【課題】基材に形成される各層の移動方向及び該移動方向と垂直方向のアライメントを調整して、効率的に有機ＥＬ素子を製造し得る有機ＥＬ素子の製造方法及び製造装置を提供。
【解決手段】電極層の形成された帯状の基材を供給し、該基材の非電極層側を回転駆動するキャンロール表面に当接させて該基材を移動させつつ、前記キャンロールと対向するように配された蒸着源を用いて、有機層を形成する蒸着工程を含む有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記蒸着工程では、更に、シャドーマスクを、前記キャンロールに当接した前記基材と前記ノズルとの間に介入させるように供給し、シャドーマスクとして、長手方向に配列された複数の貫通孔が設けられたものを用い且つ前記キャンロールとして、前記貫通孔に係合する係合突起部が設けられたものを用い、それらを係合させて前記基材及びシャドーマスクを移動させることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】薄膜蒸着用マスクフレーム組立体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】複数個のスティック型分割マスクが採用されるマスクフレーム組立体１００であり、該マスクフレーム組立体１００は、単位画面に対応する蒸着用パターンを具備する複数の分割マスク１１０を具備し、さらに各分割マスクは、複数の部分マスク１１０ａ，１１０ｂが結合され、単位画面に対応する蒸着用パターン１１１を形成するように構成される。これにより、大型画面に対応するパターンを収容した分割マスクをエッチング誤差増大の恐れなく容易に製作することができる。 （もっと読む）

【課題】 複数のスリット状の開口を持つ蒸着マスクにおいて、隣接するスリット状の開口間の箔が互いに接触して密着し、スリット状開口部が塞がって成膜パターンの不良を引き起こしてしまう。
【解決手段】連続して配置された少なくとも３つの前記開口の少なくとも一方の端部を、前記開口の長手方向に互いにずらして配置する。 （もっと読む）

【課題】スパッタリングを用いて電池部材を成膜する際に、正負極が短絡することがなく、さらに、未成膜部分が生じることがない薄型電池の製造方法を提供する。
【解決手段】１つの電極を備えた積層体の表面を、所定形状の開口部を有するマスクでマスキングした後、スパッタリングにより、開口部内に電池部材を成膜して、前記積層体に積層する薄型電池の製造方法であって、マスクは、絶縁材料により形成された絶縁体部と、絶縁体部の上面側に設けられた第１の導体部と、成膜された電池部材が接する開口部の壁面部に設けられた第２の導体部と、を備えており、第１の導体部および第２の導体部が、接地されている薄型電池の製造方法。 （もっと読む）

【課題】マスク本体と枠体との接合性が良く、接着剤の除去が容易に行えるメタルマスクの製造方法と、その製造方法において用いる枠部材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】多数独立の通孔５からなる開口パターン６をパターン形成領域４内に備えるマスク本体２と、マスク本体２の外周に配置されるマスク本体２の補強用の枠体３とを備えるメタルマスク１の製造方法について説明する。まず、マスク本体２に対応する金属体１５を形成するする。次に、金属体１５を囲むように枠部材３’を配する。次に、枠部材３’の表面と、金属体１５の外周縁４ａ表面とを覆うように金属層９を形成して、金属体１５と枠部材３’とを不離一体的に接合する。この枠部材３’は、枠体３と、第２金属材３３と、接着層３４とを備え、枠体３は、枠材３１と、第２金属材３２とを有している。そして、金属層９を介して金属体１５と枠部材３’とを接合した後に、枠部材３’の第２金属材３３及び接着層３４を除去する。 （もっと読む）

【課題】基体の全幅に均一な膜を成膜できる成膜装置を提供することを目的とする。
【解決手段】基体（１０１）の幅よりも狭い幅の基体搬送体（２０２）を基体（１０１）の裏面側に当接して搬送するとともに、基体搬送体（２０２）を通過する基体（１０１）の表面に、基体（１０１）よりも幅広の窓（１０６ａ）を有するシャッター（１０６）を介して基体（１０１）の表面に成膜することで、基体（１０１）の全幅に均一な膜を成膜できる成膜装置（２００）を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、輝度を低下させずに高精細化を図ることを目的とする。
【解決手段】複数の画素電極２４を有する回路基板１０に、複数の貫通穴４０を有する蒸着マスク３８を使用した蒸着によって、有機材料からなる複数の発光層３０を形成する蒸着工程を含む。複数の画素電極２４は、複数の列をなすように配列されている。複数の貫通穴４０は、複数の列をなすように配列され、列に沿った方向に長くなる形状を有し、各列で２つ以上の貫通穴４０が並んでいる。各列に並ぶ画素電極２４の数は、少なくとも、各列に並ぶ貫通穴４０の数の２倍以上ある。蒸着工程で、それぞれの貫通穴４０の内側に、いずれかの列に並ぶ２つ以上の画素電極２４を配置して、複数の画素電極２４上に複数の発光層３０を形成する。 （もっと読む）

【課題】膜を形成する基板の温度制御を安定して行なう真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空蒸着装置１００は、基板２０の上に膜を形成する真空蒸着装置であって、基板ホルダ１０３と、ホルダ加熱部１０５と、基板２０上に形成する膜の原料をその内部に収容する原料保持部と、第１遮断部１１１と、第２遮断部１１２と、を備えている。第１遮断部１１１は、前記原料保持部側から見て、基板ホルダ１０３よりも外周が外側に位置することが可能である。第２遮断部１１２は、第１遮断部１１１と選択的に、前記原料保持部側から見て、基板ホルダ１０３よりも外周が外側に位置することが可能であり、開口部１１２ａを有する。第２遮断部１１２の開口部１１２ａの内接円の半径は、基板２０の外接円の半径の１．５倍以下である。 （もっと読む）

【課題】個々の成形品と密着できる緩衝性があり、糸引きや剥がれ、アウトガスに起因する被膜などの見切り部の不良が極力阻止でき、見切り精度に優れたマスク治具を提供する。
【解決手段】成形品の表面を部分的に被覆処理する際に使用するマスク治具１であって、マスク治具本体１’の被覆処理部を露出させる窓４の内面縁部に、非被覆処理部内から窓４への空気の流通を遮断するクッション材３を設けてなり、前記クッション材３は付加反応型シリコーン系樹脂であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】大型基板の量産工程にさらに適しており、高精細のパターニングを可能にする有機層蒸着装置及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に有機層を形成するための有機層蒸着装置において、基板と結合して基板を固定させ、基板の載置面が所定の曲率を持つように形成される静電チャック；基板側に蒸着物質を放射する蒸着源；蒸着源の一側に配置され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部；蒸着源ノズル部と対向して配置され、第１方向に対して垂直の第２方向に沿って複数のパターニングスリットが形成され、第２方向と、第１方向及び第２方向に対して垂直の第３方向とが形成する平面上での断面が一定に曲げられるように形成されるパターニングスリットシート；を備える有機層蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】張力をかけて枠体に貼り付けた際に、各開口の長手方向の長さを長くして、テープ部のよれを抑制でき、開口幅のバラツキを小さく抑制できる擬似スリットタイプのメタルマスクを提供する。
【解決手段】スリット状の開口１１に対して該開口の長手方向を直交する方向に跨ぐ複数の繋ぎ部１２を所定のピッチＰ１で設けた開口形状を有する開口配列部を、複数、前記長手方向に直交する方向に、所定の決められたピッチで配列しており、各開口配列部の各繋ぎ部は、いずれも、１開口配列部おきに、開口配列部の長手方向に直交する方向の直線上に揃えて設けられ、且つ、全開口配列部の全繋ぎ部が配列される、開口配列部の長手方向に直交する方向の直線群は、前記所定の決められたピッチの半分のピッチである。 （もっと読む）

【課題】連続蒸着が可能な薄膜蒸着装置、並びにその薄膜蒸着装置に使われるマスク・ユニット及びクルーシブル・ユニットを提供する。
【解決手段】蒸着対象体である基板１０を移送するように備わった基板移送ユニットと、基板に向けて蒸着源の蒸気を選択的に通過させるように備わったマスク・ユニット２００と、蒸着源を収容し、マスク・ユニットを貫通する循環経路に沿って進む複数のクルーシブル１１０を含むクルーシブル・ユニット１００と、を具備する薄膜蒸着装置である。これにより、蒸着源の供給及び消尽、基板とマスクとのアレンジなどがいずれも連続して進められるために、作業速度が相当に速くなる。 （もっと読む）

【課題】製造が容易であり、軽量かつ高弾性であると共に、熱膨張率を著しく小さくすることも可能な蒸着用マスクと、その製造方法と、この蒸着用マスクを用いた蒸着方法とを提供する。
【解決手段】三次元移動ステージ２上にＣＦＲＰ製マスク素板３が配置され、集光光学系１を介してレーザービームＬがマスク素板３に照射される。三次元移動ステージ２を所定パターンに従って移動させることによりマスク素板３に蒸着通孔５を形成する。マスク素板３を不動とし、レーザービームＬを走査移動させて所定パターンの蒸着通孔を形成してもよい。蒸着用マスク４にＣＦＲＰ製の補強板６をレーザー照射による熱融着によって固着してもよい。 （もっと読む）

【課題】スリット状開孔部の振動による閉塞を防止し、高精細なパターン成膜を安定して実施しうる成膜マスクを提供する。
【解決手段】金属箔８にスリット状開孔部４を複数本開孔してなる成膜マスク１において、スリット状開孔部４の少なくとも一方の端部の開孔形状を、スリット状開孔部４の幅方向の中心線Ｏを中心に非対称である形状とする。 （もっと読む）

【課題】 ロール状の基板にパターニングしながら金属層を継続してマスク蒸着する。
【解決手段】 本発明のある態様において、基板１０を長手方向に送るための基板給送機構１２０と、基板１０の一方の面に向かう位置に配置される蒸着源１３０と、メタルマスク１２を長手方向に送るためのマスク移動機構１４０とを備える薄膜を形成する真空蒸着装置１００が提供される。マスク移動機構１４０は、帯状のメタルマスク１２の展開された部分を、基板１０と蒸着源１３０との間の空間を仕切るように渡して基板１から離間した状態を保って送る。 （もっと読む）

【課題】本発明は、輝度を低下させずに高精細化を図ることを目的とする。
【解決手段】複数の画素電極２４を有する回路基板１０に、複数の貫通穴４０を有する蒸着マスク３８を使用した蒸着によって、有機材料からなる複数の発光層３０を形成する。蒸着マスク３８は、回路基板１０に対向するように配置される第１面４２と、第１面４２とは反対側の第２面４４と、を有する。第１面４２及び第２面４４を貫通するように複数の貫通穴４０が形成されている。隣同士の貫通穴４０に連通するように第１面４２に凹部５２が形成され、凹部５２に対向するようにリブ５４が形成されている。 （もっと読む）

【課題】
ストライプパターンの開孔部を有するマスクにおいて、マスク強度の向上を図り、かつ、マスク伸張後のピッチ精度を高精度化することが可能な有機エレクトロルミネッセンス用マスクを提供すること。
【解決手段】
ストライプパターンの開孔部を有する有機エレクトロルミネッセンス用マスクにおいて、該開孔部の幅Ｗに対する、該開孔部の端部からの距離Ｌは、次式を満足し、
１／２Ｗ≦Ｌ≦２０Ｗ
該開孔部の端部から距離Ｌまでの領域では、該開孔部の断面形状は、それ以外の領域の開孔部の断面形状と比較し、開孔部の断面積が小さくなっていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】パターニングの精度を向上させるための真空蒸着用マスクユニット及びこれを備えた真空成膜装置を提供する。
【解決手段】金属フレーム２と、金属フレームに固定され、開口パターンが形成されている金属箔４と、から構成され、金属フレームの内縁側に、金属箔を介して被成膜基板（基板１）を支持する基板受け部３を備え、基板受け部が、前記被成膜基板の中央部に向かって凹形状に傾いているテーパー形状であることを特徴とする、真空成膜用マスクユニットと、前記被成膜基板を前記真空成膜用マスクユニットに備える金属箔上に密着させるための基板押え機構６と、を備えることを特徴とする、真空成膜装置１０。 （もっと読む）

【課題】基板の外周部の配線回路の損傷・破壊を抑えることが可能な成膜用マスクおよびこれを用いた表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】枠体４０は、開口４１の周囲に、基板１１との対向面４０Ａから厚み方向の一部に段差４２を有している。この段差４２の端４２Ａは、基板１１の外周部１１０Ａの配線回路１１０Ｂ（配線回路露出領域１１０Ｃ）の端１１０Ｄよりも外側に位置している。基板１１と枠体４０とを密着させる際に、外周部１１０Ａの配線回路１１０Ｂと枠体４０との間に、段差４２によるすきまＧが生じる。よって、外周部１１０Ａの配線回路１１０Ｂと枠体４０との間に異物が挟みこまれてしまうことが回避される。また、重力で基板１１がたわんでいても、基板１１が開口４１のエッジ４１Ａに最初に接触してしまうことが回避される。よって、外周部１１０Ａの配線回路１１０Ｂの損傷・破壊が抑えられる。 （もっと読む）

【課題】第１および第２のメタルマスクを含むメタルマスクセットを用いて基板に所定の配線パターンを成膜する際、配線パターンの寸法精度を向上させる。
【解決手段】例えば、半導体基板１０２に所定の配線パターンを成膜する際に用いられる複数のメタルマスクを含むメタルマスクセット１００において、配線パターンの一部領域に対応した形状の開口部３４０を有する第１のメタルマスク１１０（チップ用マスク３２０）と、配線パターンの他の一部領域に対応した形状の開口部３５０を有し、さらに第１のメタルマスク１１０の開口部３４０を覆う形状の空間部３６０を有する第２のメタルマスク１２０（チップ用マスク３３０）とを備え、半導体基板１０２に順次設置される第１および第２のメタルマスク１１０、１２０を介してそれぞれ第１および第２の金属が基板に順次成膜されることにより基板に配線パターンが成膜される。 （もっと読む）