説明

Fターム[4K029DC04]の内容

物理蒸着 (93,067) | スパッタリング装置 (13,207) | ターゲット (7,009) | 材質 (4,025) | 合金 (902)

Fターム[4K029DC04]に分類される特許

901 - 902 / 902


【課題】 切削工具、摺動部材、金属加工工具等に形成する皮膜の硬さ(耐摩耗性)、耐酸化性、母材との密着性等を向上させるとともに、バランスの取れた特性を備え、安定した皮膜の形成と該皮膜を形成した工具等の寿命を向上させる。
【解決手段】 AlTi1−x−ySi(x及びyがそれぞれ0.05≦x≦0.7、0.1<y≦0.25)であるスパッタリングターゲットを窒素雰囲気中でスパッタリングし、(AlTi1−x−ySi)N、(x及びyがそれぞれ0.05≦x≦0.7、0.1<y≦0.25)の組成を有する耐摩耗性AlTi系合金硬質皮膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】 シール用キャップの製造を量産化でき、しかも殆んど自動化できて、人手と時間を削減し、且つ工数を減少し、さらに製品のばらつきを無くして安定した精度の高いものにでき、その上ダウンサイジング化が可能な電子部品保護パッケージのシール用キャップの製造方法を提供する。
【解決手段】 FeNi合金の長尺テープを下地処理した後、スパッタリング装置に一定速度で送給してスパッタリング法によりAuSn膜を形成し、次いで熱処理し、みがき処理した後、所定寸法にプレス抜きしてシール用キャップを得ることを特徴とする電子部品保護パッケージのシール用キャップの製造方法。 (もっと読む)


901 - 902 / 902