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Fターム[4K029HA01]の内容

物理蒸着 (93,067) | 部分被覆方法 (1,354) | 機械的マスクによるもの (1,241)

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【課題】有機層蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着工程中に基板と有機層蒸着装置との精密な整列の可能な有機層蒸着装置である。有機層蒸着装置は、第1マーク及び第1整列パターンを撮影する第1カメラアセンブリーと、第2整列マーク及び第2整列パターンを撮影する第2カメラアセンブリーと、を備え、前記第1カメラアセンブリーにより撮影された前記第1整列パターンの映像が同一であり、前記第2カメラアセンブリーにより撮影された前記第2整列パターンの映像が同一であるように、前記基板の移動速度と前記第1カメラアセンブリー及び前記第2カメラアセンブリーの撮影速度とを同期化する。 (もっと読む)


【課題】有機層蒸着装置及びこれを用いる有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】被蒸着用基板を固定させる静電チャックと、真空に維持されるチャンバ及びチャンバの内部に配されて静電チャックに固定された基板に薄膜を蒸着する薄膜蒸着アセンブリーを備える蒸着部と、基板が固定された静電チャックを蒸着部内に移動させる第1循環部と、を備え、第1循環部は、蒸着部を通過する時にチャンバ内部に貫通し、第1循環部は、静電チャックが一方向に移動可能に静電チャックを収容する収容部を備えるガイド部を備える有機層蒸着装置及びこれを用いる有機発光表示装置の製造方法。 (もっと読む)


【課題】一定の加速電圧で処理対象物の厚さ方向全長に亘って均一なイオン濃度分布を得ることができる生産性のよいイオン注入法を提供する。
【解決手段】本発明は、減圧下で所定の処理ガスを導入してプラズマを形成し、このプラズマ中のイオンを引き出し、引き出したイオンを加速して処理対象物W内に注入するイオン注入法であって、処理ガスとして、X(式中、X及びYを互いに異なる元素であって、その質量数が1、5〜40の原子とし、m=1〜4、n=1〜10とする)で表される分子の中から選択されるものを用いる。 (もっと読む)


【課題】薄膜リチウム二次電池を小型の装置で簡易に真空一貫で製造する技術を提供する。
【解決手段】本発明の薄膜リチウム二次電池製造装置1は、真空槽2内に、回転駆動軸3を中心として旋回させて基板10を搬送する基板搬送機構30を有し、回転駆動軸3の周囲に、仕込取出室4と、第1〜第3のスパッタリング室5〜7と、負極層形成室8と、保護層形成室9とが設けられている。第1のスパッタリング室5においては、集電体層と保護層を形成する。第2のスパッタリング室6においては、LiCoO2からなる正極層を形成する。第3のスパッタリング室7においては、LiPONからなる固体電解質層を形成する。各室の開口部4a、5a〜7a、8a、9aは、基板搬送機構30の保持部32が通過する領域と対向する位置に配置される。各室の開口部4a、5a〜7a、8a、9aは、基板10を装着した状態で蓋機構によって塞がれる。 (もっと読む)


【課題】 真空処理装置の処理室内において、マスクに対する基板のアライメントのために両者の位置関係を確実に検出できる簡単な構成で低コストのアライメント装置を提供する。
【解決手段】 真空チャンバ1内で相互に対向配置される基板Wとこの基板に対する処理範囲を制限するマスクWとのいずれか一方を保持する固定の保持手段5と、その他方を保持する、固定の保持手段に対して相対移動可能な可動の保持手段2とを備える。固定の保持手段内に、一端側が可動の保持手段で保持された基板またはマスクのいずれか他方に向けて開口し、その他端側が処理室を画成する壁面に向けて開口する光路52R,52Lが形成され、光路の他端側から光を入射する光源61と、この他端側から光路を通して他方を撮像する撮像手段62と、撮像手段からの出力に応じて可動の保持手段を相対移動させてアライメントを行う制御手段Cとを更に備える。 (もっと読む)


【課題】封止膜の形成工程以後に処理対象物が100℃以上に加熱されても、封止膜の表面にしわ(膜異常)が発生しない封止膜形成方法とリチウム二次電池の製造方法を提供する。
【解決手段】
1,3−ビス(イソシアナートメチル)シクロヘキサンと4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアナート)のいずれか一方又は両方からなるイソシアナート材料と、4,4−メチレンビス(シクロヘキシルアミン)と1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンのいずれか一方又は両方からなるアミン材料とを別々に加熱して蒸気を発生させ、蒸気を処理対象物の表面に一緒に到達させてポリ尿素膜16a2を形成し、アルミナのターゲットをスパッタして、アルミナの粒子をポリ尿素膜16a2が表面に露出する処理対象物の表面に到達させて、ポリ尿素膜16a2の表面にアルミナ膜16c2を形成する。 (もっと読む)


【課題】基板サイズの大型化により、基板を水平搬送でき、基板を略垂直に立てて成膜でき、かつ膜厚均一性がよく、低コストのターゲットや電源を利用でき、蒸着装置とのクラスタ化に適したスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】処理真空チャンバ(10)を有するスパッタリング装置であって、処理真空チャンバ内にカソード電極(60)が設けられ、カソード電極上にスパッタリングターゲット材料(61)が設けられ、処理真空チャンバ内に基板が上面搬送され、カソード電極は矩形であり、基板が垂直方向に立てられた状態でカソード電極が基板面と平行に走査されることで、スパッタリングターゲット材料が基板に成膜されるスパッタリング装置。 (もっと読む)


【課題】非鉛の圧電膜と下部電極とのエッチング選択性を確保するとともに、高精度に加工することができる圧電膜素子、圧電膜素子の製造方法、及び圧電デバイスを提供する。
【解決手段】圧電膜素子1は、基板2と、基板2上に形成されたPt又はPtを主成分とする合金からなる第1の下部電極層4と、第1の下部電極層4上に形成されたTi、Cr若しくはこれらのいずれかを主成分とする合金の単層又は積層体からなる第2の下部電極層5と、第2の下部電極層5上に形成されたペロブスカイト構造を有する非鉛のアルカリニオブ酸化物系化合物からなる圧電膜7と、圧電膜7上に形成された上部電極とを備える。 (もっと読む)


【課題】迅速に成膜速度を算出し、被処理基板へ供給する有機材料ガスの濃度を略一定にして良質な膜を効率良く形成することができ、保守管理も容易である成膜装置、成膜速度算出方法、成膜方法、有機発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】成膜装置1のプロセスコントローラ11は、イオンゲージ10に搬送ガスのみを通流させた場合の(Ii/Ie)0 と、有機材料及び搬送ガスを通流させた場合の(Ii/Ie)との差と、成膜速度D/Rとの関係を示す成膜速度検量線を作成する。プロセスコントローラ11は成膜時に(Ii/Ie)を算出し、前記成膜速度検量線を用いてD/Rを求め、求めたD/Rに基づいてマスフローコントローラ5を制御し、搬送ガスの流量を制御して、成膜処理を行う。 (もっと読む)


【課題】蒸着材料の利用効率の高い成膜装置を提供する。
【解決手段】
真空槽11と、真空槽11内に配置され、内部に蒸着材料の蒸気が配置される中空の放出容器16aと、真空槽11内に配置され、基板5を保持する基板保持部14と、先端の開口17が基板5表面に向けられて放出容器16aに設けられ、内部が放出容器16aの内部空間と連通する複数の中空の筒15とを有し、各筒15の開口17の法線18は基板5表面と交差され、放出容器16a内の蒸気は各筒15の開口17から放出され、基板5表面に到達して薄膜が形成される成膜装置10であって、筒15には、先端が基板5表面と対面する範囲の外側に配置された筒が含まれる。先端が基板5表面と対面する範囲の外側に配置された筒15の開口17の法線も基板5表面と交差され、開口17から放出された蒸気のうち基板5表面に到達する蒸気の割合が従来より高い。 (もっと読む)


【課題】基板に蒸着される膜の膜厚均一性を向上させることができる成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置10は、基板Sを収容する処理チャンバ12と、基板Sを保持するステージ14と、蒸着材料を含むガスGを基板Sに噴き付ける複数のノズル16cを有する蒸着ヘッド18cとを備える。ノズル16cはY方向に沿って配列される。成膜装置10は、ノズル16cに対して相対的に基板SがY方向と交差するX方向に沿って移動するように、蒸着ヘッド18c及びステージ14の少なくとも一方を駆動する駆動装置22と、Y方向に沿った基板Sの側面SaとX方向に沿った基板Sの側面Sbとを覆う枠Fとを備える。 (もっと読む)


【課題】スパッタリングなどの薄膜パターン形成プロセスにおいてパターン形成のために使用されるステンレス鋼製のマスク部材の表面から、薄膜パターン形成過程で堆積されたNi膜を除去するにあたり、ステンレス鋼製マスク部材を侵食させることなく、Ni膜を効果的に除去し得る方法を提供する。
【解決手段】薄膜形成技術によって基材上に所定のパターンでNi膜を形成するために使用される、ステンレス鋼製のマスク部材について、その表面に形成されたNi膜を除去するにあたり、硫酸を15〜25wt%、硝酸を5〜15wt%含有する混酸水溶液を用いて、前記Ni膜を溶解、除去することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】蒸着膜を均一な厚みで成膜しつつ、蒸着材料の使用効率および処理効率を向上させることができる電子ビーム蒸着装置を提供する。
【解決手段】上記電子ビーム蒸着装置10は、チャンバ11と、搬送機構12と、容器17と、マスク19と、電子ビーム形成機構15とを具備する。搬送機構12は、チャンバの内部で基板Sを支持する支持部材13と、支持部材を第1の方向に搬送する駆動源14とを有する。容器17は、蒸着材料Mを収容する。マスク19は、支持部材13と容器17との間に配置され、支持部材13に支持された基板Sに対する蒸着材料Mの成膜領域を規制する。電子ビーム形成機構15は、電子銃16を含み、マスク19側から容器17側へ向かう第2の方向より、電子ビームeが容器17へ入射するビームラインを形成する。 (もっと読む)


【課題】蒸着装置を用いた成膜技術において、蒸発源への蒸着材料の供給を容易とすることにより作業者への負担を低減し、また、蒸着膜の組成や厚さ等の再現性を向上させる。
【解決手段】坩堝11は、蒸発源の筐体の内部に固定された坩堝本体11Aと、坩堝本体11Aの内側に収納される坩堝材料室11Bと、から構成され、坩堝本体11Aは、主に、それぞれ所定の厚みを有する底面部11A1と側面部11A2と上面部11A3とから成り、坩堝材料室11Bは、主に、それぞれ所定の厚みを有する底面部11B1と側面部11B2f,11B2s,11B2s,11B2bとから成り、坩堝本体11Aの側面部11A2を設けていない開口領域から、坩堝材料室11Bを坩堝本体11Aの内側に出し入れすることができ、坩堝材料室11Bの側面部11B2fに、複数の吹き出しノズル12が設けられている。 (もっと読む)


【課題】複数の機能領域を有する有機化合物膜を作製する成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜室内に複数の蒸発源を備え、それぞれの有機化合物からなる機能領域を
連続的に形成し、さらに機能領域間の界面には混合領域を形成することができる。さらに
、成膜室の内壁の表面は電解研磨されている。成膜部内を連続的に移動できる基板搬送手
段を有し、基板搬送手段は、成膜部の上方に設けられ、成膜部と同一空間を有しており、
成膜室内にある基板を平面方向に搬送する手段を有している。成膜部は、基板搬送手段に
よる基板の搬送空間を含んで設けられ、基板搬送手段に基板が保持された状態で蒸着が行
われる。 (もっと読む)


【課題】大型基板上に膜厚が均一で不純物の少ない薄膜を高速に成膜させ、長時間連続運転可能な真空蒸着装置及び成膜装置を提供する。
【解決手段】蒸発源は蒸着材料17を収容し、蒸気16を外部に放出するノズル16を有する坩堝14と、坩堝14を加熱するヒーター13で構成されている。蒸気15が放出されるノズル14の先端に金属で形成されたリング状の信号検出センサー11を配置する。蒸着材料17が過熱されて分解されたときに発生する荷電粒子が信号検出センサー11に衝突すると微弱電流が流れる。この微弱電流を蒸着室の外部に設置された第1の制御装置18によって検出し、第1の制御装置18からの信号を用いる第2の制御装置12によって蒸発源のヒーター13に加える電力を制御することによって蒸着膜厚を制御する。 (もっと読む)


【課題】大型基板上に膜厚が均一で有機EL上部電極用のアルミ金属薄膜を高速に成膜させ、長時間連続運転可能な真空蒸着装置及び成膜装置を提供する。
【解決手段】セラミック製の坩堝を用いてアルミの這い上がりを防止し、同一方向に所定の角度で傾いた蒸発源3−1を少なくとも2つ以上、縦方向に並べた蒸発源列3−2を横方向に操作して蒸着する機構を用いることにより、大型化した縦置き基板1−1に対して、有機EL上部電極用金属薄膜を高速成膜し、長時間の連続成膜をすることを可能にする。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、材料の損出の少なくできる、あるいは安定した蒸着の妨げとなる内圧の変化を防ぐ蒸発源を提供することである。また、前記蒸発源に適した有機ELデバイス製造装置及び有機ELデバイス製造方法を提供することである。
【解決手段】
本発明は、内部に蒸着材料を内在する坩堝と、前記蒸着材料を加熱し蒸発・昇華させる加熱手段と、前記蒸発・昇華した前記蒸着材料を噴射する蒸着物噴射口をライン状に複数並ぶ蒸着物噴射口部を有する蒸発源において、前記蒸着物噴射口部を複数設け、各前記蒸着物噴射口部毎に開閉する開閉手段を有することを第1の特徴とする。また、本発明は、複数ある前記蒸着物噴射口部のうち少なくとも一つの前記蒸着物噴射口部を開き、そのときに他の前記蒸着物噴射口部の全ての前記蒸着物噴射口部を閉じるように前記開閉手段を制御する制御手段を有することを第2の特徴とする。 (もっと読む)


【課題】蒸発源の冷却時間を短縮する。
【解決手段】蒸着準備工程では、蒸着材料30を収納する坩堝13、坩堝13を加熱する加熱部14、および坩堝13内で気体化した蒸着材料30を被処理物に向かって放出するノズル12、を備える蒸発源10、および被処理物を真空チャンバ内に配置する。次に、坩堝13に収納された蒸着材料30を加熱部14により加熱して、気体化した蒸着材料ガスを発生させ、被処理物に蒸着膜を形成する。次に、蒸発源10の外側からノズル12を介して坩堝13内にガス26を供給し、かつ、加熱部14を停止させて坩堝13を冷却する。 (もっと読む)


【課題】ステンレス鋼板の表面に微細な粗面化テクスチャーを均一に形成させる技術であって、特に薄膜Si太陽電池の基板に好適な技術を提供する。
【解決手段】フェライト系ステンレス鋼板を、pHが11.0以上の水溶液中で−0.5〜−2.2Vvs.SCEの電位で陰極電解することにより、不動態皮膜の膜厚を4.0nm以下とする工程(陰極電解工程)、
前記陰極電解工程を終えた鋼板を、FeCl3濃度2〜50質量%、HCl濃度0.1〜20質量%の塩化第二鉄+塩酸混合水溶液中に浸漬することにより表面にピットを発生させ、表面に占めるピット発生部分の投影面積の割合(ピット占有面積率)を40%以上、かつ平均面粗さSPaを0.05〜0.30μm未満とする工程(エッチング工程)、
を有する微細粗面化ステンレス鋼板の製造法。 (もっと読む)


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