気化した有機材料の基板表面への堆積を制御する方法は、基板表面に堆積させるために気化した有機材料を通過させる少なくとも1つの開口部を有するマニホールドを用意し；ある体積の有機材料を供給し、第1の状態では、その有機材料の蒸気圧が、基板に層を有効に形成するのに必要であるよりも低い値になるようにその有機材料の温度を維持し、第2の状態では、加熱されたその有機材料の蒸気圧が、層を形成するのに十分な大きさになるようにその有機材料の初期体積の一部を加熱する操作を含んでいる。
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【課題】超高真空環境でもアウトガスを発生させない非移行型のプラズマトーチを用いて生成させた微粒子を超音速のガス流により加速させ、基板に堆積させた微粒子により皮膜形成する物理蒸着装置を提供する。
【解決手段】内部にプラズマトーチ（１６，２６）と蒸発源（１５，２５）を有する蒸発チャンバー（１０，２０）と、超音速ノズル３５と成膜対象基板３３を有する成膜チャンバー３０を有し、各プラズマトーチは、略円筒形の導電性のアノード４０と、その内側に挿入された、ベークライトよりもアウトガスの少ない高分子系または非高分子系の絶縁管５０と、絶縁管５０の内側に挿入された棒状のカソード６０を有する。アノード４０とカソード６０に電圧印加して得たプラズマで蒸発源（１５，２５）から微粒子を生成し、超音速ノズル３５から噴出して超音速ガス流に乗せ、成膜対象基板３３に物理蒸着させる。 （もっと読む）

本発明は、成膜室に接続された減圧手段により減圧して、成膜室で蒸発源から有機化合物材料を蒸発させて成膜する際、有機化合物材料の粒子よりも小さい粒子、即ち原子半径の小さい材料からなるガス（シラン系ガス等）を微量に流し、有機化合物膜中に原子半径の小さい材料を含ませる新規な成膜方法を提供する。
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【課題】超高真空環境下でもアウトガスを発生させず、移行および非移行型の兼用可能なプラズマトーチを提供する。
【解決手段】略円筒形の導電性のアノード１０と、アノード１０の内側に挿入された石英あるいはマシナブルセラミクスからなる絶縁管２０と、アノード１０に接しないように、絶縁管２０の内側に挿入された棒状のカソード３０とを有し、アノード１０とカソード３０にそれぞれ正電圧と負電圧を印加してプラズマを形成する構成のプラズマトーチとする。 （もっと読む）

【課題】 感度（輝度）、鮮鋭性共に良好な放射線画像変換パネル及びその製造方法。
【解決手段】 ＣＦＲＰ板又はＣＦＲＰコンポジット上の金属板（基板）上に少なくとも気相堆積法により形成された輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルにおいて、蒸発ルツボ内液温度を制御して輝尽性蛍光体層の表面の突起数を０〜３００個とする。 （もっと読む）

【課題】薄膜原材料の利用効率を高めることで、高品質の薄膜を高い生産性で成膜する真空成膜装置を実現することを目的とする。
【解決手段】真空成膜チャンバ内に配置したリング状のハース３に収容した薄膜原材料４にエネルギービームを照射し、薄膜原材料４を加熱蒸発させることで基板上に薄膜を成膜する真空成膜装置において、前記ハース３における薄膜原材料４の形状として、エネルギービームが照射される箇所８を通り前記ハース３と同心の円上において薄膜原材料４の量が最大となる形状としたことを特徴とするものである。 （もっと読む）

本発明は、ある量の導電性材料を浮揚させるための、該材料を浮揚状態に維持するためのコイルを備えてなり、該コイル中に変動する電流を使用する、装置に関する。本発明により、該装置は、第一コイルおよび第二コイルの２個のコイルを備えてなり、両方のコイルが使用中に交流電磁場を発生させ、該第一および第二コイルの交流電界が互いに反作用し、該第一および第二コイルが、該第一コイルおよび第二コイルの間で浮揚状態に維持されている該導電性材料が蒸発するように配置される。本発明は、ある量の導電性材料を浮揚させる方法にも関する。
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【課題】 成膜材料の混合を行うに際して成分割合の調整を容易に行うことができ、成膜領域のずれを防ぐ。
【解決手段】 真空成膜装置の成膜源１０が、複数の成膜材料をそれぞれ収容する複数の材料収容部１１Ａ，１１Ｂと、各材料収容部１１Ａ，１１Ｂ内の成膜材料を加熱する加熱手段１２Ａ，１２Ｂと、成膜材料の原子流又は分子流を成膜材料毎に放出する放出口１３Ａ，１３Ｂと、材料収容部１１Ａ，１１Ｂと放出口１３Ａ，１３Ｂとを気密に連通する放出流路１４_１Ａ，１４_２Ａ，１４_３Ａ，１４_１Ｂ，１４_２Ｂ，１４_３Ｂとを備え、同一成膜材料を放出する単数又は複数の放出口１３Ａ，１３Ｂを一方向に延設し、該一方向に延設された放出口１３Ａ，１３Ｂの外縁を直線で結んで形成される帯状の放出領域Ｓ_１Ａ，Ｓ_１Ｂが平面的に少なくとも一部で互いに重なり合うように、放出口１３Ａ，１３Ｂを配置している。 （もっと読む）

【課題】 良質の膜を形成可能な蒸着装置及び蒸着方法を提供する。
【解決手段】 有機ＥＬ薄膜の材料である有機材料１が装入されたルツボ容器１０内には、有機材料１の気化面に接するように発熱体１２が配置されている。発熱体１２は、電磁誘導により発熱する磁性体材料からなる材料を含んで形成されており、加熱制御装置３０がコイル２０に所定の電流を供給することにより誘導加熱される。これにより、有機材料１の気化面が発熱体１２により直接加熱され、有機材料１は安定して気化し、これにより良質の膜が形成される。 （もっと読む）

【課題】アルミニウム系マトリクス中にシリコン相が微細に分散したＡｌ−Ｓｉ膜とその形成方法を提供する。
【解決手段】アルミニウムとシリコンを含有するＡｌ−Ｓｉ膜であって、アルミニウムまたはアルミニウム合金のマトリクスと、前記マトリクス中に分散された、粒径が数〜１００ｎｍであるシリコン微粒子とを有し、プラズマの使用または加熱により生成されたシリコン微粒子とアルミニウム微粒子を、超音速フリージェットの気流に乗せて真空チャンバー（成膜チャンバー３０）中に噴出して、真空チャンバー中に配置した基板３３上に物理蒸着させて形成した膜とする。 （もっと読む）

材料を気化させて基板の表面に膜を形成する方法は、所定量の材料を気化装置の中に供給し、その気化装置の中にあるその材料を第1の温度状態に加熱し、その材料の一部に作用する熱パルスを印加してその材料のその部分を気化させることにより基板の表面に付着させる操作を含んでいる。 （もっと読む）

本発明は、アノード（５）と、炭素から成るターゲットカソード（１０）と、パルスエネルギ源（１５）と、少なくとも２つの点弧ユニット（２０）とを備えた、パルス式のプラズマ支援された真空アーク放電による炭素析出のための装置に関する。少なくとも２つの点弧ユニット（２０）はターゲットカソード（１０）の縁部領域に配置されており、それぞれ２つの平面的な金属製の電極（２５，３０）と、両電極（２５，３０）間に配置された平面的な絶縁セラミック（３５）とを有している。点弧ユニット（２０）の平面的な形状および支持カソード（１０）におけるその配置により、ターゲット面全体の均等な使用およびワークピースの均等なコーティングが可能となる。
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【解決手段】 本発明は、充填可能な坩堝に被覆材料が蒸発の目的で配置され、そして被覆装置の一部として真空室中に配置されている、被覆材料を蒸発させるための蒸発装置において、蒸発装置（１）が真空弁（９）を介して減圧可能な装填室（８）に連結されている蒸発室（２）を有し、該蒸発室（２）中には被覆材料（５）を充填可能な坩堝（６）を収容する蒸発器（３）を配備しそして該蒸発器が蒸気排出側で、即ち蒸着室に面する側で、第一の蒸気遮断弁（４）を介して蒸着室に連結されていることを特徴とする、蒸気蒸発装置に関する。
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【解決手段】 本発明は、蒸着装置においての固体および／または液体被覆材料の蒸発およびその蒸気状被覆材料の基体上への蒸着によって、蒸着チャンネル中を移動する連続搬送される基体を熱的に真空蒸着する蒸着法において、被覆材料（１０）を、蒸着室（２）の外部に配置され且つ蒸発装置当たり少なくとも１つの蒸発器（６）を備えた少なくとも１つの蒸発装置（３）中で蒸発させ、その際に蒸発器（６）と蒸着チャンネル（１３）との間の蒸気供給を制御することを特徴とする、上記蒸着法に関する。
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組成Ａｌ_xＳｉ_yＭｅ_zＮの窒化アルミニウムベースの硬い耐摩耗性コーティングが提案される。ｘ、ｙおよびｚは原子分率を表し、その和は０．９５から１．０５であり、Ｍｅは、ＩＩＩからＶＩＩＩ族およびＩｂ族の遷移金属の金属ドーパントまたはこれらの組合せである。この金属は、コーティングプロセス中に、金属ドーピングのないコーティングよりも高い固有導電率（intrinsic electrical conductivity）を提供する。ケイ素含量は０．０１≦ｙ≦０．４であり、１つまたは複数の金属ドーパントＭｅの含量は、０．００１≦ｚ≦０．０８、好ましくは０．０１≦ｚ≦０．０５、最も好ましくは０．０１５≦ｚ≦０．０４５である。
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昇華性の蒸発材料を蒸着する真空蒸着において、噴射用開口１４を配しかつ内面からの放射熱により該蒸発材料を蒸気化する領域を有する気体密封型加熱容器１１と、蒸発材料を加熱容器１１からの伝導熱によっては蒸発しない領域に保持させる保持部１５とを備え、発生する蒸気を噴射用開口１４から容器外部の蒸着対象面に向けて噴射させるようにする。
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化学気相輸送法（CVT）を用いて、低温低圧で、基板にダイヤモンドコーティングを製作する方法であって、ワイヤ巻付グラファイト組立部材と、基板とをチャンバ室内に提供するステップと、チャンバ室に水素を充填するステップと、チャンバ室の内部圧力を真空にしてから、水素を再度充填するステップと、1気圧未満の水素を含有したままチャンバ室を密閉するステップと、基板が125℃〜750℃の範囲に加熱されるまで、グラファイト棒に電流を流すステップと、を有する方法によって、優れた特性が得られる温度で、高品質ダイヤモンドが形成される。
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【課題】 ２次元あるいは３次元で任意の形状を有し、任意の密度を有する均質な超微粒子厚膜と、その超微粒子厚膜の新規な形成方法を提供する。
【解決手段】 超微粒子を分散質とする煙霧質を、通気性を有する担体を介して吸引濾過することにより前記担体上に超微粒子堆積膜を形成し、その超微粒子堆積膜を焼成することで超微粒子厚膜を形成する。 （もっと読む）