【課題】成膜室内の部品に付着した蒸着材料を大気解放することなく除去するためのクリーニング方法を提供する。
【解決手段】 成膜室１０１内に設けられた基板ホルダ１０２、蒸着マスク１０４、マスクホルダ１０５もしくは防着シールド１０６といった部品に付着した蒸着材料１１１に対して加熱処理を行う。これにより付着した蒸着材料１１１を再び昇華させ、真空ポンプにより排気して除去する。このようなクリーニング方法を電気光学装置の作製工程に含めることで、作製工程の短縮化と信頼性の高い電気光学装置の実現を図る。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ドライ洗浄方式において、表面を洗浄(剥離)しながら裏面も洗浄(剥離)できるマスク洗浄装置または洗浄方法を提供すること、あるいは上記マスク洗浄装置を蒸着装置に隣接して設けることで短時間に洗浄できる稼働率の高い有機ＥＬ製造装置を提供することである。
【解決手段】マスクに付着した蒸着材料にレーザ光を照射しマスクを洗浄する際に、マスクの蒸着面である表面に該レーザ光を照射し該表面を洗浄し、前記レーザ光を前記マスクの裏面へ照射し該裏面も洗浄することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】優れたガスバリア性能を有するガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】本発明のガスバリアフィルムは、酸化珪素を主成分とするガスバリア膜が基板の少なくとも一方の面に形成されたものである。ガスバリア膜は、赤外吸収スペクトルのうち、８００〜８２０ｃｍ^−１のピーク強度をＰ１とし、８６０〜８８０ｃｍ^−１のピーク強度をＰ２とし、ピーク強度Ｐ１とピーク強度Ｐ２との比をＰ２／Ｐ１とするとき、比Ｐ２／Ｐ１が、０≦Ｐ２／Ｐ１≦１である。 （もっと読む）

【課題】結晶球の周回経路の結晶方位に対応した膜厚の膜を正確に真空成膜する。
【解決手段】真空容器２１内で蒸着材料２２を加熱気化させる蒸着材料放射ステップ（２２，３１）と、弾性表面波４を周回させる圧電性結晶球２の周回経路５が前記気化された蒸着材料２２の放射ビームの照射方向と対面するように、圧電性結晶球２を回転可能に支持する支持ステップ（３２，３５）と、周回経路の結晶方位に従って前記回転支持ステップによる圧電性結晶球２の回転速度を変更し、周回経路上に結晶方位に依存した膜厚分布で真空成膜する成膜制御ステップ（１，５，３２，３４，３５）とを有する球状弾性表面波素子の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】イオンプレーティング法を用いた成膜、特に酸化物膜の成膜において、膜組成および膜厚の均一性を図る。圧電特性の優れた酸化物膜を製造する。
【解決手段】真空容器内に置かれた成膜材料を蒸発させるとともに、前記真空容器内に反応ガス及びプラズマ電子流を導入し、成膜材料のカチオンをプラズマで活性化して基板に堆積させる際に、１種の薄膜を形成する複数の成膜材料をそれぞれ独立した蒸発源として配置し、これら蒸発源と対向する位置で基材を回転させながら、基材上に、複数の成膜材料を順次蒸着させる工程を繰り返す。 （もっと読む）

【課題】成膜する層に成膜材料以外の材料が混入することを抑制し、発光素子の性能低下を防ぐ、成膜方法の提供を課題の一つとする。
【解決手段】基板の一方の面上に形成された吸収層と、吸収層上に形成され、基板の一方の面の最表面に形成された、成膜材料を含む材料層とを有する第１の基板の一方の面と、基板の被成膜面の最表面に形成された下地層を有する第２の基板の被成膜面を対向させて配置し、第１の基板の他方の面側から加熱処理を施すことで、加熱された材料層に含まれる成膜材料で、下地層上に成膜材料層を形成する成膜方法であり、成膜材料層の主成分と下地層の主成分に同じ物質を用いる成膜方法である。 （もっと読む）

【課題】大型基板の量産工程に容易に適用でき、歩留まりが向上した薄膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着物質１１５を放射する蒸着源１１０と、蒸着源１１０の一側に配され、複数の蒸着源ノズル１２１が形成された蒸着源ノズル部１２０と、蒸着源ノズル部１２０と対向して配され、複数のパターニングスリット１５１が配されるパターニングスリットシート１５０と、蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート１５０との間に配されて、蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート１５０との間の空間を複数の蒸着空間に区切る複数の遮断板１３１を備える遮断板アセンブリー１３０と、パターニングスリットシート１５０に対する基板５００の相対的な位置を検出する位置検出部材と、基板５００に対するパターニングスリットシート１５０の相対的な位置を変化させるアライン制御部材と、を備える薄膜蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子の大型蒸着マスクを効率よく洗浄し、蒸着マスクの利用回数を上げることができる装置を実現する。
【解決手段】蒸着マスク２は第１の面と第２の面を有し、前記第１の面には蒸着剤が付着しており、前記蒸着マスクの第１の面の周辺が前記蒸着マスクよりも厚さの大きい枠部３に取り付けられている。レーザ照射手段によって、第１の面にレーザ１０を照射して蒸着剤を蒸着マスクから剥離する。ノズルを有する第１の洗浄手段６によって蒸着マスクの第１の面に洗浄液を照射し、ノズルを有する第２の洗浄手段６によって超音波を印加した洗浄液を蒸着マスクの第２の面に照射する。これによって、蒸着マスク２の近傍において、超音波が印加された洗浄液を照射することが出来る。したがって、蒸着マスクを効率よく洗浄することが出来る。 （もっと読む）

【課題】真空内を機構が簡単で基板の蒸着面を上面にして搬送ができ、前記上面搬送においても高精彩に蒸着可能な有機ＥＬデバイス製造装または同製造方法あるいは成膜装置または成膜方法を提供することである。
【解決手段】
真空内を基板の蒸着面を上面にして搬送し、少なくとも前記基板が移動する場合には前記基板の搬送面が摺動しないように保持し、前記真空チャンバ内で前記基板を受渡し、その後前記基板を垂直または略垂直にたてて蒸着する。
また、上面搬送されてきた複数の基板を一つの真空蒸着チャンバ内で同一の蒸着源で交互に蒸着する。 （もっと読む）

【課題】 簡易な構成で、熱負荷によるガラス基板の割れなどを誘発することなく、１枚のガラス基板から複数枚のパネルを省エネルギーのもとに調製することを可能にする、基板への蒸着被膜の形成方法および当該方法を実施するための搬送トレイを提供すること。
【解決手段】 搬送トレイを、四角形状の枠体と、枠体の対向する枠辺と枠辺の間に、その両端を枠体の各枠辺と弾性部材を介して連結することでテンションを付加して架設した薄体状部材とから構成し、複数本の薄体状部材を、基板が搬送トレイに載置されている状態を形成するための保持部材として機能させるとともに、基板における２つ以上の蒸着被膜形成領域を画定するためのマスク部材として機能させる。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ用蒸着マスクのクリーニングを行うときに、有機ＥＬ用蒸着マスクに応じた適切なエネルギーを設定することを目的とする。
【解決手段】有機材料が付着した有機ＥＬ用蒸着マスク２の表面に対してレーザ光Ｌを走査して有機材料を剥離するレーザ走査手段４と、有機ＥＬ用蒸着マスク２のうち一部の領域にレーザ光Ｌをテスト走査させるレーザ制御部５５と、有機ＥＬ用蒸着マスク２のうちテスト走査を行った部位の有機材料が剥離されたか否かを検出する画像処理部５２と、画像処理部５２の検出結果に基づいて、有機ＥＬ用蒸着マスク２に照射されるレーザ光Ｌの照射条件を補正する電流補正部５３およびフォーカス補正部５４と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】レーザ光を用いたドライ洗浄による洗浄効率を向上させ、洗浄むらの発生を抑制する。
【解決手段】マスク部材１を位置調整手段２１により位置調整可能な昇降部材１１に装着して、マスク板２に対してレーザ光照射手段１５におけるレーザ発振器１３からのレーザ光をスキャニング光学系１５によって、マスク板２の主走査方向に微小移動させながらレーザ光のパルスを照射し、１ライン分の走査が終了すると、副走査方向に１ピッチ分ずらせて走査を継続するようになし、マスク板２の全面にレーザ光のスポットを照射することによりドライ洗浄を行うに当って、ドライ洗浄開始前に撮像手段２０によりマスク部材１のアラインメントマークＭを基準として、レーザ光の微小スポットＳがマスク板２の格子部４ｂに照射されるように位置調整する。 （もっと読む）

【課題】薄膜材料蒸気を互いに異なる複数の場所から均一に放出させ、均一な膜厚で薄膜を成膜できる薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】
真空槽１１内に配置された放出装置２０は、一個又は二個以上の放出ユニット２０ａを有し、各放出ユニット２０ａは、中空で長手方向を有する放出容器２１ａを有し、放出容器２１ａ内には放出容器２１ａの長手方向に沿って二本以上の導入管３１ａ₁〜３１ａ₃が、放出口２５ａから異なる距離で位置するように配置され、異なる導入管３１ａ₁〜３１ａ₃に設けられた導入口３５ａ₁〜３５ａ₃は、長手方向上の異なる場所に位置するように形成されている。各導入管３１ａ₁〜３１ａ₃への蒸気供給速度を制御することで各放出口２５ａからの蒸気放出量を均一にできる。 （もっと読む）

【課題】 基板上に成膜される薄膜の面内膜厚の均一性を向上させる。
【解決手段】 イオンを発生するイオン発生部と、ターゲットを複数配列させたターゲット群を保持し、ターゲット群のうち所定のターゲットにイオンが入射するようターゲット群を回動させるターゲット保持部と、所定のターゲットにて発生したスパッタ粒子が入射されるように基板を保持する基板保持部と、スパッタ粒子の基板上への入射を規制する規制部材を複数保持し、所定のターゲットに応じた所定の規制部材を基板と所定のターゲットとの間に挿入させる規制部材保持部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】マスク母材にダメージを与えることなくデポジション膜の洗浄除去が可能であり、洗浄作業性にも優れた成膜用マスクを提供する。
【解決手段】成膜用マスク１１は、基板Ｗの成膜面に対向配置され成膜領域を制限する一つの開口部２０が形成されたマスク本体２と、このマスク本体の表面の開口部の外側を被覆するカバー部材とを備え、このカバー部材３は、マスク本体に対して着脱自在に取り付けられた複数のカバー分割片３Ａ、３Ｂ、３Ｃ、３Ｄの集合体で構成されている。マスク本体の表面の所定領域をカバー部材で被覆することにより、マスク本体へのデポジション膜の付着を抑え、マスク洗浄時におけるマスク母材のダメージを防ぐ。カバー部材に付着したデポジション膜の除去は、個々のカバー分割片に個片化した状態で行うことにより、洗浄作業が簡単になり、マスクの大型化にも容易に対応できるようになる。 （もっと読む）

基板を取り扱う特にコーティングする装置において、プロセスチャンバ1と、その中で処理される基板12を格納するべく搭載開口6,7を介してプロセスチャンバ1に接続された、又は、処理プロセスで用いるマスク10,10'、10"、10'"を格納する少なくとも１つの格納チャンバ2,3と、搭載開口6,7を通して基板又はマスクをプロセスチャンバ1に搭載し又は取り出す搬送装置13と、開始物質をキャリアガスとともにプロセスチャンバ1に導入するべく温度制御可能なガス入口要素4と、処理される基板12を受容するべくガス入口要素4に対向して位置するサセプタ5と、遮蔽位置にあるときガス入口要素4とサセプタ5又はマスク10の間に位置して基板12又はマスク10をガス入口要素4からの熱の影響から遮蔽する遮蔽プレート11と、遮蔽プレート11を基板12の処理前にガス入口要素4に相対する遮蔽位置から格納位置へ移動させ基板12の処理後に格納位置から遮蔽位置に戻す遮蔽プレート移動装置15,16と、を有する。格納位置では遮蔽プレート11が格納チャンバの内部にある。
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【課題】 ヘッドタッチ性や走行耐久性に優れ、更に寸法安定性、および耐クラック性に優れた金属蒸着ポリエステルフィルムを提供すること。
【解決手段】 ポリエステルフィルム層（Ｆ層）の片面に金属酸化物を含む層（Ｍ層）が設けられ、このＭ層が金属成分の微結晶を有する結晶層（Ｍａ層）と、非晶層（Ｍｂ層）を持つ金属蒸着ポリエステルフィルムとする。 （もっと読む）

【課題】大型基板に対応可能な蒸着マスク、蒸着装置、蒸着方法を提供する。
【解決手段】
蒸着マスク１０上で開口部１１をその中心間距離が基板５０のピクセル５１ａ₁、５１ａ₂の中心間距離の２倍になるように形成する。この蒸着マスク１０を基板５０上に配置し、各ピクセル５１ａ₁、５１ａ₂、５１ａ_xの上方に開口部１１と遮蔽部１９が交互に配置されるように位置合わせした状態で、開口部１１と対面するピクセル５１ａ₁を成膜し、次いで蒸着マスク１０をピクセル５１ａ₁、５１ａ₂の中心間距離だけ移動させ、移動前に遮蔽部１９と対面していた未成膜のピクセル５１ａ₂、５１ａ_xの上方に開口部１１を位置させ、その状態で未成膜のピクセル５１ａ₂、５１ａ_xに薄膜を成膜する。開口部１１の間隔が従来より広いため、開口部１１形成の際に蒸着マスク１０が破損する虞を従来より低減でき、大型の蒸着マスク１０の製作が容易になる。 （もっと読む）

【課題】ブラスト処理を行っても蓋と本体との磁力による吸引力の著しい低下を防ぐことができるマスキング装置を提供すること。
【解決手段】ブラスト処理によって本体１０の磁性が劣化しても、磁力補強板３０を本体１０の下面１０ｂに追加的に配置することにより、本体１０の磁性劣化を補償して回復させることができる。そのため、マスキング装置１００を繰り返し多数回使用できるため、新しく作製する必要性を極めて低減することができる。これにより、試作設備や生産設備等におけるマスキング装置１００のセットの再段取りによる工数の増加や新しいマスキング装置１００の作製によるコストを抑えることができる。また、本体１０に磁力補強板３０を取り付ける構成のため、磁性劣化から再生までの期間を短くすることができる。 （もっと読む）