【課題】 斜め蒸着により基板４上に柱状体１４を形成する方法において、蒸発源３と成膜面との距離が大きければ、蒸発粒子とチャンバー１内残留ガス分子との衝突頻度が増大して入射粒子の入射方位に分布を生じるために、柱状体１４が太るために柱状体間の隙間が減少する。
【解決手段】 蒸発源３と成膜面との間の、蒸発源３から放射状に引き出した線上に整流板１１を配置する。整流板１１を配置することで、柱状体１４が太るために柱状体間の隙間が減少することを抑制できる。また、整流板１１へ付着する堆積物の量を抑制できる。 （もっと読む）

【課題】液晶を用いた画像表示装置において、光学的異方性を避けるためと、高速応答のために、液晶を基板に対して垂直若しくはそれに近い配向にする必要がある。液晶には強い光、波長の短い光があたることが多いので、従来のポリイミドの配向膜では劣化が生じ寿命が短くなる。配向膜を無機化したいが、ＳｉＯ_２斜方蒸着を液晶配向膜とした場合、液晶として特性の優れる誘電率異方性が正のものを使うと水平配向になってしまう。金属アルコラートを用いて垂直配向にする技術はあるが工程が複雑になっている。
【解決手段】液晶を挟む２枚の基板の内、少なくとも一方の基板側の液晶配向膜を金属にすることにより、基板の間に封入する液晶は、誘電率異方性（Δε）が正のものを用いていながら、基板に対して垂直若しくはほぼ垂直に配向させることができる。 （もっと読む）

【課題】必要量の有機材料を正確に加熱して膜厚制御をする。
【解決手段】回転軸３５は中心軸３７と、中心軸３７の周囲に螺旋状に設けられた突条３６とを有しており、突条３６はＳｉ₃Ｎ₄を主成分とするセラミック材料で構成されている。突条３６は機械的に研磨され、平滑になっているから、有機材料３９は堰き止められずに、突条３６間の溝を通過して、タンク３１から蒸発室２１に移動する。回転軸３５の先端はセラミック材料で構成され、誘導加熱されないから、回転軸３５に接触する有機材料３９は蒸発しない。 （もっと読む）

【課題】膜質の良い有機薄膜を効率良く成膜する。
【解決手段】第一、第二の薄膜を形成するために、第一、第二の蒸着装置１０ａ、１０ｂの蒸発室２１内部に配置する有機材料３９ａ、３９ｂの必要量を予め求めておく。求めた必要量の有機材料３９ａ、３９ｂを蒸発室２１に配置して蒸気を発生させ、基板８１を放出装置５０の放出口５５上に配置してから、蒸気を放出口５５から放出させる。蒸発室２１に配置された有機材料３９ａ、３９ｂが消費されると、予め決められた膜厚の第一、第二の薄膜が基板８１表面上に形成される。 （もっと読む）

【課題】必要量の有機材料を正確に加熱蒸発させる。
【解決手段】導入管３１の蒸発室２１内部に挿入された部分（導入部４４）の外周は、銅を主成分とする低抵抗材料で構成されている。回転軸３５の下端は導入部４４の内側に位置する。蒸発室２１内部に電磁場が形成されると、高温体２２は誘導加熱されるが、導入管３１と、回転軸３５は誘導加熱されない。従って、導入管３１の貫通孔３３内を移動する有機材料３９は溶融や蒸発せず、有機材料３９が詰らないから、高温体２２に所望量の有機材料３９を正確に配置することができる。 （もっと読む）

【課題】ゲート絶縁膜としての使用に耐え得るような高品位の酸化膜を窒化物半導体の上に作成する。
【解決手段】本発明による酸化膜形成方法は、ＳｉＯｘ粉末を原料として用いる真空蒸発により、窒化物半導体部材の上にＳｉＯｘ膜を堆積する工程と、堆積された前記ＳｉＯｘ膜を、酸化雰囲気で紫外線を照射しながら加熱することによって酸化する工程と備えている。原料のＳｉＯｘ粉末は、下記特性を有している：（１）フーリエ変換赤外分光分析（ＦＴＩＲ：Fourier Transform Infrared Spectroscopy）によって得られた赤外吸収スペクトルにおいて、８８０ｃｍ^−１にピークが現れる。（２）ラマン分光分析によって得られたラマンスペクトルにおいて、４５０〜５５０ｃｍ^−１にピークが現れない。（３）Ｘ線光電子分光分析（ＸＰＳ：X-ray photoelectron spectroscopy）によって得られたＸＰＳスペクトルにおいて、ＳｉＯ_２のＳｉ−Ｏ結合に対応するピーク（約１０３ｅＶ）とＳｉの２ｐ軌道のＳｉ−Ｓｉ結合のピーク（約９９ｅＶ）とが現れ、且つ、Ｓｉ−Ｓｉ結合のピークの高さが、Ｓｉ−Ｏ結合のピークの高さの０．６倍以上である。 （もっと読む）

粒子状材料を受け取って気化させるための気化装置であって、粒子状材料の受け入れに適した空隙を規定するリガンドからなる網状材料構造を持ち、その空隙が網状材料構造の体積の85％超を占めることで、粒子状材料をその空隙に供給するのが容易になるとともに、気化した材料がその空隙から広がるのが容易になっている構成のヒーター（30）と；リガンドによって熱を発生させるか伝えることで、空隙の中にある粒子状材料を気化させてその空隙の中を移動させる熱発生手段とを備える気化装置。
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【課題】生産性が高く、緻密で密着性がよく、ガスバリア性の高いガスバリア膜を成膜できるイオンプレーティング用蒸発源材料の原料粉末等を提供する。また、イオンプレーティング法に適した蒸発源材料及びその製造方法、並びにガスバリア性シート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】平均粒径が５μｍ以下の酸化ケイ素と、平均粒径が５μｍ以下であり屈折率が１．８以上である高屈折率材料とを有し、高屈折率材料の含有量が、酸化ケイ素１００重量部に対して、５重量部以上５０重量部以下である原料粉末により、上記課題を解決する。この原料粉末は、酸化ケイ素の比表面積が６００ｍ^２／ｇ以上であることが好ましい。本発明のイオンプレーティング用蒸発源材料は、上記原料粉末を焼結又は造粒させて平均粒径が２ｍｍ以上の塊状粒子又は塊状物に加工したものである。 （もっと読む）

本発明の多目的容器は外部容器と、内部充填材と、メッシュ及びワッシャーとを備える。外部容器はステンレススチール、鉄、銅、モリブデン、タングステン又はチタンなどの金属材料からなる。内部充填材は炭素繊維フェルト、炭素繊維又は金属フェルトなどからなる。メッシュ及びワッシャーは、ステンレススチール、鉄、銅、モリブデン、タングステン又はチタンなどの金属材料からなり、内部充填材上に配置される。これらの構成要素は安定した一体型の構造物として組み立てられるか又は溶接される。多目的容器に含浸又は充填された様々な機能を有する各種の蒸着物質は、真空蒸着装置内で電子ビーム加熱方法又は抵抗加熱方法によって超薄膜として均一に蒸着されうる。蒸着物質は粉末及び粒子のような固体状、様々な粘性を有する液体状、及びスラリーのような半固体状のうちのいずれかの状態を有する有機系及び／又は無機系化合物からなる。
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本発明は、固体材料、例えば基板をコーティングするためのセレニウムを蒸発させるための装置に関する。固体材料を、供給源を介して第１坩堝に持ち込む。この坩堝において、材料は、好ましくはその融点より若干高い温度で溶融する。溶融した材料は輸送装置（例えば、パイプ）を介して第２坩堝へと流れ込み、ここで材料は、その沸点より高い温度で蒸発し、基板へと運ばれる。極めて短い時間内で（好ましくは、たった１〜２分以内）蒸発を停止させるために、その融点を越えて材料を冷却するための冷却装置が、輸送装置には配置される。この冷却装置を用いて、輸送装置内の材料を、極めて短い時間でその融点を越える温度にまで冷却することができる。
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【課題】放射線像変換パネルとして輝度、鮮鋭性に優れた放射線像変換パネルの製造方法を提供すること。
【解決手段】蛍光体原料を含む蒸着源を加熱し、発生する物質を基板上に蒸着させることにより蛍光体層を形成する工程を含む放射線像変換パネルの製造方法において、該蛍光体原料の安息角が２０°以上９０°以下であることを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】メンテナンスをする必要が少なく、被蒸着材に蒸発材料の良好な膜を形成することができる真空蒸着装置を提供することにある。
【解決手段】真空チャンバと、真空チャンバ内に配置され、蒸発材料を加熱し蒸発させる蒸発源と、蒸発源に対向して配置され、被蒸着材を保持する保持機構と、蒸発源と保持機構との間に配置され、非成膜時に被蒸着材に前記蒸発材料が付着することを防止するシャッタ部と、シャッタ部を加熱する加熱機構を有する構成とすることで、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】アルカリハライド系の蛍光体層を真空蒸着するに際し、基板や蛍光体層の変質を防止でき、かつ、成膜材料の利用効率が高い真空蒸着方法を提供する。
【解決手段】蒸発源と基板との間に成膜材料の蒸気を反射するための発熱体を設け、かつ、この発熱体の温度を成膜材料の融点未満で、成膜材料の融点−２００℃以上とすることにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】優れた親水性を有し、強度も高く、製造も容易で、防曇膜等の防曇材（防曇処理済材）に適正な親水性材を提供する。
【解決手段】防曇層１４等となる親水性材は、無機酸化物層からなる親水性層を有し、この親水性層が、基材の法線に対して１０〜７０°の角度αを有する柱からなる柱状構造、すなわち基材の法線に対して所定の角度で傾斜する柱からなり、前記親水性層の厚さが、１００〜３０００ｎｍである柱状構造。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜を成膜する際の安全性を高めると共に、基板に対する水素パッシベーションを効果的に行って生産性も向上する。
【解決手段】太陽電池用の反射防止膜を成膜する成膜装置１において、成膜室９内にプラズマビームＰｂ２を供給し、酸化珪素からなるタブレットＭを昇華させて反射防止膜を成膜する。更に、水素イオン発生ガスを成膜室９内に導入し、アークプラズマ環境で水素イオンを生成し、その水素イオンでダングリングボンドを終端する。この成膜装置１では、酸化珪素からなるタブレットＭを用いているため、モノシランガスに比べて安全性は極めて高い。さらに、加熱ヒータ２６による加熱によって水素パッシベーションが促進される。その結果として、基板Ｗに対する水素パッシベーションを効果的に行いながら生産性も向上できる。 （もっと読む）

【課題】優れた防曇性を有し、かつ、強度も高い防曇膜の形成方法を提供する。
【解決手段】無機酸化物を主成分とする防曇膜を気相成膜法によって形成するに際し、防曇膜を形成する基板１２の法線と、防曇膜の材料粒子が前記基板に入射する入射方向とが成す角度を２０〜８５°として、防曇膜の形成を行う。さらに基板と材料源との距離を１００〜２０００ｍｍとし、成膜圧力を５ｘ１０-4〜５ｘ１０1Ｐａとし、基板温度を６００℃以下に制御する。 （もっと読む）

【課題】可視光の光学吸収が少なく密着性の良好なフッ化マグネシウム等のフッ化物薄膜をプラスチック基材上に真空蒸着法により高速で、且つ極めて安定した成膜速度で連続的に形成する。
【解決手段】
プラスチックフィルム（４）を連続的に巻出す巻出し部（２）と、
巻出し部（２）から巻き出されたプラスチックフィルム（４）を巻き取る巻取り部（３）と、
巻出し部（２）と巻取り部（３）との間に配置されたメインロール（５）と、
高い材料密度と微細な空孔を有する固体材料、または、充填密度の高い顆粒材料、または、前記固体材料と前記顆粒材料との混合材料であり、かつ、フッ化マグネシウムを主体とするフッ化物を含み、かつ、メインロール（５）に対向配置された蒸着材料（６）と、
蒸着材料（６）に電子ビームを照射する電子銃（７）と、
蒸着材料（６）を連続的に供給する供給手段と、
を備える真空槽（１）を有する真空蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】一酸化珪素固体をムラ無く均一に析出させ、高い生産性を有する、一酸化珪素蒸着材料の製造方法を提供する。
【解決手段】二酸化珪素粒と溶融した金属シリコンからなる混合物を準備する工程；前記混合物中の二酸化珪素粒と溶融金属シリコンを反応させて一酸化珪素の気体を発生させる工程；前記一酸化珪素気体から一酸化珪素固体を析出板に析出させる工程、を含む一酸化珪素の製造方法であって、
（Ａ）前記混合物の上部に設けられた析出板に一酸化珪素を連続して析出させながら、析出板上の析出厚みを計測する工程、ならびに
（Ｂ）前記析出板上の一酸化珪素の析出厚みが５ｍｍになるまで、一酸化珪素を、析出速度０．１〜５ｋｇ／ｍ^２・ｈｒで析出させる工程、
を含む方法で、一酸化珪素蒸着材料を製造する。 （もっと読む）

【課題】大面積の基板を用いた場合でも、蒸着距離を大きくすることなく、配向の均一性を確保可能な膜の形成方法を提供する。
【解決手段】被蒸着基板上に膜を形成する方法であって、蒸着源からの蒸着種が該被蒸着基板の膜を形成する面に向かう方向が、該被蒸着基板の法線方向に対して傾斜するように被蒸着基板を保持する工程と、該被蒸着基板の膜を形成する面に面内の位置によって異なるエネルギーを与える工程と、該蒸着源から蒸発させた蒸着種を該被蒸着基板上に付着させ膜を形成する工程とを有する膜の形成方法。 （もっと読む）

本発明は、非反射性または反射性を有し、かつ、少なくとも１つの主面を有する光学製品の製造方法であって、基材の１つの主面上に１層の副層を堆積する工程と、イオンボンバードメント処理によって前記副層を処理する工程と、前記副層上に、少なくとも１層の高屈折率層および少なくとも１層の低屈折率層を含む多層スタックを堆積する工程とを含む製造方法に関する。好ましい実施形態に従って、副層の堆積は、堆積する工程中に気体が供給される真空チャンバー内で行われる。 （もっと読む）