【課題】本発明は、スリットの大きさが微細に制御された蒸着用マスクおよび蒸着用マスクの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による蒸着用マスクは、貫設された複数のスリットが形成されたマスク本体、および原子層蒸着法（ａｔｏｍｉｃ ｌａｙｅｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、ＡＬＤ）により前記マスク本体の表面全体にコーティングされた蒸着層を含む。 （もっと読む）

【課題】高精細な複数の開口パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】平板状の磁性金属材料に、薄膜パターンの形成領域に対応して該薄膜パターンよりも形状が大きい貫通する複数の開口部５を設けてメタルマスク１を形成し、メタルマスク１の一面に可視光を透過する樹脂製のフィルム２を面接合し、透明基板８の一面に薄膜パターンと同形状の複数の基準パターン９を薄膜パターンと同じ配列ピッチで並べて形成し、該基準パターン９を下側にしてステージ上に載置された基準基板３の基準パターン９がメタルマスク１の開口部５内に位置するようにメタルマスク１を基準基板３に対して位置合わせした後、フィルム２を基準基板３の他面に密着させ、メタルマスク１の開口部５内の基準パターン９に対応したフィルム２の部分にレーザ光Ｌを照射して、薄膜パターンと同形状の貫通する開口パターン４を形成する。 （もっと読む）

【課題】高精細な複数の開口パターンの形成を容易にすると共に、ハンドリング中も開口パターンの形状及び位置が維持できるようにする。
【解決手段】平板状の磁性金属材料に薄膜パターンよりも形状が大きい貫通する複数の開口部６を設けて保持部材１を形成し、保持部材１の一面に可視光を透過する樹脂製フィルム２を密着して保持し、第１の磁気チャック１７上に載置された基板３に対して保持部材１を位置合わせした後、磁力により保持部材１を吸着してフィルム２を基板３面に密着させ、保持部材１の開口部６内のフィルム２の部分にレーザ光を照射して、薄膜パターンと同形状の貫通する開口パターン４を形成し、第２の磁気チャック１８の磁力により保持部材１を吸着して該保持部材１及びフィルム２を一体的に基板３上から剥離する。 （もっと読む）

【課題】メタルマスクを直接冷却することが可能なメタルマスク冷却機構と、そして、当該機構を備えた有機ＥＬ成膜装置を提供する。
【解決手段】真空蒸着チャンバ中で、基板とメタルマスク８３とのアライメントを行って蒸着材料を当該基板に蒸着する有機ＥＬ成膜装置におけるメタルマスクの冷却機構は、メタルマスクを間に挟み込んで、外形「ロ」の字状に形成され、一方の表面上に前記マスクを取り付ける固定フレーム８２の外枠に沿って設けられる、複数の固定板８４を備えており、固定板は、各々、熱伝導性に優れた部材により細長い板状に形成されると共に、その内部には冷媒を流すための流体流路を形成すると共に、更に、固定板の各々には、前記固定板の流路に冷媒を供給するための配管と排出するための配管とを設けた。 （もっと読む）

【課題】高精細な薄膜パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】基板２上に一定形状の薄膜パターン４を成膜形成する薄膜パターン形成方法であって、箔状の磁性部材５に薄膜パターン形成領域９に対応して該薄膜パターン４と同形状の貫通する開口パターン６を形成し、磁性部材５が磁力により第１の磁気チャック３の平坦な吸着面３ａに吸着されて保持されたマスク１の開口パターン６を、第２の磁気チャック８上に載置された基板２の薄膜パターン形成領域９に位置合わせするステップと、第２の磁気チャック８の磁力により磁性部材５を吸着してマスク１を第１の磁気チャック３から基板２上に移すステップと、マスク１の開口パターン６を介して基板２上の薄膜パターン形成領域９に成膜し、薄膜パターン４を形成するステップと、を行うものである。 （もっと読む）

【課題】高精細な薄膜パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】基板９上に一定形状の薄膜パターンを成膜形成する薄膜パターン形成方法であって、可視光を透過し一面に磁性体膜１を被着したフィルム２に薄膜パターン形成領域１１に対応して薄膜パターン１２と同形状の貫通する開口パターン３を形成し、磁性体膜１側を第１の磁気チャック６の平坦面に吸着して保持されたマスク４の開口パターン３を、第２の磁気チャック１０上に載置された基板９の薄膜パターン形成領域１１に位置合わせするステップと、第２の磁気チャックにより磁性体膜１を吸着してマスク４を第１の磁気チャック６から基板９上に移すステップと、マスク４の開口パターン３を介して基板９上の薄膜パターン形成領域１１に成膜し、薄膜パターン１２を形成するステップと、を行うものである。 （もっと読む）

【課題】成膜用ワークの形状、構造に拘わらず、必要な面のみを安価に成膜できるマスキング成膜方法を提供する。
【解決手段】成膜用ワーク（Ｗ）を固定側金型（１０）と可動側金型（１５）とにより成形するとき、成膜する面は、固定側金型（１０）と可動側金型（１５）とで構成されるキャビテイ（Ｃ）により直接成形し、マスキングする面はキャビテイ（Ｃ）内に挿入したマスキング治具（１）により成形する。成膜不要な面にはマスキング治具（１）が付着して覆われているので、そのまま成膜室に搬入して成膜を開始する。 （もっと読む）

【課題】高精細な薄膜パターンの形成及び不純物により薄膜パターンがダメージを受けるのを抑制可能にする。
【解決手段】基板面に接触して設置され、該基板上に一定形状の複数種の薄膜パターンを形成するためのマスク１であって、可視光を透過する樹脂製のフィルム２と、前記基板上に予め定められた前記複数種の薄膜パターンの形成領域のうち、一の薄膜パターンの形成領域に対応して該一の薄膜パターンよりも形状の大きい貫通する開口部５を形成した板体で構成され、前記フィルム２を保持する保持部材３と、備え、前記フィルム２は、前記基板上の前記一の薄膜パターンの形成領域に対応して前記保持部材３の前記開口部５内に前記一の薄膜パターンと同形状の開口パターン４を備え、他の薄膜パターンの形成領域に対応して前記基板との接触面側に前記他の薄膜パターンと同形状の凹部６を備えている。 （もっと読む）

【課題】高精度の微細パターンが形成されたマスク製造方法が提供される。
【解決手段】マスクにスリットパターンを形成するための初期リブを形成する段階と、前記初期リブの上面の両側端部を除去して、前記初期リブの上面幅より小さい上面幅を有し、前記スリットパターンを定義する最終リブを形成する段階と、を有する。 （もっと読む）

【課題】デンドライト状の析出物を発生させずに個体電解質層を形成する技術を提供する。
【構成】正極１３上又は負極１５上に固体電解質層１４を形成するために、基板１１上にグラファイト又はＬｉＣｏＯ₂が表面に露出するマスク１７を配置し、ＬｉＰＯＮで構成されたターゲットをスパッタリングして、パターニングされた固体電解質層１４を形成する。Ｌｉを吸収する素材をマスク１７の表面に露出させておくと、電界で移動するリチウムイオンが固定され、デンドライト状の析出物を発生させずに、スパッタリングの際に固体電解質層１４を形成することができる。この素材は、リチウムを吸収しても体積膨張がないグラファイト又はＬｉＣｏＯ₂がよい。 （もっと読む）

【課題】 蒸着マスクの弛みをより確実に防止することが可能なマスクフレームと、該マスクフレームを用いた蒸着マスク組立体を提供する。
【解決手段】 相対する高熱膨張合金の桟と、相対する低熱膨張合金の桟とで構成される矩形状の枠体であって、前記高熱膨張合金の桟は、３０〜１００℃の線膨張率（α_Ｆｈ（３０〜１００℃））が（４〜２０）×１０^−６／℃であり、前記低熱膨張合金の桟は、蒸着マスクを接合支持する支持部材となるものであって、３０〜１００℃の線膨張率（α_Ｆｌ（３０〜１００℃））が５×１０^−６／℃以下であり、且つ、α_Ｆｈ＞α_Ｆｌを満足するマスクフレーム。 （もっと読む）

【課題】半導体膜の表面欠陥の発生を抑制する半導体膜蒸着装置および半導体膜蒸着方法を提供する。
【解決手段】
半導体原料を収容するるつぼ２と、るつぼ２と対向して基板５を支持する基板支持器６と、るつぼ２と基板５との間でるつぼ２の開口を覆って配置されるマスク４と、るつぼ２およびマスク４を加熱する加熱器３と、るつぼ２、基板支持器６、およびマスク４を収容する真空チャンバ７とを備える半導体膜蒸着装置。るつぼ２から飛散した半導体分子はマスク４内部を衝突しながら通過することで基板５上に表面欠陥が抑制された状態で成膜される。 （もっと読む）

【課題】被蒸着膜を高精細なパターンで形成することが可能な蒸着用マスクを提供する。
【解決手段】蒸着用マスクは、１または複数の第１開口部を有する基板と、この基板の第１主面側に設けられると共に、各第１開口部と対向して１または複数の第２開口部を有する高分子膜とを備える。蒸着の際には、蒸着材料が第１開口部および第２開口部を順に通過することにより、第２開口部に対応した所定のパターンで被蒸着膜が形成される。基板と高分子膜とを組み合わせて用いることにより、機械的強度を保持しつつも、金属膜のみで構成されている場合に比べ、第２開口部において微細かつ高精度な開口形状を実現できる。 （もっと読む）

【課題】薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリーを提供する。
【解決手段】開口部が形成され、開口部を取り囲むマスクフレーム１１０と、マスクフレーム１１０上に結合されるマスク１２０と、マスク１２０を支持する少なくとも一つの支持台１３０と、支持台１３０を固定する複数の固定部１４０と、を備える薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。これにより、蒸着用基板のたるみによる蒸着用基板の割れ現象を防止できる。 （もっと読む）

【課題】坩堝の輻射熱を遮熱し、且つノズルに詰まりを生じない蒸発源および蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着源１は、蒸着材料Ｍを加熱して蒸発させる坩堝５から突出するようにして設けられ、蒸発した蒸着材料Ｍを基板に向けて噴射するノズル１２と、並列に配置した複数の金属板１５を有し、これら複数の金属板１５のうち最も基板に近い金属板１５をノズル１２のノズル先端面１３よりも基板に近い位置に設けたリフレクタと、リフレクタを構成する複数の金属板１５のうち一部と一体的に構成され、ノズル１２とリフレクタとの間を閉塞するカバー部材８と、を備える。 （もっと読む）

【課題】蒸着マスク引張用整列基板、それの製造方法およびそれを利用した蒸着マスク引張方法を提供する。
【解決手段】有機物質を蒸着するための蒸着マスクの引張において前記蒸着マスクに形成された複数の開口部を整列するための整列基板であって、本発明による蒸着マスク引張用整列基板１０は透明基板１１と、前記透明基板１１の一面にコーティングされて光を反射させる反射膜パターン１３を含み、前記反射膜パターン１３は前記開口部と対応する位置にのみ形成される。 （もっと読む）

【課題】マスク本体と枠体との接合性が良く、接着剤の除去が容易に行えるメタルマスクの製造方法と、その製造方法において用いる枠部材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】多数独立の通孔５からなる開口パターン６をパターン形成領域４内に備えるマスク本体２と、マスク本体２の外周に配置されるマスク本体２の補強用の枠体３とを備えるメタルマスク１の製造方法について説明する。まず、マスク本体２に対応する金属体１５を形成するする。次に、金属体１５を囲むように枠部材３’を配する。次に、枠部材３’の表面と、金属体１５の外周縁４ａ表面とを覆うように金属層９を形成して、金属体１５と枠部材３’とを不離一体的に接合する。この枠部材３’は、枠体３と、第２金属材３３と、接着層３４とを備え、枠体３は、枠材３１と、第２金属材３２とを有している。そして、金属層９を介して金属体１５と枠部材３’とを接合した後に、枠部材３’の第２金属材３３及び接着層３４を除去する。 （もっと読む）

【課題】基材表面の選択的領域に気相から堆積層を形成するための蒸着マスクを用いる薄膜パターン形成工程において、薄膜パターンの位置ズレやパターンエッヂのボケがなく、基材表面へのキズ等の欠陥を与えることのない蒸着マスクおよびそれを用いた薄膜パターン形成方法を提供すること。
【解決手段】非堆積領域とすべき部分を被覆して基材表面と密着させる材料が可撓性フィルム１１１からなる可撓性貼付フィルム１１０を用いた蒸着マスク１１を使用し、可撓性貼付フィルムを基材１０の成膜側全表面に密着させた後、所望の堆積層１３を形成すべき領域を覆う可撓性貼付フィルムを選択的に除去し、しかる後に堆積層を形成する成膜工程を実施し、最後に基材表面上に残された可撓性貼付フィルムを除去する。 （もっと読む）

【課題】個々の成形品と密着できる緩衝性があり、糸引きや剥がれ、アウトガスに起因する被膜などの見切り部の不良が極力阻止でき、見切り精度に優れたマスク治具を提供する。
【解決手段】成形品の表面を部分的に被覆処理する際に使用するマスク治具１であって、マスク治具本体１’の被覆処理部を露出させる窓４の内面縁部に、非被覆処理部内から窓４への空気の流通を遮断するクッション材３を設けてなり、前記クッション材３は付加反応型シリコーン系樹脂であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】製造が容易であり、軽量かつ高弾性であると共に、熱膨張率を著しく小さくすることも可能な蒸着用マスクと、その製造方法と、この蒸着用マスクを用いた蒸着方法とを提供する。
【解決手段】三次元移動ステージ２上にＣＦＲＰ製マスク素板３が配置され、集光光学系１を介してレーザービームＬがマスク素板３に照射される。三次元移動ステージ２を所定パターンに従って移動させることによりマスク素板３に蒸着通孔５を形成する。マスク素板３を不動とし、レーザービームＬを走査移動させて所定パターンの蒸着通孔を形成してもよい。蒸着用マスク４にＣＦＲＰ製の補強板６をレーザー照射による熱融着によって固着してもよい。 （もっと読む）