【課題】ターゲット表面における磁力線の傾きを、垂直となるように又はカソード表面の外周から中心側（内側）に向かう方向となるように制御されたアーク式蒸発源を提供する。
【解決手段】本発明のアーク式蒸発源１は、ターゲット２の外周を取り囲んでいて磁化方向がターゲット２の前面と平行となる方向に沿うように配置されたリング状の外周磁石３と、磁化方向がターゲット２の前面と直交する方向に沿うようにターゲットの背面側に配置された背面磁石４と、を備え、リング状の外周磁石３の径内側の磁極と背面磁石４のターゲット２側の磁極とが互いに同じ極性であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】成膜材料であるＤｙ、Ｔｂを有効に利用しつつ、所定形状鉄−ホウ素−希土類系の磁石の表面に高速で成膜させて生産性が向上し、低コストで永久磁石を製造できるようにする。
【解決手段】真空排気が可能な処理室と、前記処理室内を加熱する加熱手段と、前記処理室内でバルク体たる蒸発材料と被処理物とを離隔して保持する保持手段とを備え、前記被処理物を保持する保持手段が、前記処理室内の加熱により蒸発材料から蒸発した材料の通過を許容し、前記被処理物の複数個が並置できる部材から構成される。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で蒸着物質の収率を向上できる蒸着装置を提供すること。
【解決手段】
プラスチックレンズ上に蒸着物質を蒸着する蒸着装置であって、上面に開口した凹部９１２を備える筐体と、凹部９１２に設けられた蒸着源９２と、筐体の上面９１１Ａ，９１３Ａに接触するとともに、スライド可能に取り付けられ、かつ蒸着源９２を覆う補正板９３とを、備え、筐体は、蒸着源９２とともに補正板９３を加熱するハロゲンランプ９４を内部に設けられたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】圧電定数のばらつきを小さくでき、耐電圧特性を向上させることができ、製造歩留りを向上させる圧電アクチュエータとその製造方法を提供する。
【解決手段】単結晶シリコン基板１、酸化シリコン層２、TiO_x密着層３’、Pt下部電極層４、PZT圧電体層５及びPt上部電極層６を積層して圧電アクチュエータを構成する。TiO_x密着層３’のTiO_xの組成比xは0<x<2であり、つまり、TiO_x密着層３’はTiを不完全に酸化させて成膜する。密着層３’による絶縁層２と下部電極層４との結合を確保できると共に、Ti成分、Pt成分及びPb成分の拡散が抑制されるので、下部電極層４、密着層３’及び絶縁層２の境界を明瞭にすることができる。 （もっと読む）

【課題】外側容器に対する内側容器の取り外しが容易に行なえ、メンテナンスにかかる作業効率を向上させることができ、さらに蒸着材料の温度の測定精度を高めることができる。
【解決手段】それぞれセラミックス系材料からなる外側容器１０と、この外側容器１０の内側に配置される内側容器２０とを備え、外側容器１０の内周底面１０ａに内側容器２０の外周底面２０ｂが密着するとともに、外側容器１０の内周側面１０ｄと内側容器２０の外周側面２０ａとの間に間隙Ｓが形成された構成の蒸着用容器１Ａと、この蒸着用容器１Ａを備えた蒸着装置Ｔ１を提供する。 （もっと読む）

【課題】大型の成膜対象物の表面に分布が均一な成膜を簡素な構成の装置で行うことができる技術を提供する。
【解決手段】本発明の蒸着装置１００は、真空槽１００ａと、真空槽１００ａの外部に設けられたホスト材料蒸発源７０ｈ、第１及び第２のドーパント材料蒸発源８０ｄ、９０ｄと、ホスト材料蒸発源７０ｈ、第１及び第２のドーパント材料蒸発源８０ｄ、９０ｄから供給された蒸発材料の蒸気を基板５に向って放出する蒸気放出器８とを備える。蒸気放出器８は、同心状に配置された径の異なる第１〜第５の筒状の蒸気拡散部１１〜１５を有するとともに、隣接する蒸気拡散部が、蒸発材料の蒸気が通過可能な第１〜第４の連通口２１〜２４を介して互いに接続されている。蒸気放出器８は、基板５に対し、蒸気放出器８の延びる方向と直交する方向に移動するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】 放出装置によってマスク板が加熱されない有機薄膜製造装置を提供する。
【解決手段】蒸気を放出しながら移動する放出装置３１〜３６を、マスク板１４と対面する位置を通過させ、マスク板１４の貫通孔底面に露出する部分の基板１３の成膜面に有機薄膜を形成する有機薄膜製造装置１０に於いて、高温に昇温される放出装置３１〜３５又は３６は、マスク板１４に近い位置を通過させないようにする。高温の放出装置３１〜３５又は３６が放射する熱によるマスク板１４の加熱が緩和され、マスク板１４が変形しないようになる。 （もっと読む）

【課題】マクロ粒子のフィルタ処理を改良した改良型の陰極アーク蒸着システムを提供する。
【解決手段】アーク源フィルタが、真空アーク蒸着システム内のアーク陰極１２と基板２０の間に配置される。フィルタは、アーク源を囲む複数のダクトエレメント２６，２８，３０，３２を含む。ダクトエレメントは、粒子を遮断するのに十分な空間寸法を有する。さらに、ダクトエレメントは、フィルタを通してプラズマ透過を導く電気及び磁気特性を有する。フィルタを通過する際に、高度に電離したアークプラズマには基本的に粒子がなく、これによって高密度でほぼ欠点がない品質を特徴とする反応及び未反応コーティングの源プラズマとなる。この設計によって、フィルタ処理の程度、コーティングゾーンの長さ、並びにアーク源の選択に関して融通性を持たせることができる。 （もっと読む）

【課題】電界効果型トランジスタに関する新規な製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に、非晶質酸化物層を形成する前に、基板表面にオゾン雰囲気中で紫外線を照射したり、基板表面にプラズマを照射したり、あるいは基板表面を過酸化水素を含有する薬液により洗浄する。または、非晶質酸化物を含み構成される活性層を形成する工程をオゾンガス、窒素酸化物ガス等の少なくともいずれかを含む雰囲気中で行う。または、基板上に、非晶質酸化物層を形成する後に、非晶質酸化物層の成膜温度よりも高い温度で熱処理する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】酸化された材料によるノズルの閉塞を防止することのできるインジェクターを提供する。
【解決手段】ノズル３は、インジェクション・ダクト１の外側に開口する主流路６およびインジェクション・ダクト１の内部を前記主流路６に連通する少なくとも１つの横方向供給流路７を備え、この横方向供給流路７が、酸化された材料による前記ノズル３の閉塞を防止するため、ノズル３の側面４を介して前記インジェクション・ダクト１の内部に開口する横方向オリフィス８を有する。 （もっと読む）

【課題】誘電体フィルムに形成する蒸着膜の厚みを均一化し、製造される金属化フィルムコンデンサの特性を安定化する。
【解決手段】この課題を解決するために本発明の加熱蒸着装置は、鉛直方向に対し垂直な回転軸７を有し、蒸着材料から発生する微粒子を、側壁に設けられた開口部８から外部へと飛散させる筒状部材３と、筒状部材の回転軸に接続され、筒状部材を回転させる駆動機構と、筒状部材３を覆うように設けられ、筒状部材３から放出された微粒子を基材方向へと導くホルダ４を備えた構成とした。このように蒸着時に筒状部材３を回転させる構成とすることで蒸着材料は適度に分散され、筒状部材３の内周面と接触している蒸着材料の面積は、時間が経過してもさほど変化することはない。この結果、発生する微粒子の量を均一化でき、誘電体フィルムに形成する膜の厚みを均一化することができる。 （もっと読む）

【課題】精度よく、成膜対象物に均一な膜を成膜することができる成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】成膜材料を加熱し、前記成膜材料の蒸気を放出させるための成膜源２１と、前記成膜源を、所定の成膜待機位置と成膜位置との間で成膜対象物に対して相対的に移動させる移動手段と、前記蒸着源から放出される前記成膜材料の放出量を測定するための測定用水晶振動子２２と、前記測定用水晶振動子を校正するための校正用水晶振動子２３と、を備える成膜装置であって、前記測定用水晶振動子及び前記校正用水晶振動子が、前記成膜源の所定の成膜待機位置の上方に固定されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】発光層などの薄膜素子に損傷を与えることなく、成膜可能な蒸着装置を開発する。
【解決手段】
真空雰囲気に維持可能であってガラス基板８を設置可能な蒸着室２と、電子ビームを照射して薄膜材料１５を蒸発させる蒸発装置３とを有し、蒸着室２にガラス基板８を設置し、蒸発装置３によって蒸発された薄膜材料１５を蒸散させて前記ガラス基板８に所定成分の薄膜を蒸着する真空蒸着装置１において、蒸発装置３と蒸着室２との間に管路６があり、蒸発装置３で蒸発した薄膜材料１５の気体が管路６を経て蒸着室２に導入される構成とする。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理にあたって、安価でコンパクトなプラズマ電位やイオン速度等のプラズマ状態の計測方法及び装置を提供する。
【解決手段】プラズマと該分析器の間に印加した電圧と質量分析器において同一イオンが検出された条件との関係からイオン速度とプラズマ電位との関係を算出し、さらに該質量分析器をシングルプローブに見立てて、質量分析器とプラズマ間に連続的あるいは断続的に負から正の電圧を印加し、これらの関係からプラズマ電位を算出し、前記イオン速度とプラズマ電位との関係と算出したプラズマ電位との関係からプラズマ中のイオン速度を算出する。 （もっと読む）

【課題】薄膜材料の使用効率が高く、大型基板に所定の形状の薄膜を形成できる技術を提供する。
【解決手段】
材料ガス放出装置３０は、内部に材料ガスが配置される中空の蒸気タンク３２ｈ、３２ｄと、載置面１３と対面する位置に配置され、蒸気タンク３２ｈ、３２ｄにそれぞれ接続された複数の放出装置本体３１₁、３１₂、３１₃と、各放出装置本体３１₁、３１₂、３１₃を、載置面１３に平行で薄膜形成方向５と直角な成分を有する方向にそれぞれ個別に移動する位置調整装置とを有している。材料ガス放出装置３０と処理台１２を一の薄膜形成方向５に沿って相対移動させながら、各放出装置本体３１₁、３１₂、３１₃から材料ガスを真空槽１１内に放出させて載置面１３上の成膜対象物２０に到達させ、直線状の薄膜を複数本同時に形成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、輝度を低下させずに高精細化を図ることを目的とする。
【解決手段】複数の画素電極２４を有する回路基板１０に、複数の貫通穴４０を有する蒸着マスク３８を使用した蒸着によって、有機材料からなる複数の発光層３０を形成する。蒸着マスク３８は、回路基板１０に対向するように配置される第１面４２と、第１面４２とは反対側の第２面４４と、を有する。第１面４２及び第２面４４を貫通するように複数の貫通穴４０が形成されている。隣同士の貫通穴４０に連通するように第１面４２に凹部５２が形成され、凹部５２に対向するようにリブ５４が形成されている。 （もっと読む）

【課題】薄膜材料を連続的に供給でき、長時間連続成膜が行える蒸着装置を提供する。
【解決手段】
ガラス基板８を設置可能な真空室２と、薄膜材料１９を蒸発させる発熱部２０を備えた蒸発装置３とを有し、真空室２内にガラス基板８を設置し、蒸発装置３によって蒸発された薄膜材料１９を蒸散させて前記ガラス基板８に所定成分の膜を蒸着する真空蒸着装置１において、
前記発熱部２０は真空室２内又は真空室２と連通する位置にあって薄膜を蒸着する際には真空雰囲気下に配されるものであり、真空室２の外部から前記発熱部２０に薄膜材料１９を送る薄膜材料送り装置１４を有する構成となっている。 （もっと読む）

【課題】基材表面が金属単原子層で被覆された金属単原子層被覆材料及びその製造方法を提供する。
【解決手段】親和力、融点及び蒸発温度に関して所定の関係を満たす第１の基材及び被覆金属を、金属単原子層が形成されるように密閉容器内に封入する封入工程と、密閉容器を、各被覆金属の真空での蒸発温度の最大値Ｔ_Mb以上、各第１の基材と各被覆金属とが反応する温度の最小値及び密閉容器の耐熱温度の内のいずれか低い方の温度以下で加熱した後、冷却し、第１の基材の表面を被覆金属からなる金属単原子層で被覆する被覆工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、ＥＬ材料の利用効率を高め、且つ、ＥＬ層成膜の均一性やスループ
ットの優れた成膜装置の一つである蒸着装置及び蒸着方法を提供するものである。
【解決手段】
本発明は、蒸着室内において、蒸着材料が封入された容器を複数個設置した細長い矩形形
状の蒸着源ホルダ１７に設け、基板１３に対してあるピッチで移動しながら蒸着を行うこ
とを特徴とする。また、基板の一辺に対して矩形形状の蒸着ホルダの長手方向を斜めにし
たまま移動させてもよい。また、ＴＦＴ作製時におけるレーザー光の走査方向に対して、
蒸着時における蒸着ホルダの移動方向を異ならせることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】連続運転しても、蒸着材料の劣化を防止することで、蒸着膜の品質低下を防止できる蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸発容器１１内に充填された蒸着材料Ｌを蒸発させて蒸着容器内に保持された基板に蒸着させる蒸着装置であって、蒸発容器１１を保持して冷却する容器保持具１２と、蒸着材料Ｌの表面部分を加熱用ランプ１６及び反射板１７で加熱する加熱装置１５と、蒸着材料Ｌの表面位置を検出し得るレーザセンサ１９とを具備し、容器保持具１２を、蒸発容器１１の底部を支持する載置部２１と、蒸発容器１１の側部を覆うと共に加熱用ランプ１６及び反射板１７が取り付けられた外周部２３とから構成し、載置部２１を昇降させる昇降装置１４を設け、且つレーザセンサ１９で検出された蒸着材料Ｌの表面位置に基づき昇降装置１４を制御して加熱用ランプ１６及び反射板１７と上記表面位置とを所定距離に維持する制御装置９を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）