【課題】成膜中に基板を搬送しつつ、基板上に所望の被膜のパターンを形成する成膜方法および成膜装置を提供する。
【解決手段】並列状に配列した複数の孔部を有する、ライン状の蒸着源の前記孔部から蒸着材を飛散させながら、前記孔部に対向する基板およびマスク部材を前記孔部が配列する方向に対して略直交する方向に搬送し、前記基板の上に前記蒸着材を蒸着して薄膜を積層する成膜方法であって、前記蒸着源に隣接し、前記蒸着源からみて搬送により前記基板および前記マスク部材が移動する方向とは反対側に設けられた加熱手段を用いて、前記基板の被蒸着部分を予備加熱した後、前記被蒸着部分に前記蒸着材を蒸着することを特徴とする成膜方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】レーザ光を用いて有機ＥＬ用マスクに付着している有機材料を除去するときに、有機ＥＬ用マスクに復元不能なダメージを与えることなく、高い洗浄度を得ることを目的とする。
【解決手段】有機材料５１が付着した有機ＥＬ用マスク２の表面にレーザ光を走査して有機材料５１を除去する有機ＥＬ用マスククリーニング方法であって、有機材料５１の層を透過させてレーザ光Ｌを有機ＥＬ用マスク２に照射するときに、有機材料５１を固形状態に維持し、且つ有機ＥＬ用マスク２が照射後に変形しないレーザ光Ｌを照射している。また、レーザ光Ｌを照射することにより、有機材料５１と有機ＥＬ用マスク２とに温度差による熱膨張差を持たせることにより層間に剥離力を作用させて有機材料５１の除去を行っている。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内で第１基板に対する基板の移送及びアライン工程の実行と同時に、第２基板に対する蒸着工程を行えるようにすることで、基板の移送及びアライン工程時に消耗する有機物質材料の損失を減らして材料効率を最大化し、工程のタックタイムを最小化できる有機物蒸着装置及び蒸着方法を提供する。
【解決手段】有機物蒸着装置は、内部が第１基板蒸着領域及び第２基板蒸着領域に区分されるチャンバと、前記第１又は第２基板蒸着領域内のから第１方向に移動して第１基板又は第２基板上に有機物粒子を噴射させる有機物蒸着源と、前記有機物蒸着源がそれぞれ第１又は第２基板蒸着領域に位置するように前記有機物蒸着源を第２方向に回転移動させる第２移動手段とを含んで構成される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、基板やマスクの撓みを高精度に蒸着できる有機ＥＬデバイス製造装置及び成膜装置並びに液晶表示基板製造装置を提供する。
【解決手段】本発明は、前記基板を立てた姿勢に保持する基板保持手段と、前記シャドウマスクを保持するアライメントベースと、前記アライメントベースを垂下した姿勢に保持するアライメントベース垂下手段と、前記アライメントベースの垂下された垂下平面での前記アライメントベース回転の動きに追随する送り手段を有するアライメントベース支持手段と、前記基板とシャドウマスクに設けられたアライメントマークを撮像するアライメント光学手段と、前記垂下姿勢の状態で前記アライメントベースを駆動するアライメント駆動手段と、前記アライメント光学手段の結果に基づいて前記アライメント駆動手段を制御する制御手段とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ用マスクの開口部に形成されているテーパ面に付着している蒸着物質を高い洗浄度でクリーニングすることを目的とする。
【解決手段】テーパ面５Ａ乃至５Ｄを有する開口部３を複数形成した有機ＥＬ用マスク１のクリーニングを行う有機ＥＬ用マスククリーニング装置であって、各開口部３に形成される４つのテーパ面５Ａ乃至５Ｄのうち相互に隣接する２つのテーパ面に向けて、開口部３の対角線Ｄ１を挟んで反対側から第１のレーザＬ１を入射させて開口部３の斜め方向に走査させる第１のレーザ光学系１７Ａと、対角線Ｄ１を挟んで２つのテーパ面の反対側から第１のレーザＬ１が入射するように、有機ＥＬ用マスク１と第１のレーザ光学系１７Ａとを相対的に移動させる第１のレーザ移動部２４Ａと、を備えている。 （もっと読む）

【課題】表示装置を高精細化することが可能な蒸着マスク及び自発光表示装置の製造方法の提供。
【解決手段】マスク薄膜ＭＰの一面側からのエッチングで形成された第１エッチング領域と、他面側からのエッチングで形成された第２エッチング領域との形成により、当該マスク薄膜の一面側から他面側に貫通する開孔部ＨＬ１，ＨＬ２が形成され、行方向及び列方向にマトリクス状に前記開孔部が配列されるマスク薄膜を備える蒸着マスクであって、前記開孔部は前記行方向及び／又は列方向に異なる開孔幅を有する第１開孔部ＨＬ１と第２開孔部ＨＬ２とから構成された蒸着マスク。 （もっと読む）

【課題】高精細のパターニングを有する大型基板の量産工程に適した薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板５００に薄膜を蒸着する薄膜蒸着アセンブリ１００を含む真空に維持される複数のチャンバにおいて、被蒸着用基板と接し、基板を支持する支持面を具備した本体と、本体に内蔵され、支持面に静電気力を生成させる電極と、電極に電気的に連結され、本体に備わった電池を有する静電チャック６００がチャンバを通過するように移動させるキャリアを含む薄膜蒸着装置、及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】パーティクルの発生を低減するとともに、高精度にマスクの位置を決めるマスク位置合わせ機構及びこのようなマスク位置合わせ機構を備えた真空処理装置を提供する。
【解決手段】マスク位置合わせ機構は、基板搬送の際に上下動可能、且つ４つのテーパピンが形成された基板ホルダ７と、それぞれのテーパピンを挿入可能な溝３７が形成されたマスク３１を有して構成されており、テーパピンは、基板を挟んで対峙して配設された長いテーパピン３５ａと短いテーパピン３５ｂの一対ずつからなり、長いテーパピンと短いテーパピンにそれぞれ形成されているテーパ面は異なる高さに位置している。 （もっと読む）

【課題】高精細のパターニングを有する大型基板の量産工程に適した薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本体６０１に内蔵され、本体の互いに異なる位置に備わった複数の電源ホール６０３ａ，６０３ｂを含む基板５００を支持する静電チャック６００で、キャリアのチャンバ７３１通過時に電源ホールへの着脱自在の、電極に電力を提供する移動経路の上流の第１電源フィン６０４ａと他の電源ホールに着脱自在の下流に位置する第２電源フィン６０４ｂを含む薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】基板上に膜厚が均一な薄膜を形成可能な有機ELデバイス製造装置及び成膜装置を提供する。
【解決手段】有機ＥＬデバイスの製造装置において、蒸発させた蒸着材料を線上に配置した複数のノズルを介して真空槽の内部に放出させる蒸発源の各ノズルからの有機ＥＬ材料の蒸発量を、蒸発量モニタ手段で各ノズルにモニタし、このモニタした各ノズルの有機ＥＬ材料の蒸発量の情報を用いて制御手段で蒸発源を制御するようにした。 （もっと読む）

【課題】大型基板の量産工程に容易に適用され、製造収率が向上した薄膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】複数個の蒸着アセンブリ１００、２００、３００を含み、蒸着アセンブリそれぞれは、蒸着物質を放射する蒸着源１１０と、蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数個の蒸着源ノズル１２１が形成される蒸着源ノズル部と、蒸着源ノズル部と対向するように配され、第１方向に沿って複数個のパターニングスリットが形成されるパターニングスリット・シート１５１と、蒸着源ノズル部とパターニングスリット・シートとの間に、第１方向に沿って配され、蒸着源ノズル部とパターニングスリット・シートとの間の空間を複数個の蒸着空間に区画する複数枚の遮断板１３１を具備する遮断板アセンブリとを含み、該薄膜蒸着装置は、基板４００と所定距離離隔されるように形成され、薄膜蒸着装置と基板は、いずれか一側が他側に対して、相対的に移動自在に形成される。 （もっと読む）

【課題】成膜速度を安定的に制御することができ、均一かつ高品質の膜質を有する薄膜電極を再現性良く形成することができる薄膜電極製造装置及び薄膜電極製造方法を提供する。
【解決手段】電子ビーム真空蒸着装置１００は、真空チャンバー１１０内に、水冷ハース１１１とインサート坩堝１１２Ａと密着治具１１３Ａからなる原材料収容部が設けられている。密着治具１１３Ａは、水冷ハース１１１とインサート坩堝１１２Ａの間に介在し、水冷ハース１１１の凹部１１１ａの内面（側面及び底面）と、インサート坩堝１１２Ａの外周面（側面及び底面）との間に均一に密着する形状を有している。 （もっと読む）

【課題】ライン状の蒸発源を複数用い、複数の蒸発材料を混合して蒸着を行う際、膜厚方向において、蒸発材料の混合比が一定となる均質な薄膜を形成することができる真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】複数のライン状の蒸着源を備えた真空蒸着装置において、蒸発容器８ａ、８ｂの放出孔１３ａ、１３ｂから放出された蒸発材料の蒸気の単位時間当たりの蒸着量が等しくなる等厚面１９ａ、１９ｂを、蒸発容器８ａ、８ｂ各々について求め、等厚面１９ａ、１９ｂの接する位置が基板４の蒸着面で一致するように、蒸発容器８ａ、８ｂを配置した。 （もっと読む）

本発明は、構造化被覆部を基板上に形成する方法であって、被覆される表面を有する基板を準備するステップと、少なくとも１種類の蒸着被覆物質、具体的には、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、または、二酸化チタンを、熱蒸着法および加法的構造化法によって上記被覆される基板表面上に積層することによって、該表面上に構造化被覆部を形成するステップとを含む、方法に関する。本発明は、さらに、被覆済み基板および被覆済み基板を備えた半完成品にも関する。
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【課題】ライン状の蒸発容器において、温度むらや蒸発材料の偏りがあっても、蒸発材料の利用効率を下げることなく、大型基板においても、蒸着による薄膜の膜厚分布の均一性を向上することができる真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空蒸着装置において、同一径の複数の放出孔１３を線状に配置すると共に、放出孔１３を両端部側で密に配置した蒸発容器８の内部に、蒸発材料７の蒸気が通過する同一径の複数の通過孔１８を有する整流板１４を設け、放出孔１３の配置方向における単位長さあたりのコンダクタンスについて、通過孔１８によるコンダクタンスを、放出孔１３によるコンダクタンスと比例するように、両端部側で密に配置した。 （もっと読む）

イオン注入方法は、プラズマをチャンバのプラズマ領域に供給するステップと、複数の開口を有する第１のグリッドプレートを正にバイアスするステップと、複数の開口を有する第２のグリッドプレートを負にバイアスするステップと、プラズマ領域のプラズマからのイオンを正にバイアスされた第１のグリッドプレートの開口を通して流すステップと、正にバイアスされた第１のグリッドプレートの開口を通して流されたイオンの少なくとも一部を、負にバイアスされた第２のグリッドプレートの開口を通して流すステップと、負にバイアスされた第２のグリッドプレートの開口を通して流されたイオンの少なくとも一部を基板に注入するステップとを有する。
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【課題】マイクロ電池製造時のリチウム真空堆積プロセスで用いられるメカニカルマスクから安全にリチウムを除去するとともに、該リチウムをリサイクルする方法を提供する。
【解決手段】支持体上の金属リチウムの除去方法は、プラズマ応用ステップを備える。プラズマは、５０Ｗから４００Ｗの間のパワーを持つ炭素源及び酸素源から形成される。プラズマは、金属リチウムを炭酸リチウムに変換する。さらに、水溶液に炭酸リチウムを溶解させるステップを備える。 （もっと読む）

【課題】ターゲット抵抗の低いスパッタ用ＺｎＳ系誘電体ターゲット、並びにこのターゲットを用いて非結晶性の相変化光ディスク用誘電体膜を形成する成膜方法及び製造装置の提供。
【解決手段】ＺｎＳ系誘電体材料に対して、０〜５ｍｏｌ％のＡｌ_２Ｏ_３を配合したＺｎＯが５〜３０ｍｏｌ％分散されたターゲット。この誘電体材料は、ＺｎＳ単体又はＺｎＳに対して５ｍｏｌ％以下のＩｎ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、若しくはＩＴＯ（Ｉｎ_２Ｏ_３＋ＳｎＯ_２）が配合されたものである。該ターゲットに５０〜４００ｋＨｚの周波数をＤＣに重畳させて印加できるように構成されたスパッタ電源を備えた成膜装置を用いて、スパッタ法により、基板上に、非結晶の相変化光ディスク用誘電体膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体薄膜の酸素量を精度良く制御する。
【解決手段】大気と遮断された酸化物半導体薄膜形成室２０内で、基板３６上に、酸化物半導体の薄膜、すなわち活性層１０６を形成する薄膜形成工程と、前記薄膜形成工程の中で前記薄膜を加熱する加熱工程と、前記酸化物半導体薄膜形成室２０と接続され、前記大気と遮断された輸送室１４内で、前記基板３６上に形成した薄膜を、前記加熱工程により加熱された温度から急速冷却する冷却工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】大型基板量産工程に容易に適用でき、製造収率が向上した薄膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着物質を放射する蒸着源と、蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の第１スリットが形成される第１ノズルと、第１ノズルと対向するように配され、第１方向に沿って複数の第２スリットが形成される第２ノズルと、第１ノズルと第２ノズルとの間に第１方向に沿って配されて、第１ノズルと第２ノズルとの間の空間を複数の蒸着空間に区画する複数の遮断壁を備える遮断壁アセンブリーとを備える薄膜蒸着装置。 （もっと読む）