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Fターム[4K029DB17]の内容

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アーク・エバポレーターは少なくとも1つのアノード(4)、カソード(3)、収束磁場成分を形成する一組の永久磁石(8,9)から成る第1サブシステムおよび少なくとも1つのコイル(10)を有して成り、そして第2発散磁場成分が発生している少なくとも1つの第1操作モードで操作するために構成された第2サブシステムを有して成る磁場発生システムを有して成る。
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【課題】良好な特性の多結晶シリコン膜を短時間に形成できる多結晶シリコン膜の形成方法、形成装置及びそれにより形成された多結晶シリコン膜が形成された基板を提供する。
【解決手段】シリコン蒸発源15の加熱によりシリコン微粒子を生成し、次に、シリコン微粒子を移送し、超音速フリージェットJの気流に乗せて真空チャンバー30中に噴出して、真空チャンバー30中に配置された基板33上に物理蒸着させ、シリコン微粒子からなる多結晶シリコン膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】膜材の気化によりハースに付着した成膜堆積物の再気化を抑制、または成膜堆積物がハースに堆積するのを抑制して、ワークに安定した膜特性を有する被膜を成膜することができるイオンプレーティング装置および成膜方法を提供すること。
【解決手段】真空チャンバ3の内部におけるハース5の露出面5bの表面温度を、タブレット21の気化によりハース5の露出面5bに付着した成膜堆積物の再気化を抑制する第1の温度領域、または気化したタブレット21のハース5の露出面5bに対する付着を抑制する第2の温度領域に制御する構成にした。 (もっと読む)


【課題】蒸着速度を低下させることなくX線による悪影響を避け得る電子ビーム蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空容器1内に配置された坩堝2内の蒸着材料に電子ビームEBを照射し、この電子ビームの照射により蒸発した蒸着材料を真空容器1内の基板ホルダー4に保持された基板K表面に付着させて薄膜を形成するための蒸着装置であって、坩堝2と基板Kとの間に円筒体からなるX線遮蔽体11を水平軸心回りで回転自在に配置するとともに、このX線遮蔽体11を加熱するヒータ13を具備し、且つX線遮蔽体11を、坩堝2の開口部からX線を被蒸着部材に照射した際に、X線RによるX線遮蔽体11の投影部分が被蒸着部材の薄膜形成範囲に略一致するような大きさにしたものである。 (もっと読む)


基板上に薄膜を堆積するための方法及びシステムは、基板上方に位置付けた蒸気供給流源からの蒸発可能材料を導入することを含む。蒸発可能材料は蒸発され、蒸気供給流源から蒸気供給流として基板から離れる方向に向けられる。蒸気供給流は、リディレクタから基板の方へ向きなおされて、基板上に薄膜として堆積される。 (もっと読む)


【課題】 処理室内に鉄−ホウ素−希土類系の焼結磁石Sと、Dy及びTbの少なくとも一方を含む蒸発材料vとを収納して加熱し、焼結磁石の結晶粒界及び/または結晶粒界相にDyやTbを拡散させて高性能磁石を得る際に、処理温度を低くでき、処理室で使用される治具や処理箱の寿命を延ばすことができる低コストの永久磁石の製造方法を提供する。
【解決手段】 蒸発材料vとして臭化テルビウムまたは臭化ジスプロシウムを用いる。そして、処理室70内に鉄−ホウ素−希土類系の焼結磁石Sを配置して所定温度に加熱すると共に、同一または他の処理室内に配置した前記蒸発材料を蒸発させる。この蒸発した臭化テルビウムまたは臭化ジスプロシウムを焼結磁石表面への供給量を調節して付着させ、焼結磁石の結晶粒界及び/または結晶粒界相に拡散させる。 (もっと読む)


【課題】光による加熱成膜法により均一な膜厚分布を有し、かつ良質な膜を成膜し、高信頼性な発光装置を生産性よく作製できる技術を提供することを課題の一とする。
【解決手段】光による加熱成膜法において、成膜する材料層(有機化合物材料を含む層)が設けられる成膜用基板の光吸収部表面を凹凸を有する粗面(梨子地形状)とする。光による加熱により溶融した有機化合物材料は粗面上にあるために凝集せず、被成膜用基板に均一な膜厚で成膜することができる。 (もっと読む)


【課題】成膜する際に、スプラッシュの原因となる蒸着源にて発生する粒子を速やかに取
り除くことにより、スプラッシュに起因する欠陥等の不具合が生じる虞の無い薄膜を成膜
することができる成膜装置を提供する。
【解決手段】基板Wを収納する真空容器2と、真空容器2内の側壁かつ基板Wの成膜面の
下方に配設され蒸着材料を収納する有底筒状のハース4と、このハース4に収納された蒸
着材料を加熱するプラズマガン5とを備え、このハース4はプラズマガン5と対向して配
置され、このハース4の軸線L1は、基板Wの成膜面の垂線L2と略直交している。 (もっと読む)


粒子材料を計量し、気化するための装置が、計量デバイスであって、粒子材料を受け取るための貯蔵室と、内部容積を有し、第1の開口部254及び第2の開口部200を有するハウジングと、内部容積内に配置され、滑らかな表面と、外周溝275とを有する回転可能シャフト270と、貯蔵室内に配置され、粒子材料を流動化して該粒子材料を貯蔵室から外周溝内に移送するために回転可能シャフトと協働する、複数の棒295を有する回転アジテーター290とを備え、粒子材料が溝によって移送されるように協働し、スクレーパー280が、その中に保持される粒子材料を取り除き、計量された量の粒子材料を第2の開口部を通して送達するように溝と協働し、回転可能シャフト及びスクレーパーは粒子材料を第2の開口部において流動化するように協働する、計量デバイスと、受け取った粒子材料をフラッシュ蒸発させるフラッシュ蒸発器とを備える。
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粒子材料を計量し、気化するための装置190が、粒子材料を計量するための計量デバイスであって、粒子材料を受け取るための貯蔵室230と、内部容積250を有し、第1の開口部及び第2の開口部を有するハウジング240と、内部容積内に配置され、滑らかな表面と外周溝とを有する回転可能シャフト270と、貯蔵室内に配置され、粒子材料を流動化して該材料を貯蔵室から溝内に移送するために回転可能シャフトと協働する送達する構造とを備え、シャフト及び内部容積は、粒子材料が溝によって移送されるように協働し、スクレーパーが、その中に保持される粒子材料を取り除き、擦り取られた粒子材料を流動化し、計量された量の粒子材料を第2の開口部を通して送達するために溝と協働する、計量デバイスと、計量された粒子材料を受け取り、フラッシュ蒸発させるフラッシュ蒸発器210とを備える。
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本発明は、フライス、切削インサート、射出成形用金型などのような工具のための摩耗保護層、特に物理的蒸着法を使用して蒸着させた摩耗保護層であって、当該層が、AlNbXの一般的な組成を有し(式中、Xは、N、C、B、CN、BN、CBN、NO、CO、BO、CNO、BNO、またはCNCOを表す)、Nbの割合が40原子%未満であり、かつ/または当該製造プロセスにおいて使用されるアルミニウム粉体が、アルミニウムに対して10〜50原子%のジルコニウムと混合されることを特徴とする摩耗保護層に関し、さらに摩耗保護層を製造するための方法にも関する。 (もっと読む)


【課題】ルツボの有機材料への水分の混入を抑えるとともに、成膜時の成膜レートや圧力等の安定性を向上させる。
【解決手段】成膜室2の前段に設けられた材料前処理室1において、ルツボ4にて昇華精製された有機材料を前処理ヒーター6によって加熱し、水分量を低減した環境で溶融して固化させる。この材料前処理工程で、ルツボ4の有機材料から水分を除去するとともに、有機材料の材料充填率を高めて、成膜室2における成膜の安定性を向上させる。 (もっと読む)


【課題】有機ドライジェット印刷ヘッド及びそれを使用した印刷装置及び方法を提供する。
【解決手段】開閉バルブ及びそれを制御する制御ユニットを使用して、パターンを形成する期間で、バルブを規則的に反復開閉させながら、短い高速ジェットの反復噴射方式で有機薄膜を構成してパターンを形成する。これによって、常圧条件でのパターン印刷が可能になり、基板の大面積化及び高精細パターンの印刷が可能になる。また、有機電子デバイス製造の生産性及び経済性を高めることもできる。 (もっと読む)


【課題】原料蒸発に用いる荷電粒子流の収束状態を適切かつ簡易に調整できる荷電粒子流収束機構を提供する。
【解決手段】本発明の荷電粒子流収束機構は、原料13を入れた蒸発源15と、原料13を加熱および蒸発できる荷電粒子流を放出する荷電粒子流放出手段110と、蒸発源と対向して配されて、荷電粒子流の収束用の磁力線を作る磁石19と、蒸発源15と磁石19との間の空間において磁性部材31を移送できる磁性部材移送手段120と、を備える。 (もっと読む)


【課題】コバルト前駆体の使用効率の高い、化学気相成長によるコバルト膜の形成方法を提供すること。
【解決手段】上記方法は、オクタカルボニルジコバルトを含むコバルト前駆体を昇華して基体上に供給し、該基体上で該コバルト前駆体をコバルトに変換して基体表面上にコバルト膜を形成する方法において、コバルト前駆体を炭素数5〜8の脂肪族炭化水素、炭素数5〜8の脂環族炭化水素及び炭素数6〜8の芳香族炭化水素よりなる群から選択される少なくとも一種の溶媒に溶解した溶液を準備し、上記基体上に供給されるコバルト前駆体は上記溶液に由来するコバルト前駆体の昇華物であり、そしてコバルト膜形成後のコバルト前駆体の残存率が12重量%以下であることを特徴とする方法である。 (もっと読む)


有機材料を気化させるための蒸発器について記載する。その蒸発器は、被覆すべき基板に向けられるように構成されるノズルを有する第1のチャンバーと、有機材料を気化させるための少なくとも1つの第2のチャンバーと、気化有機材料を少なくとも1つの第2のチャンバーから第1のチャンバーへ案内するための少なくとも1つの蒸気チャネルとを包含し、第1のチャンバーは、第1の仮想昇華表面に対応するノズルに気化有機材料を提供するように構成され、少なくとも1つの第2のチャンバーは、操作の間は第2の昇華表面積を提供するように構成され、第2の昇華表面積は、第1の仮想昇華表面の少なくとも70パーセントに相当する。
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【課題】 固まり状の粉末を排出させない粉末供給装置を提供する。
【解決手段】 粉末供給装置は、回転可能な攪拌羽根8と粉末落下孔7Sが備えられた粉末収容室7、粉末落下孔7Sに対向する箇所を含む円周上に溝11´が設けられた粉末供給盤12´、粉末落下孔7Sに対向する箇所以外の溝内の箇所にその先端部が挿入された粉末吸引パイプ23を備えており、粉末吸引パイプ23の先端部が挿入された溝11´内の箇所の少なくとも一部にキャリアガスが吹き付けられる様に成してある。 (もっと読む)


【課題】ルツボの蒸発口において蒸着材料が固化することのないように均熱性に優れた蒸発源を提供する。
【解決手段】蒸着材料6を収容するルツボ1の周壁に減圧室4を形成して、熱媒体5を装填し、ヒートパイプを構成する。ルツボ1の底部を加熱する加熱部2によって、蒸着材料6を加熱して、蒸発させ、発生した蒸気を、上蓋1aの蒸発口3から放出する。蒸発口3の近傍が低温になると蒸気が固化して成膜レートが安定しないため、ルツボ1の周壁に設けたヒートパイプによって均熱性を向上させる。 (もっと読む)


【課題】 成膜室に流入される蒸発ガスの供給量を制御して成膜レートを一定に保ち、かつ、高品質な高分子膜を形成できる成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】成膜対象Sが設置される真空成膜室10と、原料モノマーMa、Mbが封入されている蒸発源21a、21bと、前記蒸発源に設けられた加熱手段22a、22bとを備え、前記真空成膜室と前記蒸発源とを接続する原料管にコンダクタンス可変バルブ31a、31b及び圧力計32a、32bを設けると共に、当該コンダクタンス可変バルブには、前記圧力計で測定された圧力値が前記コンダクタンス可変バルブの設定された圧力値と等しくなるようにコンダクタンス可変バルブの開度を制御する制御部33a、33bを設ける。 (もっと読む)


【課題】非導電性試料の表面に、むらの無い良質な導電性のカーボン膜を短時間で形成する。
【解決手段】開閉弁9aを開き、ロータリーポンプ10で試料室2aの大気を排気する。試料室2aの真空度が1Pa程度になったら、流量調整弁8aを開いて試料室2aにアルゴンガスを導入し、試料室2aの真空度が2Pa程度になるようにアルゴンガスの流量を調整する。電極棒7aと7b及び電極5aと5bを通じてカーボン棒に50A程度の電流を流す。通電によりカーボン棒が赤熱し、カーボンが蒸発することにより蒸着が行なわれる。 (もっと読む)


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