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Fターム[4K029DB18]の内容

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Fターム[4K029DB18]に分類される特許

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【課題】生産性を高めることができるとともに均一な蒸着膜を形成することができる真空蒸着装置および真空蒸着方法を提供する。
【解決手段】フィルムFを外周に沿わせて連続的に送る冷却ドラム21を備え、このフィルムFの外周側に、有機材料を加熱して蒸発させるとともに放出させて当該フィルムFに負圧下で蒸着させる蒸発源31を4基配置した真空蒸着装置1であって、上記蒸発源31のうち、第1蒸発源31Aおよび第2蒸発源31Bは、同一の有機材料を蒸着させるものであり、上記第1蒸発源31Aは蒸発させた有機材料の放出量を調整し得るバルブ駆動部33を有せず、第2蒸発源31Bは当該バルブ駆動部33を有するものであり、上記第1蒸発源31Aおよび第2蒸発源31B以外の他の蒸発源31C,31Dは、上記バルブ駆動部33を有するものである。 (もっと読む)


【課題】蒸発した材料の堆積の均一性、特にインジェクターの軸に沿っての均一性を改善することにある。
【解決手段】 本発明は、真空蒸着システムのためのインジェクターに関し、該インジェクターは、真空蒸発源からの蒸発した材料を受けるのに適したインジェクション・ダクト、および蒸発した材料を真空蒸着室内に放射するための複数のノズルを備えたディフューザーを備えており、各ノズルは、前記インジェクション・ダクトを前記蒸着室に連結するのに適したチャンネルを備えている。本発明によれば、前記ディフューザーは、空間的に変化があるノズル配置を有している。本発明はまた、インジェクターを較正する方法、インジェクターのディフューザーを製造する方法に関する。 (もっと読む)


【課題】静電容量バラツキの少ない大容量電極箔を形成する事を目的とする。
【解決手段】この目的を達成するため本発明の蒸着用ボート13は、凹溝17が、少なくとも蒸着材料が供給される供給用凹溝19Aと、この供給用凹溝19Aと連通する蒸発用凹溝20と、この蒸発用凹溝20と連通する拡散用凹溝19Bとで構成され、表面に供給用凹溝19Aおよび拡散用凹溝19Bが形成された領域のそれぞれの基体18の抵抗値に対する、表面に蒸発用凹溝20が形成された領域の基体18の抵抗値の比は、蒸着材料の沸点を蒸着材料の融点で除した値以上であるものとした。これにより本発明は、供給用凹溝19A近傍の温度を下げ、供給用凹溝19A近傍における蒸着材料の溶融や酸化を抑制し、蒸発量を安定化させる。また凹溝17の端部にまで均一に蒸着材料を行き渡らせることが出来る。そしてその結果、均一な粗膜層7を形成できる。 (もっと読む)


【課題】クリーニングガスとしてフッ素系ガスを使用することにより、処理容器自体や被処理体を保持する保持手段にダメージを与えることなく不要な高分子薄膜のみを選択的に且つ効率的に除去することが可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】被処理体Wの表面に高分子薄膜を形成する成膜装置において、被処理体を収容する処理容器4と、処理容器内で被処理体を保持する保持手段6と、処理容器内を真空引きする真空排気系30と、処理容器内へ高分子薄膜の複数の原料ガスを供給するガス供給手段20と、処理容器内へクリーニングガスとしてフッ素ガスを供給するクリーニングガス供給手段26と、処理容器を加熱する容器加熱手段14とを備える。これにより、処理容器内をクリーニング処理するに際して、クリーニングガスとしてフッ素系ガスを使用する。 (もっと読む)


【課題】分割マスクとその分割マスクを含むマスクフレーム組立体の組立装置を提供する。
【解決手段】蒸着用パターンが設けられたスティック本体と、スティック本体の長手方向に沿って延びた第1クランピング部と、スティック本体の長手方向と幅方向との間の斜め方向に沿って延びた第2クランピング部と、を備える分割マスク及びその分割マスクを含むマスクフレーム組立体の組立装置である。これにより、マスクフレーム組立体の組立時、第1、2クランピング部を利用して、長手方向だけでなく、幅方向にも引張力を与えることができるので、ウェーブの発生を抑制して精密なマスクフレーム組立体を作りうる。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、真空蒸着チャンバを開くときの待ち時間を短縮できる蒸着源又は前記蒸着源を用い稼働率の高い有機ELデバイス製造装置及び有機ELデバイス製造装置の運転方法を提供することである。
【解決手段】
内部に蒸着材料を内在する坩堝と、前記蒸着材料を加熱し蒸発・昇華させる加熱手段と、前記蒸発・昇華した前記蒸着材料を噴射する蒸着物噴射口とを有する蒸着源において、前記坩堝の外面のうち蒸着物噴射口ない外面と前記蒸発源の筐体との間に存在する部材の一部を除去可能な除去可能部を有することを第1の特徴とする。また、本発明は、前記除去可能部が移動した前記蒸発源の開口部に挿入可能であって内部に冷却材が供給され、前記冷却材を排出する坩堝冷却体と、前記坩堝冷却体を前記開口部に挿入する坩堝冷却体挿入手段とを有することを第2の特徴とする。 (もっと読む)


【課題】分割マスク及びこれを利用したマスクフレーム組立体の組立方法を提供する。
【解決手段】パターンが形成された本体部と、本体部の一側から延びた少なくとも一つ以上のサイドクランピング部と、前記少なくとも一つのサイドクランピング部の最外郭のサイドクランピング部に隣接して配される斜めクランピング部と、を備え、斜めクランピング部とサイドクランピング部とがなす角度(θ)は、0°より大きく90°より小さい(0°<θ<90°)分割マスク及びこれを利用したマスクフレーム組立体の組立方法。 (もっと読む)


【課題】複数のスティック型分割マスクが採用されるマスクフレーム組立体を提供する。
【解決手段】フレームに互いに交差して設けられ、その交差位置は互いに溶接で固定された支持バー及び分割マスクを備え、その溶接点の周囲には分割マスクの一部を切除した部分切除部が形成されるマスクフレーム組立体。かかる構造によれば、支持バーで分割マスクの下反りを防止でき、基板と分割マスクとの密着性も向上させることができるマスクフレーム組立体が具現される。 (もっと読む)


【課題】超臨界流体により所望の有機薄膜を形成し得る成膜装置及び成膜方法を提案する。
【解決手段】成膜装置1では、ノズル36の先端開口部36aを基板31の表面近傍に配置し、超臨界流体と基板31との温度差により発生させた過飽和のアントラセンが粉体化する前に基板31の表面に到達させるようにしたことにより、アントラセンが粉体化することなく過飽和状態のアントラセンを基板31の表面にて析出させ堆積させることができ、かくして、超臨界流体により所望の有機薄膜60を形成し得る。 (もっと読む)


【課題】 成膜対象物上への薄膜の形成を好適に行うことが可能な成膜装置、及び成膜方法を提供する。
【解決手段】 Si原子を含む化合物または混合物を表面改質材料として導入する導入管20と、キャリアガスを導入する導入管25と、表面改質材料及びキャリアガスを内部に導入、加熱して、それらが混合された表面改質ガスを供給するホットウォール管12と、ホットウォール管12の内部において加熱されることで金属材料を含む成膜材料ガスを供給する成膜材料体30と、成膜面上に薄膜を形成するための成膜用基板16を保持する基板保持ステージ15とを用いて成膜装置1Aを構成する。そして、ホットウォール管12から基板16の成膜面へと表面改質ガス及び成膜材料ガスを供給することによって、金属材料を少なくとも含む薄膜を成膜面上に形成する。 (もっと読む)


【課題】基板に蒸着される有機発光素子の厚さを一定に維持し、信頼性の高い有機発光素子を製作できる原料物質供給装置を提供する。
【解決手段】基板上に蒸着される原料物質1が固体又は液体状態で収容される原料容器110と、前記原料容器110が設置される内部空間を備えており、前記原料容器110から気化された原料物質1が通過する気化チャンバー120と、前記気化チャンバー120の内部空間で前記原料容器110の上側に設置され、前記原料容器110に収容された原料物質1を気化させるために前記原料容器110に熱を供給する第1のヒーター130と、前記第1のヒーター130と前記原料容器110とが互いに近づく方向又は互いに遠ざかる方向に前記第1のヒーター130及び前記原料容器110のうち一つを往復移送させる移送ユニット140とを含む。 (もっと読む)


【課題】薄膜を蒸着するための装置の稼動停止周期を延ばし、装置の使用効率を高めることができる大容量薄膜形成用蒸着装置を提供する。
【解決手段】複数の原料容器110およびセンサー150を設け、原料容器110に収容される原料物質1の量を分散することによって、単一の大容量の原料容器を用いる場合に比べて原料物質1の加熱に必要な熱量を減少させ、第2のヒーター190で噴射口130の周囲の温度を上昇させることによって、噴射口130の周囲では常に原料物質が気化された状態を維持する。 (もっと読む)


【課題】開角の大きな複数の光学素子成形用型に対して、成形用型の周辺部において、離型不良、融着不良、成膜剥れ不良が発生のない、ガラスプレス用テトラヘドラルアモルファスカーボン膜成膜方法を提供する。
【解決手段】成形面が凸状の型母材3の内部に磁石4を配置し、前記各型母材3の外側にはリング状磁石5を配置し、複数の型母材3を同心円状に配置した状態で、前記磁石4とリング状磁石5により形成される磁場が、前記型母材3の頂点部の法線方向の磁束密度が最も高くし、前記各型母材3に電圧を印加しながら、フィルタードカソ−ディックバキュームアーク法によって、前記型母材3の成形面にテトラヘドラルアモルファスカーボン膜を成膜する。 (もっと読む)


【課題】筒状体の内周面に均一な膜厚で、かつ均一なドープ濃度で共蒸着膜を形成可能な成膜装置および成膜方法。
【解決手段】成膜装置30は、筒状体1の内周面に共蒸着膜を形成するための成膜装置であって、筒状体1を保持するための筒状体ホルダ2と、第1の蒸着材料11を充填するための内部空間を有する第1の蒸着容器12と、第2の蒸着材料12を充填するための内部空間を有する第2の蒸着容器22とを備えている。筒状体ホルダ2と第1および第2の蒸着容器12、22とは、筒状体1の延在する方向に互いに相対的に移動可能であり、筒状体1の延在する方向に延びる仮想の軸線A−Aを中心として互いに相対的に回転可能である。 (もっと読む)


【課題】大型基板上に膜厚が均一で不純物の少ない薄膜を高速に成膜させ、長時間連続運転可能な真空蒸着装置及び成膜装置を提供する。
【解決手段】蒸発源は蒸着材料17を収容し、蒸気16を外部に放出するノズル16を有する坩堝14と、坩堝14を加熱するヒーター13で構成されている。蒸気15が放出されるノズル14の先端に金属で形成されたリング状の信号検出センサー11を配置する。蒸着材料17が過熱されて分解されたときに発生する荷電粒子が信号検出センサー11に衝突すると微弱電流が流れる。この微弱電流を蒸着室の外部に設置された第1の制御装置18によって検出し、第1の制御装置18からの信号を用いる第2の制御装置12によって蒸発源のヒーター13に加える電力を制御することによって蒸着膜厚を制御する。 (もっと読む)


【課題】誘電体フィルム上の金属蒸着電極中の各金属成分の比率を制御し、優れた特性を有する金属化フィルムを提供する。
【解決手段】真空蒸着装置は、上部が開口した蒸着室8と、蒸着室内に設けられ、金属材料を加熱して金属蒸気を発生させる複数の蒸発源16と、蒸着室内において、複数の蒸発源どうしを仕切る隔壁18を備え、隔壁は、水平方向に可動な板状の基部24と、基部の上部に設けられ、鉛直方向に可動な仕切り板25を有する構成とした。この構成により、各金属蒸気が放出される開口部の面積を自由に変更できるようになり、さらに夫々の蒸発源からの金属蒸気どうしが重なり合う量を制御することができる。この結果、金属蒸気の蒸着量やその状態の制御が可能となり、金属蒸着電極中の各金属成分の比率や分布状態を制御できる。そして、優れた特性を有する金属化フィルムを作製できる。 (もっと読む)


【課題】複数の蒸発源ユニットを用いた真空蒸着装置において、蒸発源ユニットの個数を増加させることなく蒸着膜厚の均一性を向上し、かつ、高速に成膜する真空蒸着装置を提供すること。
【解決手段】長手方向(X方向)を有する蒸発源を、前記X方向および基板面に沿って垂直な方向(Z方向)に基板と蒸発源を相対的に移動させる機構を有する真空蒸着装置において、
前記蒸発源には蒸着材料が封入された複数の蒸発源ユニット3がX方向に所定の間隔をもって配置され、Z方向へ複数回の走査を繰り返す際、往路と復路で前記蒸発源ユニット3をX方向に所定のピッチで移動させて成膜する。Z方向への往路と復路の間のX方向への小さな移動により、蒸発源ユニット3の個数を増加することなく、膜厚均一性を向上することができる。 (もっと読む)


【課題】物理蒸着中に、凝縮した蒸気を収集するための装置および真空システムを提供する。
【解決手段】物理蒸着中に、凝縮した蒸気を収集するための装置は、真空チャンバ内の1つ以上の蒸気源に隣接して配置されるように構成された筐体を備える。この筐体は、対象物を収容するように構成された空間の体積を部分的に囲む筐体の内面を含み、この筐体は、上記1つ以上の蒸気源よりも低い温度に保たれる。上記筐体の内面は1つ以上の排水溝に結合される。 (もっと読む)


【課題】高いガスバリア性を有し、かつ、ガスバリア層と積層する薄膜層との密着性に優れた透明ガスバリアフィルム、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】高分子基材フィルム上に、少なくとも珪素酸化物からなる薄膜層が積層された透明ガスバリアフィルムであって、該珪素酸化物からなる薄膜層の表面がアルゴン(Ar)と窒素(N2)の混合ガスを原料とするイオン照射処理されてなるものであることを特徴とする透明ガスバリアフィルム。 (もっと読む)


【課題】大型基板上に膜厚が均一で有機EL上部電極用のアルミ金属薄膜を高速に成膜させ、長時間連続運転可能な真空蒸着装置及び成膜装置を提供する。
【解決手段】セラミック製の坩堝を用いてアルミの這い上がりを防止し、同一方向に所定の角度で傾いた蒸発源3−1を少なくとも2つ以上、縦方向に並べた蒸発源列3−2を横方向に操作して蒸着する機構を用いることにより、大型化した縦置き基板1−1に対して、有機EL上部電極用金属薄膜を高速成膜し、長時間の連続成膜をすることを可能にする。 (もっと読む)


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