【課題】薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法を提供する。
【解決手段】大型基板の量産工程に容易に適用でき、製造収率が向上した薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法。蒸着源１１０から放出された蒸着物質１１５を、蒸着源ノズル部１２０及びパターニングスリットシート１５０を通過させて基板４００に所望のパターンで蒸着させる。遮断板アセンブリ１３０とパターニングスリットシート１５０との温度が十分に低ければ、所望しない方向に放射される蒸着物質１１５は、いずれも遮断板アセンブリ１３０面に吸着されて高真空を維持できるため、蒸着物質間の衝突が発生せずに、蒸着物質の直進性を確保することができる。 （もっと読む）

【課題】薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】大型基板の量産工程にさらに適し、高精細のパターニングを可能にするためのものであり、被蒸着用基板を静電チャックに固定させるローディング部；真空に維持されるチャンバと、チャンバの内部に配され、基板と所定程度離隔されて静電チャックに固定された基板に薄膜を蒸着する薄膜蒸着アセンブリを含む蒸着部；静電チャックから、蒸着が完了した基板を分離させるアンローディング部；基板が固定された静電チャックを、ローディング部、蒸着部及びアンローディング部に順次移動させる第１循環部；アンローディング部から、基板と分離された静電チャックを、ローディング部に送り戻す第２循環部；を含み、第１循環部は、蒸着部を通過するとき、チャンバ内部に貫通するように備わった薄膜蒸着装置、及びこれによって製造された有機発光表示装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】高い精度で金属を加工する。
【解決手段】金属板２１０の両面にフォトレジスト液を塗布し、フォトレジスト膜２２０及び２３０を形成し（ステップＳ１０２）、引き続き、フォトレジスト膜２２０及び２３０の露光と現像を行い、孔を開ける部分のフォトレジスト膜２２０及び２３０を残すように、他のフォトレジスト膜２２０及び２３０を除去する（ステップＳ１０３）。次に、フォトレジスト膜２２０及び２３０が形成された金属板２１０の両面に、金属薄膜２４０及び２５０を形成する（ステップＳ１０４）。引き続き、フォトレジスト膜２２０及び２３０を除去すると同時に、フォトレジスト膜２２０及び２３０の上に形成された金属薄膜２４５及び２５５を除去する（ステップＳ１０５）。最後に、この金属板２１０をエッチング液に浸し、エッチングを行い、金属板２１０に高精度の孔を形成する（ステップＳ１０６）。 （もっと読む）

【課題】中間担体１を使用して、材料６を基材７上に局所的に堆積させるための方法及び装置を提供すること。
【解決手段】中間担体１からの材料６の局所的堆積が、放射線によるエネルギー印加によって行われる。中間担体１は微細構造を備え、この微細構造によって材料６が中間担体１から基材７上に微細構造化されて転写される。 （もっと読む）

【課題】高速かつ簡単で、精度の良いマスクの位置合わせが可能なマイクロコンポーネントの製造方法を提供する。
【解決手段】例えばマイクロバッテリであるマイクロコンポーネントは、基板上に少なくとも２つの重ねられた層を持つ積層体を有し、温度の影響下で拡張可能な単一のスチールマスク６を用いて形成される。マスク６は、少なくとも１つの中心から外れた開口７を有する。マスクが第１の温度（Ｔ１）の時、マスク６ａの開口７ａを介して第１の層が堆積される。マスクが、前記第１の温度（Ｔ１）より高い第２の温度（Ｔ２）の時、マスク６ｂの開口７ｂを介して第２の層が堆積される。最後に、マスクが前記第２の温度（Ｔ２）より高い第３の温度（Ｔ３）の時、マスク６ｃの開口７ｃを介して第３の層が堆積される。 （もっと読む）

【課題】低硬度の材料層に蒸着マスクを密着させると、硬度差により傷が発生し、完成後の有機ＥＬ装置の表示品質を低下させる。このような既形成層に与える損傷を低減する蒸着マスクを提供する。
【解決手段】被蒸着基板に対向する第１表面と蒸着源に対向する第２表面とを有し、被蒸着基板のパターン形成領域に対応する領域である第１の領域に形成された開口部２２と、開口部２２の周辺領域の第１表面側に形成されたスペーサー３５と、を有する蒸着マスクとする。 （もっと読む）

【課題】熱の伝達効率が悪いテンションマスクを効率的に冷却し、高精細なパターン形成を可能にする。
【解決手段】マスク箔を用いるテンションマスクであるマスク５を介して基板４に成膜材料を付着させることによりパターン形成を行う蒸着方法において、蒸着後のマスクを冷却することなく再使用可能であるか否かを判定する工程を設ける。再使用可能である限り複数枚の基板に対して同じマスクを繰り返し使用し、再使用不可と判定した場合は、冷却ユニット１４を有するマスクストック室２に搬送し、冷却した後に蒸着室１に戻して再使用する。 （もっと読む）

【課題】
スパッタリング法を用い、大面積基材に対して、均質かつ高精度な、所定の膜厚分布の光学薄膜を得ることができる成膜装置を提供する。
【解決手段】
スパッタリング法を用いて基材に薄膜を形成する成膜装置において、スパッタ粒子を放出するターゲットの中心を貫く法線と前記基材の表面とが直交するように前記ターゲットと前記基材とを配置し、前記ターゲットと前記基材の表面との距離を一定にしたまま、前記ターゲットと前記基材とを相対的に移動させて、前記基材に薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】薄膜蒸着用マスクフレーム組立体、その製造方法及び有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】開口部及び支持部を備えるフレームと、開口部に対応して位置する蒸着領域を備えるマスクと、を備え、マスクは、蒸着領域が備えられ、蒸着領域の外郭に配置された縁部を備える第１層と、互いに対向した第１面及び第２面を有し、第１面は、第１層に対向して少なくとも第１面の一部が縁部に接するように備えられ、第２面は、支持部に溶接された第２層と、を備える薄膜蒸着用マスクフレーム組立体、その製造方法及び有機発光表示装置の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】光電変換素子の構成膜等の成膜に好ましく適用でき、複数のライン状パターンを有するパターン膜を直接パターン成膜することが可能な成膜方法を提供する。
【解決手段】ライン状パターンの幅に合わせた間隔で配列された複数のワイヤを有するマスクＭを用いて、物理気相成長（ＰＶＤ）法によりパターン成膜を行う。若しくは、１本のワイヤが折り曲げられて形成され、ライン状パターンの幅に合わせた間隔で配列された複数のワイヤ部を有するマスクを用いて、ＰＶＤ法によりパターン成膜を行う。 （もっと読む）

【課題】マスク本体と枠体との間の接合強度を向上させて、皺の発生がなく蒸着マスクの取り扱いを容易にするとともに、加工工程の短縮化を図れる蒸着マスクを提供する。
【解決手段】多数の蒸着通過孔５からなる蒸着パターンがパターン領域４内に形成された薄板状のマスク本体２と、マスク本体のほぼ全面に重合され、マスク本体のパターン領域に対応する位置に該パターン領域よりも大きい寸法の開口６が設けられ、全面に接合用小孔が多数設けられた低熱膨張係数の材質からなる補強用枠体３と、補強用枠体に設けられた多数の接合用小孔を利用して補強用枠体の上面部及び側面部とマスク本体の上面部にめっきにより形成され、マスク本体と補強用枠体との間を一体的に接合する金属めっき層とを備える。 （もっと読む）

【課題】表示品質を向上させることができる成膜用マスク、電気光学装置の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法を提供する。
【解決手段】複数のサブ画素と平面的に重なる第１領域の全体が開口する第１開口孔７２ａが設けられた第１マスク７２と、第１マスク７２に積層され、第１領域において部分的な領域である第２領域が開口する第２開口孔７３ａが設けられた第２マスク７３と、を有する。 （もっと読む）

【課題】単繊維の糸を使用した微細なピッチを有する平行線型マスクにおいて、ストライプの幅、すなわち、単繊維糸の平行ピッチのバラツキが極めて少なく平行ピッチが高精度に保持された平行線型マスクを提供する。
【解決手段】開口部２を有する平板状基体１と、平板状基体の非開口部に形成された樹脂層３と、樹脂層に固定された単繊維５と、を備え、樹脂層は、所定のピッチで設けられ、単繊維がはまり込む溝部４を有し、単繊維は、前記溝部に接着されたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラスを支持基板として個別マスクを複数配置することで、成膜用マスクを大面積化することが可能となるが、蒸着工程後に成膜用マスクと被成膜基板とを離す際に、個別マスクと被成膜基板との間で剥離帯電が起きるため、個別マスクと被成膜基板との間で放電が発生し、被成膜基板中に備えられているＴＦＴや、有機ＥＬ装置の発光部が破壊され、被成膜基板の特性が劣化するという課題がある。
【解決手段】成膜用マスク１００は、個別マスク１０１、支持基板１０２、フレーム１０３、導電性領域１０４、導電性接着剤部１０５を備えている。剥離帯電による静電気により個別マスク１０１に蓄積された電荷は、導電性接着剤部１０５、導電性領域１０４、フレーム１０３を介して接地され、被成膜基板の破損が防止される。 （もっと読む）

【課題】異物および取り扱いによる被成膜基板の蒸着膜あるいは表面の損傷を発生させることのない信頼性を向上する蒸着マスクを提供する。
【解決手段】蒸着マスク２は、被成膜基板４上に蒸着するパターンに対応する開口部１２が形成された蒸着マスクであって、開口部１２は、被成膜基板４に対向する側とは反対側のマスク面の開口面積Ｓ１に比べて被成膜基板４に対向する側のマスク面の開口面積Ｓ２が大きくなるように形成されている。 （もっと読む）

【課題】 従来の蒸着用マスクに比較して蒸着パターンの精細化をより推進することができる蒸着用マスクを提供すること。
【解決手段】 本発明の蒸着用マスクは、金属箔からなる第１の層と、この金属箔とエッチング特性が異なる成分の金属箔からなる膜厚０．０１μｍ〜１μｍの第２の層との積層構造を有し、第２の層に蒸着用のマスクパターンとなる所定寸法の開口部が形成され、第２の層に形成された開口部に対応する第１の層の部分が、第２の層に形成された開口部よりも表面に向かって幅広に穿孔されて貫通孔が設けられている、第１の層の表面が蒸着源に面するようにして用いる、蒸着材料を所定のパターンで被蒸着基板の表面に蒸着させるための蒸着用マスクである。 （もっと読む）

【課題】蒸着用マスクを提供する。
【解決手段】本発明は蒸着用マスクに関し、マスクフレームとマスクシートとの間に異物が入ることを防止して、マスクと蒸着基材との間に隙間が生じることを防ぎ、マスクと蒸着基材との密着性を向上させることができ、精密なパターンの蒸着が可能な蒸着用マスクに関する。
本発明は、マスクシート、及び該マスクシートの端部が接触固定されるフレームを含む蒸着マスクであって、前記フレームにおいて、前記マスクシートが固定される面の内側端部が、前記マスクシートが位置する側と反対方向に傾斜又は段差を有することを特徴とする蒸着用マスクを提供する。 （もっと読む）

【課題】可視光領域にて高い偏光度、ｐ偏光透過率、ｓ偏光反射率を示し、光学特性の角度依存性や波長依存性が低いワイヤグリッド型偏光子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】底部から頂部に向かうにしたがって幅がしだいに狭くなる複数の凸条１２が、凸条１２間に形成される平坦部１３を介して互いに平行にかつ所定のピッチＰｐで表面に形成された光透過性基板１４と、凸条１２の第１の側面１６の全面およびこれに隣接する平坦部１３の一部を被覆し、かつ凸条１２の第２の側面１８を被覆しないまたは第２の側面１８の一部を被覆する金属層２０とを有するワイヤグリッド型偏光子１０；凸条１２の長さ方向に対して略直交し、かつ凸条１２の高さ方向に対して第１の側面１６の側に２５〜４０゜の角度をなす方向から金属または金属化合物を、蒸着量が４０〜６０ｎｍとなる条件で蒸着して金属層２０を形成する製造方法。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料を通過させるための通過孔を精度良く形成することが可能な蒸着用マスクおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】蒸着用マスク１の製造方法では、金属薄膜１０の両面に、反射防止膜３０Ａ，３０Ｂを介してフォトレジスト膜１２ａ，１２ｂを形成したのち露光することにより、フォトレジスト膜１２ａ，１２ｂに通過孔１０Ａ−１のパターンを形成する。露光時に、フォトレジスト膜１２ａ，１２ｂを透過した照射光が金属薄膜１０の表面もしくは裏面に到達する前に、反射防止膜３０Ａ，３０Ｂにおいて吸収され、ハレーションの発生が抑制される。 （もっと読む）

【課題】蒸着装置用マスク密着手段及びそれを用いた蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明は、磁性体を含むマスク密着手段を用いて基板とマスク組立体とを密着させて蒸着精度を向上させる場合、前記マスク密着手段の磁力によってマスク組立体のスリットが変形することを防止できる蒸着装置用マスク密着手段及びそれを用いた蒸着装置に関する。 （もっと読む）