパッタリングターゲットに利用された場合には異常放電等が抑制され、蒸着用タブレットに利用された場合にはスプラッシュ現象が抑制されるZn-Si-O系酸化物焼結体とその製法等を提供する。
【解決手段】酸化亜鉛を主成分とし、Siを含有するZn-Si-O系酸化物焼結体であって、Siの含有量が、Si/(Zn + Si)原子数比で0.1〜10原子%であり、Si元素がウルツ鉱型酸化亜鉛相に固溶していると共に、SiO2相および珪酸亜鉛(Zn2SiO4)であるスピネル型複合酸化物相を含有していないことを特徴とする。上記焼結体の製法は、原料粉末であるZnO粉末とSiO粉末から得られた造粒粉を成形し、その成形体を焼成して上記焼結体を製造する際、700〜900℃の温度域を昇温速度5℃/分以上の速さで昇温させる工程と、成形体を焼成炉内において900℃〜1400℃で焼成する工程を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】構成が簡単なプラズマ成膜方法及びプラズマ成膜装置、より具体的には、危険な原料ガスを用いる必要がなく、高速に成膜が可能なプラズマ成膜方法及びプラズマ成膜装置を提供することを目的とする。
【解決手段】誘導結合型プラズマトーチユニットTには、ソレノイドコイル31が、石英管4の内部に配置され、その周囲に真鍮ブロック5が配置されている。筒状チャンバ内にガスを供給しつつ、ソレノイドコイル31に高周波電力を供給して、筒状チャンバ内にプラズマを発生させる。誘導結合型プラズマトーチユニットTと基材2間に設置したシリコン材料にプラズマが照射することで、基材2にシリコン系薄膜を成膜する。 (もっと読む)


【課題】インライン方式で溶液の状態の蒸着材料を用いて真空蒸着する場合、形成される膜の膜質の劣化の防止が困難である。
【解決手段】蒸着チャンバ10、隔壁40で隔てられた副チャンバ20、隔壁を貫通して蒸着チャンバから副チャンバへ移動可能に設けられた蒸着材料供給ベルト30、蒸着材料溶液を副チャンバ中において蒸着材料供給ベルト上に供給する蒸着材料溶液供給部(34)、蒸着チャンバ内の蒸着材料供給ベルト上の蒸着材料が気化するように加熱する加熱部33、成膜対象物1の保持搬送部を有し、副チャンバにおいて蒸着材料溶液供給部から供給された蒸着材料溶液のうちの蒸着材料を蒸着材料供給ベルト上に残して溶媒を蒸発させて分離し、蒸着チャンバにおいて加熱部で加熱された蒸着材料を気化して得られた蒸着材料の蒸気を成膜対象物に噴出して堆積させ、蒸着材料の膜を形成する構成とする。 (もっと読む)


【課題】真空状態の容器内で蒸発源を放電させて処理物の表面に薄膜を生成する際の成膜効率を簡易な構成で向上させることの可能な、成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】成膜装置は、真空状態の容器21内で蒸発源を放電させることにより、容器21内の処理物Wの表面を、蒸発源から放出されて電荷を帯びた膜材粒子で被覆し、処理物Wの表面に薄膜を生成するものであって、筒状の容器21は、蒸発源に用いられる素材で形成される。 (もっと読む)


【課題】超臨界流体により所望の有機薄膜を形成し得る成膜装置及び成膜方法を提案する。
【解決手段】成膜装置1では、ノズル36の先端開口部36aを基板31の表面近傍に配置し、超臨界流体と基板31との温度差により発生させた過飽和のアントラセンが粉体化する前に基板31の表面に到達させるようにしたことにより、アントラセンが粉体化することなく過飽和状態のアントラセンを基板31の表面にて析出させ堆積させることができ、かくして、超臨界流体により所望の有機薄膜60を形成し得る。 (もっと読む)


【課題】蒸着材料を溶媒に溶かしてなる液体材料から溶媒を確実に除去して蒸着を行うことで、この溶媒による基板の汚染を防止し、高品質の蒸着膜を得ることができる真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】有機液体材料Lを、蒸発装置2で有機溶媒を除去した上で蒸発させて蒸発材料とし、これを真空容器4内の基板Kに導き蒸着させる真空蒸着装置1であって、蒸発装置2が、有機液体材料Lが充填されて蒸発溶媒の排出口22が形成された蒸発容器20と、有機溶媒のみが蒸発して蒸着材料が蒸発しない温度に設定し得る蒸発用ヒータ18と、排出口22に第2開閉弁12を介して接続された蒸発室用真空ポンプ15と、流量調整弁16とを有し、蒸発装置2が、流量調整弁16を閉にすると共に、蒸発容器20内の有機溶媒のみを蒸発用ヒータ18で蒸発させた後、第2開閉弁12を開にして上記ポンプ15で蒸発容器20内の蒸発溶媒を吸引し、有機溶媒を除去し得るもの。 (もっと読む)


【課題】物理蒸着中に、凝縮した蒸気を収集するための装置および真空システムを提供する。
【解決手段】物理蒸着中に、凝縮した蒸気を収集するための装置は、真空チャンバ内の1つ以上の蒸気源に隣接して配置されるように構成された筐体を備える。この筐体は、対象物を収容するように構成された空間の体積を部分的に囲む筐体の内面を含み、この筐体は、上記1つ以上の蒸気源よりも低い温度に保たれる。上記筐体の内面は1つ以上の排水溝に結合される。 (もっと読む)


【課題】有機エレクトロルミネッセンス素子の発光効率と発光寿命を改良する金属パターン形成用積層体とそれを用いた金属パターン形成方法及び該金属パターンを有する有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。
【解決手段】光熱変換層3と金属転写層4とを有する金属パターン形成用積層体1に真空下で赤外レーザー8を照射し、該赤外レーザーを照射した領域9の金属転写層を蒸発させて、非接触の被転写体5の上に金属パターンを形成することを特徴とする金属パターン10の形成方法。 (もっと読む)


【課題】Si−O−Si結合を含む化合物等の基体に対して極めて平滑な膜を、薄膜から厚膜まで広い膜厚範囲で、マイクロ/ナノ領域に位置選択的に形成可能とした基体への膜形成法を用いた、マイクロ/ナノデバイスの作製のための基盤技術となるデバイス作製法を提供する。
【解決手段】予め改質が施された改質部分2aを有する基体2上に、マスクを密着配置して、前記改質部分2aを覆うように、気相中で膜6を位置選択的に形成する工程と、その後、前記改質部分2aのみを化学エッチングする工程とを備える。これによって、基体2及び膜6からなるマイクロトンネル構造を得る。 (もっと読む)


【課題】成膜する層に成膜材料以外の材料が混入することを抑制し、発光素子の性能低下を防ぐ、成膜方法の提供を課題の一つとする。
【解決手段】基板の一方の面上に形成された吸収層と、吸収層上に形成され、基板の一方の面の最表面に形成された、成膜材料を含む材料層とを有する第1の基板の一方の面と、基板の被成膜面の最表面に形成された下地層を有する第2の基板の被成膜面を対向させて配置し、第1の基板の他方の面側から加熱処理を施すことで、加熱された材料層に含まれる成膜材料で、下地層上に成膜材料層を形成する成膜方法であり、成膜材料層の主成分と下地層の主成分に同じ物質を用いる成膜方法である。 (もっと読む)


【課題】蒸発面の内側領域において、局部的な集中をなくして全体に均等にアークスポットが移動することにより、蒸発源が均等に消耗し、利用効率がよくなるアークイオンプレーティング装置を提供する。
【解決手段】蒸発源5の端面から内方に所定幅の端部領域を除く内側領域表面の磁束密度が7〜10mTであり、端部領域表面の磁束密度が内側領域表面の磁束密度よりも3mT以上大きく、蒸発面11における磁力線は、蒸発面の法線に対する角度θが0°<θ<20°であり、端部領域表面では内側領域に向けて傾いており、内側領域の磁束密度は、標準偏差が3以下である。 (もっと読む)


【課題】プラズマ式の蒸着法により蒸着膜を成膜する際、特に蒸着材の昇華が始まる初期段階において、従来よりも低エネルギーでの成膜を実現し、かつ装置の改良を行うことなく昇華した蒸着材料に指向性を付与し得る蒸着材及び該蒸着材を用いて成膜された蒸着膜を提供する。
【解決手段】上面に1又は2以上の突起11が形成された基部10aと、少なくとも突起11と同数の貫通孔12が突起11と対応する位置に設けられ基部10aの上面にすべての突起11を貫通孔12が収容するように設置されたマスク10bとを含み、突起11は基部10a表面からの最大高さhが1〜10mmであり、基部10a表面から突出する部分の最大幅wが1〜10mmであり、マスク10bに設けられた貫通孔12は高さHが突起11の最大高さhの1.2〜3倍であり、かつ幅Wが突起11の最大幅wの1〜4倍であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】蒸着圧力と膜均一度を向上させた蒸着装置を提供する。
【解決手段】モノマー流入口20と蒸気流出口40とを有する気化チャンバ15を備える蒸着装置10である。蒸気流出口には、蒸気ノズル45が備えられている。蒸着装置は、気化チャンバと蒸気ノズルとの間に位置したカラー50を備え、カラーは、ノズルを通じたコンダクタンスがほとんど変わらない間に気化チャンバの圧力を増大させる。 (もっと読む)


【課題】プラズマ式の蒸着法により蒸着膜を成膜する際、特に蒸着材の昇華が始まる初期段階において、従来よりも低エネルギーでの成膜を実現し得る蒸着材の製造方法及び該方法により製造された蒸着材を提供する。
【解決手段】蒸着材10の表面に突起11を1又は2以上形成する第5工程を含み、突起11の蒸着材10表面から最大高さが1〜5mmであって、突起11の蒸着材10表面から突出する部分の最大幅が1〜5mmであることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】耐久性があり、湿度、酸およびアルカリに非感受性で、低放射性で、透明であり、広範囲のスペクトルに非吸収性であり、その元の組成を溶融と蒸発の間に変化させず、かつ、同じ特性を有する高屈折率の層の製造に適した、少なくとも2.0の高屈折率を有する層を製造するための蒸着材料を提供する。
【解決手段】酸化チタンと酸化ガドリニウムおよび/または酸化ジスプロシウムとを含む、高屈折率の光学層を製造するための蒸着材料。 (もっと読む)


【課題】支持基板上に形成した昇華温度が異なる2種以上の成膜材料を含む材料層を、加熱処理により被成膜基板上に成膜する方法において、昇華温度の異なる2種以上の成膜材料が濃度勾配を生じることなく成膜されることを課題の一つとする。
【解決手段】基板の一方の面上に形成される吸収層と、吸収層上に形成され、第1の成膜材料、第2の成膜材料及び下記数式(1)を満たす高分子化合物を含む材料層とを有する第1の基板の一方の面と、第2の基板の被成膜面とを対向させて配置し、第1の基板の他方の面側から加熱処理をすることで、第2の基板の被成膜面に第1の成膜材料と第2の成膜材料とを含む層を形成する成膜方法。


(式(1)中、Sは、高分子化合物のガラス転移温度(℃)を示し、Tは、第1の成膜材料又は第2の成膜材料の昇華温度(℃)のうち高い温度(℃)を示す) (もっと読む)


【課題】ドロップレットの混入を十分に抑制しながら十分に効率よく成膜することが可能なレーザーアブレーションによる成膜方法を提供すること。
【解決手段】ターゲット1にレーザー光Lを照射して飛散粒子aを発生させ、基材5の表面に飛散粒子aを付着させて基材5の表面上に膜を形成させるレーザーアブレーションによる成膜方法であって、
ターゲット1が支持基板と該支持基板上に形成された無機材料の粒子からなる粒子層とを備えており、前記無機材料の粒子の平均粒子径が5nm〜50μmであり、且つ、前記粒子層の厚みが1〜200μmであることを特徴とするレーザーアブレーションによる成膜方法。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、真空被覆設備内で気化すべき材料によって基板1を被覆するための方法に関する。当該気化材料が、中間キャリア3を使用する二重気化によって前記基板1上に蒸着される。前記中間キャリア3が連続して移動される。
【解決手段】
当該課題は、連続被覆設備内での使用を保証する中間キャリアを提供することにある。この課題は、本発明により、シリンダ状の中間キャリア3によって解決される。
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