【課題】溶融した蒸着材料をリザーバ等に溜めておくことなく下方蒸着を行う蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着装置は、真空槽１０、真空槽内部に配置され基板１を載置する基板ステージ２４、真空槽内部で前記基板ステージよりも上方に配置され下面３１ａに加熱面を有する抵抗加熱ボード３１、及び真空槽内部に配置され抵抗加熱ボードの下面加熱面に線蒸着材３の先端を接触させる線蒸着材供給部４０を備える。 （もっと読む）

【課題】静電容量バラツキの少ない大容量電極箔を形成する事を目的とする。
【解決手段】この目的を達成するため本発明の蒸着用ボート１３は、凹溝１７が、少なくとも蒸着材料が供給される供給用凹溝１９Ａと、この供給用凹溝１９Ａと連通する蒸発用凹溝２０と、この蒸発用凹溝２０と連通する拡散用凹溝１９Ｂとで構成され、表面に供給用凹溝１９Ａおよび拡散用凹溝１９Ｂが形成された領域のそれぞれの基体１８の抵抗値に対する、表面に蒸発用凹溝２０が形成された領域の基体１８の抵抗値の比は、蒸着材料の沸点を蒸着材料の融点で除した値以上であるものとした。これにより本発明は、供給用凹溝１９Ａ近傍の温度を下げ、供給用凹溝１９Ａ近傍における蒸着材料の溶融や酸化を抑制し、蒸発量を安定化させる。また凹溝１７の端部にまで均一に蒸着材料を行き渡らせることが出来る。そしてその結果、均一な粗膜層７を形成できる。 （もっと読む）

【課題】金属層の剥離が発生する可能性が低く、信頼性の高い真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明の真空蒸着装置では、冷却機構を有し、ボート１１からの金属蒸気の基材方向以外への飛散を防止する第１の防着板１６と、第１の防着板１６よりもボート１１側に防着面を有し、ボート１１からの金属蒸気の基材方向以外への飛散を防止するとともに脱着自在に配設された第２の防着板１９とを備えた構成とした。この構成により、蒸着時に第２の防着板１９はボート１１からの輻射熱にて十分に熱を帯びた状態となっているため、金属蒸気は第２の防着板１９の表面上では固化しにくく、第２の防着板１９に蒸着金属が付着することはほとんどないものとなる。この結果、金属層の剥離の可能性が低減され、本発明の真空蒸着装置は信頼性の高いものとなっている。 （もっと読む）

【課題】ロール・ツー・ロール方式で樹脂フィルム上に反射膜を連続成膜する場合でも、蒸着状態を安定させ、膜組成の変動を防止し、反射率のバラツキを小さくすることができる反射膜形成用蒸着材を提供する。
【解決手段】質量％で、Ｉｎを０．２〜２．０％、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒから選ばれる少なくとも１種を合計で０．００４〜０．０１％含有し、残部がＡｇと不可避不純物からなる蒸着材により、ロール・ツー・ロール方式で連続走行させられる樹脂フィルムに連続的に反射膜を蒸着する。 （もっと読む）

温度Ｔｅで水銀を放出する水銀源によって水銀を制御供給する方法であって、前記水銀源が条件温度Ｔｃ＜Ｔｅに保持され、前記水銀源を移動することによって温度Ｔ＞Ｔｅにされることを特徴とする方法。
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【課題】静電容量バラツキの少ない大容量電極箔を形成する事を目的とする。
【解決手段】この目的を達成するため本発明は、表面に凹溝１７が形成された基体１８からなる蒸着用ボート１３であって、凹溝１７は、少なくとも蒸着材料が供給される供給用凹溝１９と、この供給用凹溝１９と連通し、蒸着材料を蒸発させる蒸発用凹溝２０とで構成され、供給用凹溝１９は蒸発用凹溝２０よりも幅が狭く、表面に供給用凹溝１９が形成された領域の基体１８の抵抗値に対する、表面に蒸発用凹溝２０が形成された領域の基体１８の抵抗値の比は、蒸着材料の沸点を蒸着材料の融点で除した値以上であるものとした。これにより本発明は、供給用凹溝１９近傍の温度を下げ、供給用凹溝１９近傍における蒸着材料の溶融や酸化を抑制し、蒸発量を安定化し、均一に粗膜層７を形成できる。 （もっと読む）

【課題】 希土類系永久磁石などの被処理物の表面に蒸着形成される金属被膜の緻密性を向上させる方法を提供すること。
【解決手段】 蒸着槽内において加熱した溶融蒸発部に蒸着制御ガスを含有するワイヤー状金属蒸着材料を連続供給しながら蒸発させることで、蒸着槽内の少なくとも溶融蒸発部と被処理物の近傍に蒸着制御ガスを供給した状態で被処理物の表面に金属被膜を蒸着形成する際、蒸着槽内全圧に対する希ガス分圧の割合を０．２〜０．８に維持して蒸着処理を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
大掛かりな装置を必要とせず、高速かつ低コストで実施できる管体内面への透明導電膜成膜方法を提供する。
【解決手段】 管体内面への透明導電膜成膜方法は、非酸化金属からなる蒸着物質を管体とほぼ同じ長さにして管体内に挿通する工程と、蒸着物質が挿通された管体を真空チャンバ内に配置する工程と、真空蒸着法あるいはスパッタ法によって管体内面に蒸着物質からなる金属膜を形成する工程と、金属膜を酸化することで透明導電膜とする工程と含んでいる。 （もっと読む）

基板上に薄膜を堆積するための方法及びシステムは、基板上方に位置付けた蒸気供給流源からの蒸発可能材料を導入することを含む。蒸発可能材料は蒸発され、蒸気供給流源から蒸気供給流として基板から離れる方向に向けられる。蒸気供給流は、リディレクタから基板の方へ向きなおされて、基板上に薄膜として堆積される。 （もっと読む）

【課題】ルツボ割れを早期に検知し蒸着装置のダメージを小さくすることが可能な蒸着装置および蒸着方法を提供すること。
【解決手段】蒸着装置１００は、膜材料２２を蒸発させて基板表面７２ａに成膜する蒸着装置であって、蒸着槽１０と、蒸着槽１０内に配置され、膜材料２２が収容されるルツボ２０と、膜材料２２またはルツボ２０を加熱する加熱手段３０と、加熱手段３０を制御する制御部５０と、膜材料２２の蒸着レートを測定する蒸着レート測定手段４０と、を備え、制御部５０は、加熱手段３０による加熱を開始してから所定時間が経過する前、または加熱手段３０のパワーが所定値に到達する前に、蒸着レート測定手段４０による測定結果が所定の閾値以上になった場合、加熱手段３０による加熱を停止させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】均一な金属薄膜が形成されるようにソース容器内のソース量を常にほぼ一定に維持することができるソース量制御が可能な真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空蒸着装置は、チャンバー１００と、チャンバー１００内の上部に設けられる基板１３０と、基板１３０の直下に設けられ、内部にソース１１１が満たされるソース容器１１０と、ソース容器１１０の下面に取付けられた質量測定機１２０と、質量測定機１２０に接続されてソース容器１１０の質量の情報を受信する制御部１４０と、制御部１４０に接続され、ソース容器１１０の質量の情報に応じて制御部１４０で生成されたソース供給信号が伝達され、ソース容器１１０内にソース１１１を供給するソース供給機１５０とを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】アーク放電を行なわずに均一な粒子径を有し、その表面に炭素被膜が形成された炭素被覆金属微粒子を提供すること。
【解決手段】金属微粒子を構成する金属材料を保持したカーボンロッドをチャンバー内で懸架し、該チャンバー内を１０^−５〜１０^−３Ｐａに減圧し、該チャンバー内の圧力が１００〜５００００Ｐａとなるように不活性ガスを導入した後、カーボンロッドに電圧を印加して通電加熱をする炭素被覆金属微粒子の製造方法、外部空間と遮断して設けられたチャンバー内で金属材料保持用カーボンロッドの一端を懸架するための導電性懸架材Ａおよびカーボンロッドの他端を懸架するための導電性懸架材Ｂが懸架されて外部電源と接続され、減圧管および不活性ガス導入管がチャンバーの内部空間と接続されている炭素被覆金属微粒子の製造装置。 （もっと読む）

【課題】 マイクロプラズマの径を可能な限り小さくし、その熱容量を低減させてプラズマジェット照射時の基板のダメージを防ぐと共に、金属等を溶融、蒸発又は気化させ、プラズマジェットと共に噴出させることにより、基板上に微小なサイズの金属等のドット及びラインを形成する。
【解決手段】 マイクロプラズマにより溶融、蒸発又は気化する材料を、低融点基板上にドット状に堆積した直径１〜１００μｍの前記材料のドットを備えていることを特徴とする微小なドットを備えた低融点基板。石英管の中に堆積させるための材料及びプラズマガスを導入すると共に、石英管の外周に誘導コイルを配置し、この誘導コイルに高周波を印加して材料を溶融、蒸発又は気化させ、１００μｍ以下の内径を有する石英管のキャピラリー先端から基板に向かって噴射させることを特徴とする基板上の微小な領域にドット又はラインを形成するマイクロプラズマによる堆積方法。 （もっと読む）

【課題】 蒸着材の取り扱いやすさを向上させ、更にはフィラメントと蒸着材との接触状況を改善してより好適な蒸着ができるようにした新規な真空蒸着用加熱装置を案出することを技術課題とした。
【解決手段】 真空蒸着用フィラメント１は、溶融作用部２２の上方に長手方向に連続するように蒸着材Ｗの載置部２３を設けて成るものであり、且つこの載置部２３は上方からの蒸着材Ｗの導入形状を有するものであり、一方、前記蒸着材Ｗは載置部２３において真空蒸着用フィラメント１に対し緩係合状態に載置されるような屈曲形状を有するものであることを特徴として成るものであり、真空蒸着用フィラメント１に対する蒸着材Ｗのセットを容易に行うことができるとともに、溶融作用部２３から蒸着材Ｗへの熱伝導を効率的に行うことが可能となる。 （もっと読む）

第１および第２の別個に蒸発した材料を混合して基板表面に堆積させて層を形成する方法である。この方法では、第１の材料が金属を含み、第２の材料は非金属であり、蒸発した材料が基板表面上に供給可能になるように配設された混合マニホールドを提供すること；第１および第２の材料を別個に蒸発させる第１および第２の加熱素子を提供し、蒸発した材料が混合マニホールド内に供給可能になるように加熱素子を配設すること；および、第１および第２の材料を制御された速度で計量して第１および第２の加熱素子にそれぞれ供給し、金属を含んだ蒸発した材料を混合マニホールドに供給し、ここで第１および第２の材料を混合した後、基板表面に堆積させて、金属を含んだ層を形成することを含む。
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【課題】膜厚均一性に優れた薄膜を蒸着法によって形成可能とする。
【解決手段】本発明の蒸発源ＥＢは、蒸着装置において蒸発材料ＥＭを蒸発させるのに使用する蒸発源であって、前記蒸発材料ＥＭが供給されるべき凹部ＲＳが上面に設けられると共に前記上面と下面とを連絡する貫通孔ＴＨが前記凹部ＲＳと隣り合って設けられた抵抗発熱体ＨＲを含んだことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 種々の金属組成の合金被膜を希土類系永久磁石などの個片の表面に簡易に蒸着形成するための方法を提供すること。
【解決手段】 本発明の真空蒸着方法は、金属Ａと金属Ｂの２種類の金属を少なくとも含む合金被膜（但し金属Ｂは金属Ａよりも高蒸気圧である）を被処理物である個片の表面に蒸着形成するための真空蒸着方法であって、真空処理室の内部の被膜原料溶融蒸発部において、坩堝内の金属Ａの固体と坩堝の直上方に所定の送り速度で案内される金属Ａと金属Ｂを含む合金ワイヤーに対して電子線を照射し、金属Ａの固体と合金ワイヤーを同時に溶融蒸発させることで、合金ワイヤーの送り速度に応じた金属組成の合金被膜を被膜原料溶融蒸発部の上方に位置する個片の表面に蒸着形成することを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、低コストで高度なガスバリア性を有するガスバリア性フィルムおよびかかるガスバリア性フィルムを簡便かつ安定して製造することができる方法を提供せんとするものである。
【解決手段】
本発明のガスバリア性フィルムは、高分子フィルム上に無機化合物層を有するフィルムであって、Ｘ線光電子分光法により測定される該無機化合物層内のＡｌ原子濃度に対するＯ原子濃度の比率が２〜３、ＳＩＭＳにより測定される該無機化合物層内のＣ原子濃度が１×１０^２１〜１×１０^２２ａｔｏｍｓ／ccであることを特徴とするものである。
かかるガスバリア性フィルムの製造方法は、高分子フィルムを巻き出したのち、次いで、金属を蒸気化して該フィルム表面上に無機物層を形成する際に、該無機物層を、該無機物層形成時に投入される酸素原子数に対する炭素原子数の０．１〜１０％である炭素元素含有ガスプラズマ雰囲気中で形成することを特徴とするものである。
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【課題】 高い真空度を得るために長時間をかけたり、特別の装置を使用したりすることなく、アルミニウムのような易酸化性蒸着材料を希土類系永久磁石のような被処理物に安定に蒸着させるための表面処理方法、この方法を実施するために好適な表面処理装置などを提供すること。
【解決手段】 易酸化性蒸着材料からなる蒸着被膜を被処理物の表面に形成する表面処理方法であって、処理室内の少なくとも溶融蒸発部と被処理物の近傍に蒸着制御ガスを供給した状態で前記蒸着材料を蒸発させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】細い管状体の管内壁面に適確容易かつ安価にて均等な膜厚にアルミニウムを真空蒸着させること。
【解決手段】管状体１の内壁面にアルミニウムを真空蒸着するアルミニウム真空蒸着方法において、前記管状体１の内部にアルミニウム蒸着源５を線状に配置する一方、前記管状体１の外周囲に巻回配置した誘導加熱コイル６に通電してアルミニウム蒸着源を加熱蒸発させて前記管状体の内壁面にアルミニウムを蒸着させる。 （もっと読む）