【課題】表面に凹凸形状が形成されている長尺シートを用いた場合に、凹凸形状のうち一部に蒸着材料を選択的に蒸着することが可能な蒸着装置を提供する。
【解決手段】表面に凹凸形状が形成されている長尺シートＷ１における凹凸形状の一部に、蒸着材料Ｍを選択的に蒸着する蒸着装置であって、長尺シートＷ１を搬送する搬送部２０と、蒸着時において蒸着材料Ｍを収容し加熱する蒸着源３０と、蒸着材料Ｍの放出方向を制限する放出方向制限部４０とを備えることを特徴とする蒸着装置１。 （もっと読む）

【課題】基板に蒸着される膜の膜厚均一性を向上させることができる成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置１０は、基板Ｓを収容する処理チャンバ１２と、基板Ｓを保持するステージ１４と、蒸着材料を含むガスＧを基板Ｓに噴き付ける複数のノズル１６ｃを有する蒸着ヘッド１８ｃとを備える。ノズル１６ｃはＹ方向に沿って配列される。成膜装置１０は、ノズル１６ｃに対して相対的に基板ＳがＹ方向と交差するＸ方向に沿って移動するように、蒸着ヘッド１８ｃ及びステージ１４の少なくとも一方を駆動する駆動装置２２と、Ｙ方向に沿った基板Ｓの側面ＳａとＸ方向に沿った基板Ｓの側面Ｓｂとを覆う枠Ｆとを備える。 （もっと読む）

【課題】分割マスク及びこれを利用したマスクフレーム組立体の組立方法を提供する。
【解決手段】パターンが形成された本体部と、本体部の一側から延びた少なくとも一つ以上のサイドクランピング部と、前記少なくとも一つのサイドクランピング部の最外郭のサイドクランピング部に隣接して配される斜めクランピング部と、を備え、斜めクランピング部とサイドクランピング部とがなす角度（θ）は、０°より大きく９０°より小さい（０°＜θ＜９０°）分割マスク及びこれを利用したマスクフレーム組立体の組立方法。 （もっと読む）

【課題】複数のスティック型分割マスクが採用されるマスクフレーム組立体を提供する。
【解決手段】フレームに互いに交差して設けられ、その交差位置は互いに溶接で固定された支持バー及び分割マスクを備え、その溶接点の周囲には分割マスクの一部を切除した部分切除部が形成されるマスクフレーム組立体。かかる構造によれば、支持バーで分割マスクの下反りを防止でき、基板と分割マスクとの密着性も向上させることができるマスクフレーム組立体が具現される。 （もっと読む）

【課題】分割マスクとその分割マスクを含むマスクフレーム組立体の組立装置を提供する。
【解決手段】蒸着用パターンが設けられたスティック本体と、スティック本体の長手方向に沿って延びた第１クランピング部と、スティック本体の長手方向と幅方向との間の斜め方向に沿って延びた第２クランピング部と、を備える分割マスク及びその分割マスクを含むマスクフレーム組立体の組立装置である。これにより、マスクフレーム組立体の組立時、第１、２クランピング部を利用して、長手方向だけでなく、幅方向にも引張力を与えることができるので、ウェーブの発生を抑制して精密なマスクフレーム組立体を作りうる。 （もっと読む）

【課題】意匠面の薄膜形成領域だけに、薄膜を安定的に且つ確実に形成可能とされた薄膜形成用マスキング装置を提供する。
【解決手段】第一のマスキング部３４にて、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域をマスキングすると共に、第二のマスキング部３８にて、基板１６の非意匠面１８の少なくとも一部をマスキングした状態下で、それら第一及び第二のマスキング部３４，３８に設けられた第一及び第二の板状突出部３２，３６が、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域の周囲において、互いに非接触な状態でオーバーラップして配置されるように構成した。 （もっと読む）

【課題】薄膜蒸着用のマスクフレームアセンブリーを提供する。
【解決手段】蒸着用基板に蒸着しようとする素材を蒸着するためのものであって、開口部が形成され、開口部を取り囲む複数のフレームが互いに連結されたマスクフレーム；マスクフレーム上に結合されるマスク；を備えるが、マスクの少なくとも一領域には変形防止部が形成されたものであって、マスクの蒸着用パターン部の周辺部に変形防止部が形成されることで、マスクの垂直方向の変形を低減させることができる。これにより、基板へのマスクの密着不良を最小化する。 （もっと読む）

【課題】基板を離間状態で相対移動させることで小形の蒸着マスクでも広範囲に成膜パターンの蒸着膜を蒸着でき、また、成膜パターンの重なりを防止すると共に、蒸発源からの輻射熱の入射を抑制し、基板と蒸着マスクとを離間状態で相対移動させる構成でありながら、高精度で高レートな蒸着が行える蒸着装置並びに蒸着方法を提供する。
【解決手段】蒸発源と基板との間に、制限用開口部を設けた飛散制限部を有するマスクホルダーを配設し、このマスクホルダーに蒸着マスク２を付設し、前記基板を、蒸着マスク２を付設したマスクホルダー及び前記蒸発源に対して、蒸着マスク２との離間状態を保持したまま相対移動自在に構成し、蒸着マスク２のマスク開口部３は、前記基板の相対移動方向に長くこれと直交する横方向に幅狭いスリット状とし、この横方向に複数並設した蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】従来の成膜装置において、マスクに対するクリーニングは、長時間にわたり行われていた。
【解決手段】成膜室を有し、成膜室は、プラズマを発生させる手段を有し、プラズマを発生させる手段は、成膜室に配置されるマスクを電極として有することができ、マスクに高周波電界を印加して、成膜室に導入されたガスを励起してプラズマを発生することができる。Ａｒ、Ｈ、Ｆ、ＮＦ_３、またはＯから選ばれた一種または複数種を有するガスを用いてプラズマを発生させる。 （もっと読む）

【課題】小形の蒸着マスク２でも大型の基板４を離間状態で相対移動させることで広範囲に蒸着マスクによる成膜パターンの蒸着膜を蒸着でき、蒸着マスクの温度上昇を十分に抑えて蒸着マスク２を一定の温度に保持ができるため、蒸着マスクの熱による歪みを防止でき、高精度の蒸着が行える画期的な蒸着装置を提供すること。
【解決手段】基板４と蒸着マスク２とを離間状態に配設し、この基板４と蒸発源１との間に、制限用開口部５を設けた飛散制限部を構成するマスクホルダー６を配設し、このマスクホルダー６に前記蒸着マスク２を接合させて付設し、このマスクホルダー６に蒸着マスク２の温度を保持する温度制御機構９を設け、基板４をこの蒸着マスク２に対して相対移動することにより蒸着マスク２より広い範囲に、精度の高い成膜パターンの蒸着膜を形成できる蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】蒸着法における効率的な成膜条件の評価方法と、そのための蒸着装置とを提供する。
【解決手段】真空容器５０内に収められた基板２００の主面の第１の領域を蒸着源６０へ露出しかつ第２の領域を遮蔽するように第１のシャッター１０Ａを配置しながら、第１の成膜条件によって第１の領域の上に第１の薄膜が成膜される。次に、基板２００の主面の第２の領域の少なくとも一部を蒸着源６０へ露出しかつ第１の領域の少なくとも一部を遮蔽するように第２のシャッター１０Ｂを配置しながら、第２の成膜条件によって第２の領域の上に第２の薄膜が成膜される。第１および第２の薄膜の特性が評価される。 （もっと読む）

【課題】種々の多数の基板に対して真空蒸着法による成膜を効率良く行う技術を提供する。
【解決手段】本発明は、真空槽２内において、第１及び第２のマスク３１、３２を介して第１及び第２の基板５１、５２上に蒸着を行う真空蒸着装置である。本発明は、第１及び第２の基板５１、５２を保持する保持手段８０と、第１及び第２のマスク３１、３２をそれぞれ支持するマスク支持部１７、１８と、マスク支持部１７、１８を非接触の状態でそれぞれ位置合わせを行う第１及び第２のＸＹθステージ１５、１６とを有する。第１及び第２のＸＹθステージ１５、１６は、コ字形状に形成され、第１及び第２のＸＹθステージ１５、１６の端部がそれぞれ対向するように配置されている。 （もっと読む）

【課題】搬送される基板に対して、ホスト材料とゲスト材料とを同時蒸着させる蒸着装置において、微量のゲスト材料を蒸着させる場合であっても精度良く成膜を行う。
【解決手段】搬送される基板１００に対して薄膜を形成する真空蒸着装置２００であって、基板１００に対向して搬送方向Ａに直交する幅方向に延在し、第１蒸着材料を放出する第１蒸着源２０３と、搬送方向Ａに直交する幅方向に延在し、第１蒸着源２０３に対して搬送方向Ａにずれて配置され、放出された第１蒸着材料に重なり合うように第２蒸着材料を放出する第２蒸着源２０４と、第２蒸着源２０４が延在する方向と同一の方向に延在し、放出された第２蒸着材料に重なる位置であって、放出された第１蒸着材料に重ならない位置に設けられた遮蔽部材２３０と、を備え、遮蔽部材２３０は、放出された第２蒸着材料の一部を通過する開口部２３１を有する。 （もっと読む）

【課題】搬送される基板に対して、ホスト材料とゲスト材料とを同時蒸着させる蒸着装置において、微量のゲスト材料を蒸着させる場合であっても精度良く成膜を行う。
【解決手段】搬送される基板１００に対して薄膜を形成する真空蒸着装置２００であって、基板１００に対向して搬送方向Ａに直交する幅方向に延在し、第１蒸着材料を放出する第１蒸着源２０３と、基板１００に対向して搬送方向Ａに直交する幅方向に延在し、第１蒸着源２０３に対して搬送方向Ａにずれて配置され、第１蒸着材料に重なり合うように第２蒸着材料を放出する第２蒸着源２０４と、搬送方向Ａに沿って配列された複数の羽板部材２０７ａと、を備え、複数の羽板部材２０７ａは、放出された第２蒸着材料の進行方向に対して傾斜し、且つ、放出された第１蒸着材料の進行方向に対して平行となるように設けられている。 （もっと読む）

【課題】成膜時の熱による変形を抑制できる成膜マスク及び成膜装置並びに薄膜の形成方法を提供する。
【解決手段】
複数の開口２３が形成され、成膜物質が開口２３を通過する通過部２１と、成膜物質を遮蔽する遮蔽部２２とを有している。通過部２１と遮蔽部２２とは長手方向を有し、遮蔽部２２の長手方向の長さは、通過部２１の長手方向の長さ以上にされ、遮蔽部２２の幅の長さは、通過部２１の幅の長さと同じに形成されている。通過部２１と遮蔽部２２とは、成膜マスク２０ａ表面と平行な一の移動方向５に沿って長手方向を密着して並んで配置され、成膜マスク２０ａが一の移動方向５の通過部２１側に通過部２１の幅の距離移動すると、開口２３が位置していた場所が、遮蔽部２２によって塞がれるように構成されている。遮蔽部２２には内部に伝熱媒体が流れる流路部材が密着して設けられている。 （もっと読む）

【課題】分割マスク及びそれを利用したマスクフレーム組立体の組立て方法を提供する。
【解決手段】蒸着用パターンが設けられたスティック本体、及びスティック本体から長手方向に沿って外側に延長し、スティック本体の幅より拡張された幅を有するクランピング部を具備する分割マスクである。これにより、マスクフレーム組立体の組立て時に、拡張されたクランピング部を利用し、分割マスクに強い引っ張り力を与えることができるので、ウェーブ発生を抑制し、精密なマスクフレーム組立体を設けることが可能である。 （もっと読む）

【課題】蒸着マスク引張用整列基板、それの製造方法およびそれを利用した蒸着マスク引張方法を提供する。
【解決手段】有機物質を蒸着するための蒸着マスクの引張において前記蒸着マスクに形成された複数の開口部を整列するための整列基板であって、本発明による蒸着マスク引張用整列基板１０は透明基板１１と、前記透明基板１１の一面にコーティングされて光を反射させる反射膜パターン１３を含み、前記反射膜パターン１３は前記開口部と対応する位置にのみ形成される。 （もっと読む）

【課題】テープ状基材の表面に、基材の幅方向に厚みの揃った均一な薄膜を、連続して効率的に形成することのできる蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空蒸着室１１内に設けられた蒸着源１と、蒸着用のテープ状基材１０を供給するための基材供給手段（３）と、蒸着源１から蒸散する蒸着材料をテープ状基材１０の被蒸着面に対して放出する放出口１ａと、蒸着後のテープ状基材１０を回収するための基材巻取り手段（４）と、テープ状基材１０の蒸着位置を蒸着源１の放出口１ａに対して所定の距離に保持するための基材支持手段（５）とを備える蒸着装置であって、蒸着源１の放出口１ａには、テープ状基材１０に対する蒸着材料の付着量を均一に制御する所定形状の遮蔽マスク２が、交換可能に装着されている。 （もっと読む）

【課題】巻取り式連続成膜装置において、高生産性を図るに際して長大化させた成膜源、成膜ロール、ガイドロール群、及び成膜マスクなどに対するメンテナンスや段取り作業を容易化すると共に、幅を拡大させた基材において幅方向で品質的に均一な被膜を形成させることができるようにする。
【解決手段】本発明の巻取り式連続成膜装置１は、真空チャンバ２と、真空チャンバ２内に配備された成膜ロール３，３と、成膜ロール３，３に亘って巻き掛けられる基材Ｗの表面に被膜を形成する成膜源４，４とを有し、真空チャンバ２は、前後壁６，７及び上下壁８，９からなるチャンバ本体１０と、チャンバ本体１０に対して開閉自在とされた左右の側壁１１，１２とを備え、チャンバ本体１０の前後壁６，７及び／又は上下壁８，９には、成膜ロール３，３で挟まれたロール間領域への作業者の出入りを可能にする出入口部３０が設けられている。 （もっと読む）

【課題】マスクをフレームに引っ張り溶接するときに発生しうるシワを改善することが可能な、マスクフレーム組立体、マスクフレーム組立体の製造方法、および有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】フレームと、フレームに第１方向に引っ張られた状態で設けられるマスクと、を備え、マスクは、複数の蒸着用パターン部が備えられる蒸着領域と、蒸着領域より厚く形成され、蒸着領域の両側に前記第１方向に沿って延設されるエッジ部と、蒸着領域より厚く形成され、第１方向と垂直の第２方向に隣接した蒸着用パターン部の間に少なくとも２つ以上形成されるリブと、を備えるマスクフレーム組立体が提供される。 （もっと読む）