本発明は、アーク蒸発による金属酸化物被膜層および／または金属窒化物被膜層のコーティング方法のためのターゲットの使用方法であって、前記ターゲットは前記ターゲットに使用された金属の融点よりも高い温度で操作することができ、かつ前記ターゲットは当該酸化物および／または窒化物が導電性をもたない金属から構成されている、使用方法に関する。さらに本発明は、アーク蒸発による金属酸化物被膜層および／または金属窒化物被膜層の製造のためのターゲットの使用であって、前記ターゲットは金属から構成されるマトリックスを有し、前記マトリックス中に前記金属の非導電性酸化物および／または窒化物が埋封されている、使用に関する。
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基板を支持する基板ホルダと、コーティング材料の広がり流れを放出するコーティング材料源とを備える基板を被覆するための物理蒸着装置。コーティング材料の広がり流れは、コーティング材料の発散部分とコーティング材料の指向部分とを含む。本装置は、さらに、コーティング材料源と動作可能に連係するように位置決めされたブラインダ手段であって、コーティング材料の指向部分がブラインダ手段から連続的に出て、略基板ホルダに向かって進むように、コーティング材料の広がり流れを受け止めて衝当させるためのブラインダ手段を備える。コーティング材料の指向部分は、コーティング材料の広がり流れより小さい広がりを呈する。
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【課題】蒸着材料と絶縁部材との間を密着させて安定した初期放電を得ることができる同軸型真空アーク蒸着源及びこれを備えた真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る同軸型真空アーク蒸着源５は、円筒状の絶縁碍子１４と、絶縁碍子１４の内周部に配置され外周部が絶縁碍子１４の内周部に弾性的に接触する蒸着材料１１と、絶縁碍子１４の外周部に配置されたトリガ電極１３と、トリガ電極１３の周囲に同心的に配置された筒状のアノード電極２３とを具備する。これにより、蒸着材料１１と絶縁碍子１４との間の密着を常に維持することができるので、蒸着源５の安定した放電動作を確保することができる。 （もっと読む）

【課題】合金膜を容易に形成することができる同軸型真空アーク蒸着源及びこれを備えた真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る同軸型真空アーク蒸着源８は、円筒状の絶縁碍子１４と、絶縁碍子１４の内周部に配置され、２種以上の金属箔８２（８２ａ，８２ｂ）が重ねて巻回されてなる蒸着材料８０と、絶縁碍子１４の外周部に配置されたトリガ電極１３と、トリガ電極１３の周囲に配置された筒状のアノード電極２３とを具備する。これにより、２種以上の金属の合金インゴットの作製が不要となる。また、合金化が困難な材料の合金膜の形成が可能となる。さらに、３種以上の金属箔を用いることで、３元系以上の合金膜をも容易に形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】転写層となる材料層が余分に蒸着されるのを防ぐと共に所望の蒸着パターンを形成することができ、転写中に材料等の劣化が起きにくい方法を用いることにより、高精細で発光特性が高く、長寿命である発光装置の作製方法を提供することを目的とする。
【解決手段】第１の基板の材料層が形成された一方の面から所定の条件式を満たす第１の光を照射することにより、材料層をパターン形成し、次いで第１の基板の他方の面から所定の条件式を満たす第２の光を照射することにより、パターン形成した材料層を被成膜基板である第２の基板上に蒸着させる発光装置の作製方法である。 （もっと読む）

本発明は、基材上に蒸着されたメラムの、高湿度に対する耐性が求められる用途（レトルト処理もしくは金属堆積を含むさらなる処理等）または太陽電池やディスプレイ等の用途における使用に関する。バリア層のメラム対メラミン比（ｗ／ｗ）は、３：１〜５０：１の範囲にある。レトルト耐性を有する積層体は、２枚のプラスチックフィルムとその間に結晶性メラム層とを有し、積層体の、９０°引張試験で３０ｍｍ／分で測定されたラミネート強度は約２Ｎ／インチ以上である。 （もっと読む）

【課題】スプラッシュの発生が抑制され、また、蒸着レートが安定した蒸着源、および蒸着装置を提供すること。
【解決手段】ルツボ８には、導電体からなる複数の加熱板１が間隙を持って重なって配置されている。各加熱板１には、膜材料５が搭載可能に設けられている。最上段の加熱板１には、膜材料５がセットされていない。誘電コイル１０によって磁界が形成されると、各加熱板１自体が誘電加熱によって斑なく発熱し、載せられた膜材料５も均一に加熱されるため、蒸着レートが安定する。また、膜材料５が薄く形成されているため、当該材料内における温度分布が略均一となり、スプラッシュの発生が抑制される。 （もっと読む）

【課題】高融点の金属材料または非昇華性材料からなる蒸着性材料からなる薄膜を被成膜体に対して安定して形成することが可能な真空成膜装置を提供する。
【解決手段】真空成膜装置１０は、被成膜体１３が配置された真空チャンバー１２と、蒸着性材料２０を収納するるつぼ１９と、プラズマビーム２２をるつぼ１９内の蒸着性材料２０に向けて照射する圧力勾配型プラズマガン１１とを備えている。るつぼ１９に、蒸着性材料２０を１５０℃乃至２０００℃の範囲内で加熱できる加熱機構４０が設けられ、るつぼ１９近傍に、るつぼ１９内に蒸着性材料２０を供給する材料供給装置５０が設られている。プラズマビーム２２を蒸着性材料２０の表面に導き、真空チャンバー１２内の被成膜体１３上に薄膜２０ａを形成する。 （もっと読む）

【課題】比較的大きい表面凹凸が形成される磁気記録層上であっても、ＦＣＶＡ法により、ステップカバレッジ、および、耐食性・耐摩耗性に優れた磁気記録媒体用薄膜を成膜できる。
【解決手段】回転駆動機構部およびチルト機構部が制御ユニット４０に制御されることにより、基板ホルダー２０および記録媒体用基板２８’の傾斜角θが、成膜中、保護層の膜厚の増大に応じて最小傾斜角度から最大傾斜角度まで連続的に変化する。 （もっと読む）

本発明は、蒸気分配器（３）によって基板（４）をコーティングするための装置に関する。この蒸気分配器（３）は、入口（５）を介して蒸発器るつぼ（７）と接続されている。少なくとも１つのバルブ（１３）がるつぼ（７）と入口（５）の間に配置されている。蒸発器るつぼ（７）は、真空バルブ（１１）によって排気又は注入可能なチャンバ（１２）内に位置している。
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【課題】カソード電極とトリガ電極との間の短絡を効果的に抑止でき、メンテナンスフリーの状態における使用期間をより長期間とする（または使用回数をより多くする）ことのできるアーク蒸着装置を提供する。
【解決手段】カソード電極１と、これを包囲する絶縁ガイシ４と、この外周に設けられたＣリング３と、この外周に設けられたトリガ電極２と、が一つのユニット体を形成して筒状のアノード電極６内に収容され、これが減圧容器８内に収容されてできるアーク蒸着源１０を具備するアーク蒸着装置１００であり、カソード電極１を構成する蒸着材料の消耗に応じて該カソード電極１を絶縁ガイシ４に対して相対的に移動させる第１の送り出し手段９Ａと、少なくとも絶縁ガイシ４をＣリング３の端部から突出させる第２の送り出し手段９Ｂとを備え、Ｃリング３の切欠き３１はトリガ電極２側からカソード電極１側に向ってその切欠き幅が広くなっている。 （もっと読む）

【課題】金属酸化物を蒸発材料とする金属酸化膜の蒸着方法に関するものであり、特にプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰという）の保護膜の形成に関するもので、保護膜としての＜１１１＞配向したＭｇＯ膜の成膜速度を早くして、生産性の向上とパネル特性の向上を図る。
【解決手段】金属酸化物を蒸発材料とする蒸着方法において、前記蒸発材料の加熱手段として電子銃を使用し、該電子銃からの電子ビームを絞り、該電子ビームの直径をもとに蒸発材料への電子ビームの照射面積に合わせて、電子ビームの揺動波形を制御することを特徴とする金属酸化膜の蒸着方法であり、走査電極、維持電極、誘電体層及び保護膜から成る前面基板とアドレス電極、バリアリブ及び蛍光体からなる背面基板から構成されているプラズマディスプレイの保護膜であるＭｇＯ膜の成膜速度が速くなり、かつ良好なパネル特性が得られた。 （もっと読む）

【課題】プラズマガンの投入電力を増加させず、成膜中の圧力を低くせず、プラズマガン内に導入するＡｒガスの流量を少なくせずとも、成膜速度を高めることを可能とするプラズマ発生装置、成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】プラズマガンから収束コイルにより引き出したプラズマビームを、プラズマビームの照射方向に対して直交する方向に延び、対向して互いに平行に配置されて対になっている第一のマグネットによって形成される磁場の中に通過させることにより、プラズマビームをシート状に変形させるプラズマ発生装置において、プラズマガンと該第一のマグネットの間に、プラズマビームの照射方向にその孔部の中心が位置しかつ照射方向の磁場を収束させる磁場を形成する、前記孔部を有する第二のマグネットを少なくとも１つ配置した。 （もっと読む）

本発明は、ＰＶＤ（物理的蒸着）によって、特に陰極アーク蒸着によって酸化物層を製造するための方法であって、粉末冶金ターゲットが蒸着され、その粉末冶金ターゲットは少なくとも２つの金属または半金属構成要素でできており、そのターゲットの金属または半金属構成要素の組成が、液相への転移における室温からの加熱の際に、少なくとも２つの金属または半金属成分の溶融混合物の状態図に関して純粋な固相のどの相境界もが横切られないように選択される方法に関する。 （もっと読む）

【課題】再現性や生産性を向上させ、蒸着量の調節が容易な蒸着装置を提供すること。
【解決手段】被処理基板１１を搬送させる搬送手段を備え、被処理基板１１に蒸着材料を蒸着させる蒸着装置１であって、蒸着材料を収容する坩堝２１〜２３と、該坩堝２１〜２３を加熱する加熱手段３０と、坩堝２１〜２３の開口部２９に設けられ、被処理基板１１の搬送方向に開口部２９の開口面積が制御された開口制御部４１〜４３とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光学的品質の薄膜を製造することに関し、特に非線形光学デバイス及び有機発光デバイスで利用されるそのような薄膜の低圧製造を提供する。
【解決手段】基体５８上に有機薄膜を形成する方法であって、その方法は、複数の有機前駆物質（１４、４８）を気相で与え、前記複数の有機前駆物質（１４、４８）を減圧下で反応させる工程を有する。そのような方法により製造された薄膜及びそのような方法を実施するのに用いられる装置も含む。本方法は、有機発光デバイスの形成及び他のディスプレイ関連技術によく適している。 （もっと読む）

【課題】 保磁力などの磁気特性が効果的に向上または回復し、かつ、耐食性や耐候性を有する永久磁石を高い量産性で製造できる永久磁石の製造方法を提供する。
【解決手段】 処理室７０を画成する処理箱７内に焼結磁石と、Ｄｙ、Ｔｂの少なくとも一方を含む金属蒸発材料ｖとを配置した後、真空チャンバ３内に収納する。そして、真空中にて処理箱を加熱して金属蒸発材料を蒸発させ、蒸発した金属原子を焼結磁石表面に付着させ、前記付着した金属原子を焼結磁石の結晶粒界及び／または結晶粒界相に拡散させる。処理室内の昇温過程で金属蒸発材料が蒸発しないように処理室内に不活性ガスを導入する。 （もっと読む）

【課題】同軸型真空アーク蒸着源を用いた真空処理装置における蒸着量のバッチ毎の再現性を改善し、その安定化を提供する。
【解決手段】同軸型真空アーク蒸着源５は、環状のトリガ電極１３と、カソード電極１２と、カソード電極１２に接続される一端部と、一端部と反対側の他端部とを有し、一端部と他端部の少なくとも一方が面取りされた円柱状の蒸着材料１１と、トリガ電極１３と蒸着材料１１の間、及びトリガ電極１３とカソード電極１２の間に配置された絶縁碍子１４と、トリガ電極の周囲に配置され、一端に開口を有する筒状のアノード電極２３とを具備する。これにより、蒸着材料１１が消耗しても、その端部周縁の曲面が維持された状態となるので、蒸発粒子の出射角が安定し、蒸着の再現性が改善する。 （もっと読む）

【課題】カソード電極側の蒸着材料が消耗することによってトリガ放電が発生しなくならないように、蒸着材料を自動的に供給可能な同軸型真空アーク蒸着源。
【解決手段】本発明の蒸着源５は、蒸着材料１１と一体的な棒状のカソード電極１２と、カソード電極１２の周囲に配置されたアノード電極と、蒸着材料１１に近接した位置に配置されたトリガ電極１３と、蒸着材料１１を軸方向に移動させる手段と、カソード電極１２とアノード電極１２の間における放電を制御する電源装置６と、電源装置６の出力に基いて直線駆動機構６２の駆動制御を行う放電コントローラ６５とを備えた同軸型真空アーク蒸着源である。蒸着材料１１と一体的な棒状のカソード電極１２は、放電コントローラ６５からの信号を受けた直線駆動機構６２により、アーク放電に同期して自動的に駆動される。 （もっと読む）

【課題】蒸着法による成膜を行う場合において、所望の蒸着材料のみが蒸着されることを可能にし、蒸着材料の利用効率を高めることによって製造コストを低減させると共に、均一性の高い膜を成膜することが可能な蒸着用基板を提供する。
【解決手段】基板上に開口部を有する反射層を形成し、基板および反射層上に透光性を有する断熱層をそれぞれ分離形成し、断熱層上に光吸収層をそれぞれ形成し、光吸収層上に材料層をそれぞれ形成することによって得られる蒸着用基板を作製する。 （もっと読む）