【課題】大きな接触応力が作用するような条件下や無潤滑下においても好適に使用可能な転がり摺動部材及び転動装置を提供する。
【解決手段】スラスト玉軸受は、内輪１と外輪２と複数の玉３とを備えている。内輪１，外輪２と玉３との接触面、すなわち転がり摺動面には、パルス幅１ｐｓ以上５ｐｓ以下の短パルスレーザーの照射による微細加工が施されている。そして、転がり摺動面のうち微細加工が施されている部分には、ダイヤモンドライクカーボン膜Ｄが被覆されている。ダイヤモンドライクカーボン膜Ｄは、Ｃｒ，Ｗ，Ｔｉ，Ｓｉ，Ｎｉ，及びＦｅのうちの１種以上の金属からなる金属層Ｍと、前記金属及び炭素からなる複合層Ｆと、炭素からなるカーボン層Ｃと、の３層で構成されていて、該３層はダイヤモンドライクカーボン膜Ｄの表面側からカーボン層Ｃ，複合層Ｆ，金属層Ｍの順に配されている。 （もっと読む）

【課題】膜質の良い絶縁膜を成膜する。
【解決手段】本発明の成膜装置１は電離装置２５を有している。電離装置２５は反応ガスの経路の途中に設けられており、反応ガスは経路を流れる途中で電離装置２５で電離され、成膜室２内部に電離された反応ガスが導入される。電離された反応ガスを成膜室２内部に導入しながら、ターゲット６をスパッタリングすれば、スパッタ粒子と反応ガスとが反応して、基板１１表面に反応物の膜が形成される。反応ガスを電離してからスパッタを行うと、反応ガスを電離させない場合に比べて、成膜速度が速く、かつ、膜質の良い膜が得られる。 （もっと読む）

【課題】親水性並びに汚染防止、抗菌、消臭作用等の多機能性を増加させた光触媒機能材料を主体とする光触媒コーティング剤及び蒸着加工方法を提供する。
【解決手段】光触媒機能材料に、助触媒として酸化トリウムゲル体又は希有元素類を含む鉱物、或いは酸化トリウムゲル体及び希有元素類を含む鉱物を含有させてなる光触媒作用を増幅させた光触媒コーティング剤を、ガラス、金属、樹脂、セラミック等の基材に蒸着加工した構成とする。 （もっと読む）

【課題】プレス加工が完了し、意図的にキャリア箔を引き剥がすまでの間に、キャリア箔が銅箔層に確実に密着した状態にあり、且つ、３００℃を超えるプレス加工温度で使用可能なピーラブルタイプのキャリア箔付銅箔の提供を目的とする。
【解決手段】前記課題を解決するために、キャリア箔の表面に接合界面層を介して銅箔層を有するキャリア箔付銅箔であって、当該接合界面層は物理蒸着法で形成した単独の炭素層又は金属層と炭素層とからなる複合層であり、当該銅箔層は物理蒸着法で形成したことを特徴とするキャリア箔付銅箔を採用する。また、当該キャリア箔付銅箔の銅箔層の表面に物理蒸着法で形成した防錆処理、シランカップリング剤処理から選択された１種又は２種以上の表面処理を施したキャリア箔付表面処理銅箔を採用することも好ましい。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子の保護膜形成する際に、効果的に成膜速度の低減を防ぎ、かつ、有機ＥＬ素子の物理的ダメージを抑えた、スパッタリング法による有機ＥＬ素子の製造方法を提供することにある。
【解決手段】基板上に形成した有機エレクトロルミネッセンス素子上に保護膜を形成する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、プラズマ発光強度をモニターして、反応性ガスの導入量を制御するプラズマエミッションモニタリングによるスパッタリング法で、前記保護膜を形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＤＬＣ薄膜の製造方法の提供。
【解決手段】本発明はＤＬＣ薄膜の製造法に関するものであり、主にはスパッタリング方法を用いて基板表面にＤＬＣ薄膜を形成させるものである。本発明の製造方法には以下の手順を含めている：（ａ）反応室を提供し、反応室に基板を置く、（ｂ）反応室の圧力を１０^-6 ｔｏｒｒ以下とする、（ｃ）少なくとも一種の炭素を含むガスを反応室に導入する、及び（ｄ）石墨ターゲット材料を使用してスパッタリング法を利用してＤＬＣ薄膜を基板に沈積させる。なお、本発明で製作したＤＬＣ薄膜には、薄片構造の特徴を持ち、基板表面に花びら模様に配列している。本発明のＤＬＣ薄膜の薄片構造の高さはミクロン単位で、厚さはナノ単位なので、本発明のＤＬＣ薄膜の薄片構造の高さと広さが高い縦幅比になっており、優れた電界放出増強因子を持つことができる。 （もっと読む）

【課題】面圧を受けて相互に接触する金属表面に高質で強靭な被膜を形成し、耐磨耗性を向上させることが可能な金属の表面処理方法を提供する。
【解決手段】ハイポイド歯車の相互に面圧を受けた状態で接触する金属表面には、厚さが０．１μｍ以上２００μｍ以下で、硬さがＨｖ６００以上の硬化層を形成し、この硬化層には、平均粒径が３〜１５０μｍの範囲内で、硬さが硬化層の０．８倍以下の投射材を用いてショットピーニング処理を行う。 （もっと読む）

【課題】 潤滑油中において特に低い摩擦係数を示し、相対的に簡便なプロセスで製造することができ、潤滑剤・潤滑油の選択の制約が少ない硬質炭素被膜を提供する。
【解決手段】 非晶質炭素を主成分とし、副成分としてコバルトおよび／またはニッケルを合計で１．４原子％以上３９原子％以下含有させ、コバルトおよびニッケルの合計含有量が相対的に高い層と、相対的に低い層とが繰り返し重なった積層構造とする。厚み方向の積層数は１００ｎｍあたり８回以上、好ましくは１４回以上、より好ましくは２５回以上とし、潤滑剤中で用いる。潤滑剤はエンジン油が適している。 （もっと読む）

【課題】 可視光領域の光の吸収を抑え、分光特性の優れた近赤外線カットフィルターを提供する。
【解決手段】 基板上に低屈折率膜と高屈折率膜を交互に積層されてなる近赤外線カットフィルターの製造方法であって、それぞれの前記膜をマグネトロンスパッタリングにより成膜し、電子サイクロトロン共鳴型イオン源及びアシストイオン源に酸素を供給するとともに、プラズマを励起させて前記膜を酸化することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】摩擦係数の一層の低減を図ると共に、簡便なプロセスで製造することができ、効果の発揮される潤滑油の種類の制約も少ない硬質炭素被膜を提供する。
【解決手段】少なくとも相手材との摺動部位に硬質炭素被膜を備えた摺動部材の上記硬質炭素被膜中に、コバルト及びニッケルの一方又は両方を含有させ、その含有量を合計で１．４原子％以上３９原子％以下の範囲とし、さらにコバルトおよびニッケルの凝集体のうち、径５ｎｍを超えるものの割合を一定以下に抑制する。 （もっと読む）

【課題】ＤＬＣを含む耐摩耗性と摩擦係数の両方に優れ、各種基材との密着性にも優れたベーンタイプポンプのロータ基材に好適な摺動部材を提供する。
【解決手段】構造材を構成する基材３と、前記基材表層にＳｉＣを導入させて形成された厚みが１００μｍ以上のＳｉＣ導入層２と、前記ＳｉＣ導入層の表面に形成されたＤＬＣ膜１と、を有することを特徴とする摺動部材。前記基材はカーボン焼結材であり、前記ＤＬＣ膜の膜厚は１．５μｍ以上２．５μｍであり、硬度がＨｖ１０００以上Ｈｖ１５００以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】成膜する薄膜の組成を容易に制御することができ、所望の機能性薄膜を得ることができる対向ターゲット式スパッタ装置を提供する。
【解決手段】複数の対向ターゲットユニット３ａ，３ｂ，３ｃからなるスパッタ源を備え、前記対向ターゲットユニット３ａ，３ｂ，３ｃを同時に動作させて該対向ターゲットユニット３ａ，３ｂ，３ｃ上に配置された基板１１上に薄膜をスパッタ成膜する対向ターゲット式スパッタ装置１０であって、対向ターゲットユニット３ａ，３ｂ，３ｃごとに組成の異なるターゲットを有し、対向ターゲットユニット３ａ，３ｂ，３ｃそれぞれの基板１１に対する配列パターンと、対向ターゲットユニット３ａ，３ｂ，３ｃそれぞれへの印加電圧値とを調整して、前記薄膜の組成比を制御する。 （もっと読む）

【課題】光学膜の成膜に好適なスパッタ成膜装置およびスパッタ成膜方法を提供する。
【解決手段】基板搬送装置２を真空槽３内に備え、基板搬送装置２の外側の真空槽３との間の空間に、バルク材料からなる回転円筒型マグネトロンスパッタリングにより超薄膜を基板１上に形成するスパッタ領域４、５、６と、反応性ガスにより前記超薄膜を所望の化合物超薄膜に変換する反応領域７と、アシスト領域８を設け、前記反応領域７は、該領域内の反応ガスを誘導結合によりプラズマ化するプラズマ発生手段を備え、前記プラズマ発生手段は、真空槽３の外側に設けられた高周波電源１１、コイル電極１２と、前記真空槽３の壁体に設けられた、基板搬送装置２の回転の周方向に所望の長さを有する誘導電磁界導入窓１３とを有し、基板１を前記スパッタ領域４、５、６からアシスト領域８および反応領域７に搬送して、この工程を繰り返して所望の化合物薄膜を基板１上に形成する。 （もっと読む）

【課題】ＥＣＲスパッタ成膜後の基板面内の膜厚均一性をターゲット使用寿命の間維持できるＥＣＲスパッタ処理装置を提供する。
【解決手段】ＥＣＲスパッタ処理装置のターゲット１２０を複数の短冊形状ターゲット１２１を筒形状に配置して構成する。各短冊形状ターゲット１２１は独立したターゲット電源１１１を有し、短冊形状ターゲット１２１のプラズマ生成室１０５側の端部に設けられたターゲット開口軸１１３を起点として任意の角度（０度〜２０度）に開口可能に設けられる。隣接する短冊形状ターゲット１２１間には、ターゲット１０４と同材質の三角柱ガイド１１２が配置される。これにより、ターゲット１２０が開口した際にターゲット１２０内面の筒形状内のＥＣＲプラズマ領域１０５からターゲット１２０の外部へＥＣＲプラズマが廻り込み、効率が低下することを防止するとともに、成膜後の基板１０３面内の膜厚均一性を維持することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】光学的，物理的特性のバリエーションに富んだ新規な光学物品を提供する。
【解決手段】被覆層Ｆが基板Ｓの表面に形成された光学物品Ｐであって、被覆層Ｆは、酸窒化ケイ素、酸窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム、および酸化ケイ素からなる群より選択される材料からなる薄膜を積層したものである。このように、薄膜を酸窒化ケイ素、酸窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム、および酸化ケイ素からなる群より選択するため、二酸化チタンおよび二酸化ケイ素の２種類のみからなる従来の光学物品と比較して、光学的，物理的特性のバリエーションに富んだ光学物品を提供することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 金属膜層と酸化物誘電体膜層を交互に積層した多層膜からなる吸収型多層膜が、樹脂フィルムの少なくとも片面に設けられている吸収型多層膜ＮＤフィルターについて、その金属膜層が高温高湿の環境下において酸化され難く、耐環境性に優れた吸収型多層膜ＮＤフィルターを提供する。
【解決手段】 吸収型多層膜として酸化物誘電体膜層と金属膜層とを交互に積層させた多層膜を樹脂フィルムの少なくとも片面に成膜した後、金属膜層の吸収波長帯の波長のレーザーを照射するレーザートリートメントを行い、各金属膜層の全ての界面付近のみを酸化させる。このレーザートリートメントにより、吸収型多層膜の平均透過率をレーザートリートメント前に比べ０.２％以上増加させる。 （もっと読む）

【課題】 透光性を有する基材に長期間の使用に応答性を劣化させることがない透明電極及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 透光性を有する基材に、透明電極層を備える透明電極であって、前記基材を樹脂により構成し、前記透明電極層の面方向に圧縮応力を有することを特徴とする。 （もっと読む）

張力のある窒化シリコン膜をスパッタリングするためのシステムおよび方法が提供される。より具体的には、一実施形態においては、シリコンを含むターゲットを備えるプロセスチャンバ内に窒素ガスを導入するステップと、プロセスチャンバを金属領域とポイズン（窒化物）領域の間の遷移領域内に置くステップと、ターゲットに電圧を印加するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】ＳｉとＢを含有する皮膜の耐摩耗性と耐熱性を活かし、靭性を更に高めることにより、高温環境下においても、チッピングや膜剥離が発生し難く、長時間安定して使用可能な、優れた寿命を有する被覆部材を提供することを課題とする。
【解決手段】基材表面に硬質皮膜を被覆した被覆部材において、該硬質皮膜の少なくとも１層はＳｉとＢを含有し、該ＳｉとＢを含有する皮膜は、高Ｓｉ濃度、低Ｂ濃度である帯域Ａと、低Ｓｉ濃度、高Ｂ濃度である帯域Ｂであり、該帯域Ａ、Ｂの交互積み重ね構造を有し、該交互積み重ね構造が膜厚方向に１〜６０ｎｍの周期であり、該周期における帯域ＡのＳｉ濃度をＳｉｈ、帯域ＢのＳｉ濃度をＳｉｌとしたとき、Ｓｉｈ／Ｓｉｌが１．５以上であることを特徴とする被覆部材である。 （もっと読む）

【課題】スパッタリングで形成される薄膜の成膜速度をリアルタイムかつ高精度にモニターでき、該薄膜の膜厚や光学特性を制御可能な反応性スパッタリング装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】反応ガスの活性種存在下で金属ターゲット１，２をキャリアガスによりスパッタリングして基板１１上に前記金属化合物の薄膜を形成する成膜室Ｓ１，Ｓ２を備え、外部から成膜室Ｓ１，Ｓ２内の成膜中のプラズマ発光について発光スペクトルを検知するプラズマ検知器５，６により、成膜中のプラズマ発光について前記金属のスペクトル強度とベースとなるスペクトル強度との比であって前記薄膜の成膜速度に比例した一定値を示すスペクトル強度比をモニターし、予め求めておいた前記スペクトル強度比と成膜速度との関係に基づいて、該成膜中の成膜速度が検出され、所望の膜厚の薄膜が形成される。 （もっと読む）