【課題】 簡易な構成で、異常放電などを引き起こすことなく、１枚のガラス基板から複数枚のパネルを安定に調製することを可能にする、基板へのスパッタ薄膜の形成方法および当該方法を実施するための搬送キャリアを提供する。
【解決手段】 搬送キャリアを、四角形状の枠体と、枠体の対向する枠辺間に弾性部材を介して連結されたテンションが負荷された薄体状部材とから構成し、薄体状部材の厚みを０．１〜０．８ｍｍとし、その熱膨張率を基板となるガラス基板の熱膨張率の±２０％とし、枠体と基板とが接することがないように薄体状部材のみで基板の載置面を構成して、個々の薄体状部材に、基板が搬送キャリアに載置されている状態を形成するための保持部材としての機能、および、基板における２つ以上のスパッタ薄膜形成領域を画定するためのマスク部材としての機能を担わせる。 （もっと読む）

【課題】マスク母材にダメージを与えることなくデポジション膜の洗浄除去が可能であり、洗浄作業性にも優れた成膜用マスクを提供する。
【解決手段】成膜用マスク１１は、基板Ｗの成膜面に対向配置され成膜領域を制限する一つの開口部２０が形成されたマスク本体２と、このマスク本体の表面の開口部の外側を被覆するカバー部材とを備え、このカバー部材３は、マスク本体に対して着脱自在に取り付けられた複数のカバー分割片３Ａ、３Ｂ、３Ｃ、３Ｄの集合体で構成されている。マスク本体の表面の所定領域をカバー部材で被覆することにより、マスク本体へのデポジション膜の付着を抑え、マスク洗浄時におけるマスク母材のダメージを防ぐ。カバー部材に付着したデポジション膜の除去は、個々のカバー分割片に個片化した状態で行うことにより、洗浄作業が簡単になり、マスクの大型化にも容易に対応できるようになる。 （もっと読む）

【課題】大型基板に対応可能な蒸着マスク、蒸着装置、蒸着方法を提供する。
【解決手段】
蒸着マスク１０上で開口部１１をその中心間距離が基板５０のピクセル５１ａ₁、５１ａ₂の中心間距離の２倍になるように形成する。この蒸着マスク１０を基板５０上に配置し、各ピクセル５１ａ₁、５１ａ₂、５１ａ_xの上方に開口部１１と遮蔽部１９が交互に配置されるように位置合わせした状態で、開口部１１と対面するピクセル５１ａ₁を成膜し、次いで蒸着マスク１０をピクセル５１ａ₁、５１ａ₂の中心間距離だけ移動させ、移動前に遮蔽部１９と対面していた未成膜のピクセル５１ａ₂、５１ａ_xの上方に開口部１１を位置させ、その状態で未成膜のピクセル５１ａ₂、５１ａ_xに薄膜を成膜する。開口部１１の間隔が従来より広いため、開口部１１形成の際に蒸着マスク１０が破損する虞を従来より低減でき、大型の蒸着マスク１０の製作が容易になる。 （もっと読む）

【課題】大型基板の量産工程に容易に適用され、製造収率が向上した薄膜蒸着装置、それを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法及び有機発光ディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】蒸着物質を放射する蒸着源１１０と、蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って、複数個の蒸着源ノズル１２１が形成される蒸着源ノズル部と、蒸着源ノズル部と対向するように配され、一側には、共通蒸着領域が形成され、他側には、第１方向に沿って互いに長さが異なる複数個のパターニングスリットが形成されるパターニングスリット・シート１５０と、蒸着源ノズル部とパターニングスリット・シートとの間に、第１方向に沿って配され、蒸着源ノズル部とパターニングスリット・シートとの間の空間を、複数個の蒸着空間に区画する複数枚の遮断板を具備する遮断板アセンブリ１３０と、を含み、薄膜蒸着装置１００と基板６００は、いずれかが一側が他側に対して相対移動する。 （もっと読む）

【課題】パターニングの精度を向上させるための真空蒸着用マスク及びこれを備えた真空成膜装置を提供する。
【解決手段】金属フレーム２と、開口パターンが形成され、金属フレーム２に固定される金属箔４と、から構成され、金属フレーム３のうち、金属箔３を介して被成膜基板（基板１）を支持する領域の少なくとも一部に弾性体３が設置されていることを特徴とする、真空成膜用マスク１１及びこのマスク１１を備えた真空成膜装置１０。 （もっと読む）

【課題】金属薄板に多数のストライプ状の開口部を多段エッチングにて形成する際に、ストライプ状の端部近傍の開口部の幅が広がることなく、良好な寸法精度のエッチング製品を提供する。
【解決手段】金属薄板１の第一面に多数のストライプ状に形成された小孔パターン３ａを有し、前記第一面の他面には、前記第一面の小孔パターンと対向して位置合わせ形成されたストライプ状の第一大孔パターン３ｂを有し、前記ストライプ状の大孔パターン端部の外側には延長して形成された非貫通の大孔パターンを備えており、前記小孔パターンと第一大孔パターンは貫通したストライプ状の開口部Ｋを形成している。 （もっと読む）

【課題】蒸着装置において、基板上に均一な無機配向膜を備えることにより、高品位な画像表示を行う電気光学装置を形成する。
【解決手段】蒸着装置は、基板（２１０）に蒸着源（１１０）から蒸発される蒸発物質を蒸着させる蒸着手段と、真空槽（１０１）と、所定の角度で基板を保持する保持手段（９０１）と、所定の角度を第一及び第２の方向に沿って変更可能であり、第１の方向に沿って移動可能なヒンジ部（９０２）と、第２の方向に沿って延在する開口部（９０５）を有するスリット板（９０４）と、第２の方向に沿って分割された複数の遮蔽板（９０６ａ、９０６ｂ及び９０６ｃ）から構成されており、遮蔽板の各々が、遮蔽状態と解放状態とを個別に切り替え可能なシールド板（９０６）とを備える。 （もっと読む）

【課題】所定パターンに形成された複数のスリットを含むマスク組立体を用いて蒸発源から放射される蒸発物質を選択的に基板に蒸着する蒸着装置において、上記蒸発源のノズル構造を変更してシャドー効果を最小化する蒸発源及びそれを用いた蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明の蒸発源は、一側が開口され、蒸発物質が保存されるるつぼと、上記るつぼの開口側に位置し、内壁の一部領域が傾斜された１つまたは複数のノズルを含むノズル部と、加熱部と、るつぼ、ノズル部及び加熱部を収納するためのハウジングとを含み、ノズル部の最大放射角は６０゜未満であることを特徴とする。また、本発明の蒸着装置は、工程チャンバと、内壁の一部領域が傾斜された１つまたは複数のノズルを含む蒸発源と、基板ホルダと、側面が表面を基準に第１傾斜角度をなす複数のパターンが形成されたマスクとを含み、蒸発源の最大放射角は上記第１傾斜角度以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】異物が流出することによる不都合を防止した蒸着坩堝と、これを備えた蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着材料３を収容する坩堝本体８と、坩堝本体８の開口部８ａに着脱可能に被着された、蓋板部１２と筒部１３とを有する蓋９と、を備えた蒸着坩堝４である。蓋９には、蓋板部１２に蒸着材料３の昇華物又は気化物を通過させる流出口１２ａが設けられている。坩堝本体８の開口部８ａと流出口１２ａとの間には、蒸着材料３の昇華物又は気化物の流路の一部を遮断する邪魔板１４が設けられている。 （もっと読む）

【課題】工程数の少ない手法でギャップ間距離が小さく、さらに様々な電極形状が調製可能であるナノギャップ電極の製造方法を得る。
【解決手段】先端が９０度又は鋭角である角を備えた電極材料を基板上に形成し、この電極材料にレーザー光を照射して、鋭角の角の一部を切り離して微小電極を形成すると共に該微小電極と残余の電極本体との間にナノスケールのギャップを形成するナノギャップ電極の製造方法。基板上に１０〜１００μｍのサイズのポリマー又はセラミックスビーズを均一に展開し、この上に電極材料をＰＶＤ法又はＣＶＤ法により被覆し、このビーズを除去することにより基板上に三角錐の電極材料を残存させ、この三角錐の電極材料にレーザー光を照射し、鋭角の角の一部を切り離して微小電極を形成し、該微小電極と残余の電極本体との間にナノスケールのギャップを形成するナノギャップ電極の製造方法。 （もっと読む）

【課題】マスクを大型化する場合に、補助フレームによるシャドー現象の生じない蒸着用マスク、その製造する方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】第１分割マスク１７０ａ及び第２分割マスク１７０ｂを含む蒸着用マスクにおいて、第１分割マスク１７０ａ及び第２分割マスク１７０ｂは直接溶接され、各分割マスクの相互に対向する側面に溶接面が形成されることを特徴とする。本発明は補助フレームを用いず、分割マスクを直接溶接するため、従来のようなシャドー現象が発生せず、破断強度においても好適な溶接品質を確保することができる蒸着用マスクが提供される。 （もっと読む）

【課題】蒸着パターンの位置ずれを抑え所望の位置に精度よく蒸着を行うことができ、コンパクトで使用しやすい蒸着用マスクを提供する。
【解決手段】被処理基板上に蒸着源から蒸発した蒸着材料を成膜する蒸着パターンに対応するマスク開口部２２が形成されたチップ２０と、チップ２０を保持する支持基板３０とを有し、チップ２０の一方面を被処理基板に重ね合わせた状態で蒸着に用いられる蒸着用マスク１において、熱遮蔽板４０がマスク開口部２２を遮らないように断熱部材４１を介して支持基板３０の蒸着源の側に配設されている。 （もっと読む）

【課題】膜厚分布の均一性の高い表示装置の作製方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る表示装置の作製方法は、基板１０１を蒸着室に搬送し、蒸着源１０４から薄膜材料を気化させ、前記薄膜材料を気化させている間、前記基板に対する前記蒸着源の位置を移動させることにより、前記基板上に薄膜を成膜することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】蒸着パターンの位置ずれを抑え所望の位置に精度よく蒸着を行うことができる成膜用マスクを提供する。
【解決手段】被処理基板上に蒸着源から蒸発した蒸着材料を成膜する蒸着パターンに対応するマスク開口部が形成されたチップと、チップを保持する支持基板とを有し、チップの一方面を被処理基板に重ね合わせた状態で蒸着に用いられる成膜用マスクにおいて、断熱層４１が支持基板３０の蒸着源の側に形成され、熱遮蔽層４２が断熱層４１の露出する部位全体を覆うように蒸着源の側の支持基板３０の全体に亘って形成されている。 （もっと読む）

【課題】薄膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】 基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、蒸着物質を放射する蒸着源と、蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、蒸着源ノズル部と対向して配され、第１方向に沿って複数のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、を備え、パターニングスリットは、それぞれ複数のサブスリットを備えることを特徴とする薄膜蒸着装置である。 （もっと読む）

【課題】 微細な蒸着パターンに対応することができ、また、作業性を向上させることが可能な蒸着用マスクを提供する。
【解決手段】 蒸着源３から蒸発した蒸着材料４を被蒸着部材（透光性基板）１に所定のパターンで蒸着させるための開口部２ａを有する１層の金属板からなる蒸着用マスク２である。開口部２ａは、大きさの異なる被蒸着部材側開口部２ａ１と蒸着源側開口部２ａ２とからなり、蒸着源側開口部２ａ２は被蒸着部材側開口部２ａ１より大きく形成されてなることを特徴とする蒸着用マスクである。前記金属板の両面からエッチング処理を行うことによって被蒸着部材側開口部２ａ１及び蒸着源側開口部２ａ２を形成してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、マスク組立体、その製造方法及びこれを用いた平板表示装置用蒸着装置に関し、蒸着工程時に工程チャンバの内部温度により所定パターンで形成される開口部の位置または形態が変化することを防止して基板上に高精細パターンが安定的に蒸着されるようにするマスク組立体、その製造方法及びこれを用いた平板表示装置用蒸着装置を提供する。
【解決手段】マスク組立体は、複数の第１開口部が形成されるオープンマスクと、前記オープンマスクに接合され、前記第１開口部内側に位置する複数の第２開口部が形成されるパターンマスクとを含み、前記オープンマスクは前記パターンマスクに比べて相対的に小さい熱膨脹係数を有する物質で形成されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、歪みが生じにくい蒸着マスクを提供することを目的とする。
【解決手段】複数の開孔部４２は、第１方向Ｄ_１１に延びて第２方向Ｄ_２２に並ぶ複数の第１帯状領域５２の両側辺に一対の第１辺４４を一致させて、それぞれの第１帯状領域５２で隣同士の開孔部４２の間隔Ｉ_１がそれぞれの開孔部４２の第１方向Ｄ_１１の幅Ｗ_１と等しくなるように配列される。複数の開孔部４２は、第２方向Ｄ_２２に延びて第１方向Ｄ_１１に並ぶ複数の第２帯状領域５６の両側辺に一対の第２辺４６を一致させて、それぞれの第２帯状領域５６で隣同士の開孔部４２の間隔Ｉ_２がそれぞれの開孔部４２の第２方向Ｄ_２２の長さＬの２倍になるように配列される。第２方向Ｄ_２２に隣同士の一対の第１帯状領域５２の間には、開孔部４２の第２方向Ｄ_２の長さＬの０．５倍の幅Ｗ_２を有して第１方向Ｄ_１１の長さを有するリブ部５４が形成される。 （もっと読む）

【課題】大型基板の量産工程に容易に適用でき、製造収率が向上した薄膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、蒸着物質を放射する蒸着源と、蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、蒸着源ノズル部と対向して配され、第１方向に沿って複数のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、蒸着源ノズル部とパターニングスリットシートとの間に第１方向に沿って配されて、蒸着源ノズル部とパターニングスリットシートとの間の空間を複数の蒸着空間に区切る複数の遮断板を備える遮断板アセンブリと、基板と蒸着源との間に配される遮断部材と、を備え、薄膜蒸着装置は、基板と所定程度離隔するように形成され、基板は、薄膜蒸着装置に対して相対的に移動自在に形成され、遮断部材は、基板の少なくとも一部を遮蔽するように基板と共に移動することを特徴とする薄膜蒸着装置。 （もっと読む）

蒸着源、処理ドラム、駆動ローラー、およびシャドウマスクを備える、連続ロールツーロール蒸気ベース蒸着プロセスにおいてパターン形成コーティングをＯＬＥＤ基材に施すための装置が形成され、シャドウマスクは、基材上へのコーティングの蒸着を選択的に妨げるマスクライン特徴体を備える。コーティングを施すための方法も提示される。 （もっと読む）