Fターム[4K029HA03]の内容
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Fターム[4K029HA03]に分類される特許
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マスク組立体及びこれを利用した平板表示装置用蒸着装置
【課題】蒸着工程時基板の重量によりマスク組立体のパターンが変形されることを防止して、蒸着精密度を向上させることができるマスク組立体及びこれを利用した平板表示装置用蒸着装置を提供する。
【解決手段】開口部120及び開口部を囲んだフレーム110を含むフレームマスク100と;一つまたは複数のパターンが形成されるパターン部及び引張されてフレームと接合(溶接、半田付け、ロウ付け等)される接合部を含むパターンマスク200;及び開口部を横切って、パターンマスクと接合(溶接、半田付け、ロウ付け等)される支持台300を含むマスク組立体に関する。チャンバーと;チャンバーの下側に位置する蒸着源;及び蒸着源上に位置し、基板を支持するためのマスク組立体を含むことを特徴とする平板表示装置用蒸着装置に関する。
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マスクユニットおよびマスクユニットを有する蒸着装置
【課題】薄膜化された基板を用いる場合でも、マスクのパターンが正確に基板上に形成できる、マスクユニット、およびマスクユニットを有する蒸着装置を提供する。
【解決手段】側面、開口部を有する上面、および底面を有し、上面に基板4を載置する基板置き台8と、基板置き台の中に配置され、上面に載置された基板4を開口部を介して支える基板押さえ板7と、第1マスク層1と第2マスク層2の積層構造を有し、開口パターン10が設けられた蒸着マスク3であって、基板に接する第2マスク層の材料の熱膨張係数が、第1マスク層の材料の熱膨張係数より大きい蒸着マスクと、基板置き台の上面に、基板と蒸着マスクを載置した状態で固定する固定具9とを含み、蒸着マスクの開口パターンを通して、基板上にパターンを形成するためのマスクユニット100であって、蒸着マスクは蒸着中に加熱されて変形し、基板と密着する。
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蒸着装置及び有機EL表示装置
【課題】シャドー現象を抑制して有機EL表示装置の画素領域を高精細に形成することが可能な蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着装置は、蒸着用の有機物を飛出する蒸着源と、被蒸着基板を搬送する搬送手段と、該搬送手段によって搬送される被蒸着基板を覆うと共にその被蒸着基板と共に搬送されるように設けられ且つ蒸着用の開口部が形成された蒸着マスクと、を備え、該蒸着源からの有機物を、該搬送手段によって搬送される被蒸着基板に、該蒸着マスクの開口部を介して蒸着させるように構成されている。上記蒸着マスクは、開口部における上記搬送手段による搬送方向に直交する方向の蒸着源位置に対する内側内壁が、蒸着源側から被蒸着基板側に向かうマスク厚さ方向において、内側から外側に向かう方向に傾斜した傾斜面に形成されている。
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成膜装置、成膜方法
【課題】高密度な有機薄膜をマスク成膜で成膜する
【解決手段】本発明に用いるマスク70は、貫通孔72の内壁面が傾斜し、貫通孔72は基板7側程狭く、放出装置50側程広くなっている。従って、マスク本体71の厚さが50μm以上200μm以下と厚い場合であっても、貫通孔72の底面74縁部分に斜めに入射する蒸気も基板7に到達可能であり、膜厚均一な有機薄膜8が形成される。マスク本体71が厚いため、マスク70は変形し難く、洗浄等によって再利用が可能であり、成膜精度も落ちない。
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蒸着用マスク
【課題】洗浄液や異物の残留を抑えることが可能な蒸着用マスクを提供する。
【解決手段】枠体40に、マスク本体50と対向する面に、開口41に沿って段差部42を設け、この段差部42により、枠体40およびマスク本体50の間に隙間Gを形成する。隙間Gには、段差部42と同じ高さの間隙保持部43を点在させる。蒸着用マスク1を洗浄する際、洗浄液は隙間Gを流れ、隙間Gまたは貫通孔45から排出される。よって、洗浄液がリンス液に置換されずにマスク本体50と枠体40との間に残ってしまい、表面張力でマスク本体50と枠体40とが密着してしまうことによる精度悪化が抑えられる。また、残った洗浄液や異物などからのガス発生により、蒸着のための真空室内にフッ素系の材料などが混入し、有機発光素子の寿命に影響を及ぼすおそれも小さくなる。
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マスク位置合わせ装置及び基板処理装置
【課題】基板に対して正確にマスクの位置合わせを行え、基板ホルダや周辺部への膜の付着を確実に防止することが可能なマスク位置合わせ装置を提供する。
【解決手段】支柱軸方向の各回転軸を中心に回転する複数の支柱103と、複数の支柱103を同一方向、同一角度、同期して回転させる手段と、マスク701と基板Wの位置ずれ量を検出する手段とを具備する。また、複数の支柱103の上面部にそれぞれの支柱の回転軸から所定距離だけずらしてマスク701を支持する支持ピン101を配置する。そして、マスク701と基板Wとの位置ずれ量に基づき複数の支柱103を同一方向、同一角度、同期して回転させることによりマスク701を基板Wに対して位置合わせを行う。
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蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法ならびに有機エレクトロルミネッセンス装置
【課題】有機EL装置の有機発光層をマスク蒸着法で形成する際に、蒸着マスクに含まれるパターン形成層の厚さが厚い場合、蒸着マスクの影となる領域の蒸着層厚が薄くなり、均一な発光が得られなくなる。パターン形成層を薄くすると、パターン形成層の製造工程に含まれるパターン形成層の剥離工程で受ける応力により、蒸着マスクが破壊されてしまうという課題がある。
【解決手段】基板の表面側にDLCを用いたエッチングマスク層402を形成して後、スパッタ法とフォトリソグラフ・エッチングを用いてめっき用の下地層404を形成し、めっき法を用いてNiとCoの合金を含むパターン形成層405を形成する。この製造工程を用いることでパターン形成層の製造工程中に、パターン形成層の剥離工程を行う必要がなくなるため、数μm程度の厚さを有するパターン形成層405を形成することが可能となる。
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基板保持装置、基板処理装置、マスク、および画像表示装置の製造方法
【課題】永電磁石を有するキャリヤの状態を検知することにより確実な基板操作可能な基板保持装置を提供する。
【解決手段】基板保持装置は、磁性材料を含むマスク200を基板300を介して磁気吸引することによりマスクおよび基板を保持するキャリヤと、永電磁石101から出る磁界を検知する磁気センサ180によりキャリヤの状態を検知する検知部185とを備える。キャリヤは、永電磁石を含み、永電磁石は、極性が可変の極性可変磁石と、極性可変磁石の極性を変更するための磁界を発生するコイルと、極性が固定された極性固定磁石とを含み、キャリヤの状態は、コイルが発生する磁界によって極性可変磁石の極性を制御することによって、極性可変磁石および極性固定磁石が発生する磁界によってマスクおよび基板を保持する第1状態と、マスクおよび基板を保持しない第2状態とのいずれかに設定される。
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蒸着用マスク
【課題】弊害なくたわみを回避できる蒸着用マスクを提供する。
【解決手段】被蒸着体であるウェハと接するウェハ対向面と、該ウェハ対向面と反対の面であり蒸着源と対向する蒸着源対向面15と、該ウェハ対向面と該蒸着源対向面15とを貫通する開口を有するマスク開口領域14と、該開口の形成されない領域である無効領域12とを有する。そして、該蒸着源対向面15の該無効領域12に付加された線状の補強部材16を備えることを特徴とする。
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基板保持装置、キャリヤ、基板処理装置、および画像表示装置の製造方法
【課題】磁性材料を含むマスクを基板を介して磁気吸引することにより前記マスクと前記基板を保持するキャリヤの状態をより確実に制御する。
【解決手段】基板保持装置500は、キャリヤ410と、前記キャリヤ410を制御する制御部420とを備える。前記キャリヤ410は、永電磁石101と第1接点120aとを含む。前記永電磁石101の極性可変磁石の極性を制御することによって、前記マスク200および前記基板300を保持する第1状態と、保持しない第2状態とのいずれかに設定される。前記制御部420は、前記第1接点120aと前記第1接点120aに接触して永電磁石101のコイルに電流を供給するための第2接点121aとの接触状態を検知する検知部と、前記第1接点120aと前記第2接点121aとを介して前記コイルに電流を供給する電流供給部151とを含む。
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成膜用マスク及びそれを用いた成膜方法
【課題】成膜用マスクに光を照射して成膜用マスクの位置を認識する際、コントラストの高い画像が得られないためアライメントマーク位置の計測精度の再現性が安定せず、基板とマスクの位置合わせ誤差が生じる。
【解決手段】位置決め用開口106を有するマスクシート103と、マスクフレーム104とを有する成膜用マスク102において、前記位置決め用開口にマスクシートよりも反射率の高い反射部材を配置する。このような成膜用マスクの位置決め用開口に光を照射すると、前記マスクシートで反射される光と前記反射部材で反射される光と強度差が安定するため、再現性よく成膜用マスクの位置を計測することができる。
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蒸着マスク
【課題】ガラスを支持基板として個別マスクを複数配置することで、蒸着マスクを大面積化することが可能となるが、蒸着工程後に蒸着マスクと被蒸着基板とを離す際に、個別マスクと被蒸着基板との間で剥離帯電が起きるため、個別マスクと被蒸着基板との間で放電が発生し、被蒸着基板中に備えられているTFTや、有機EL装置の発光部が破壊され、被蒸着基板の特性が劣化するという課題がある。
【解決手段】蒸着マスク100は、個別マスク101、支持基板102、フレーム103、導電性領域104を備えている。支持基板102は、個別マスク101を支える機能を有しており、硬質ガラスにより構成されている。導電性領域104は、個別マスク101と電気的に接続され、支持基板102を介して導電性のフレーム103と電気的に接続されるよう配置され、剥離帯電による静電気を個別マスク101から被蒸着基板へと導き、被蒸着基板の破損を防止する。
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蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、電気光学装置の製造方法および電子機器
【課題】シリコン基板を用いた蒸着マスクでは、結晶異方性エッチングを用いて所望パターンの開口部等を形成する場合が多く、その開口部におけるコーナー部(角部位)がほぼ完全な直角または鋭角に形成される。そのためコーナー部に応力が非常に集中し易く、ひとたび力がかかると簡単に割れてしまうという課題があった。
【解決手段】シリコン基板を用いた蒸着マスクであって、該シリコン基板を貫通する開口部における角部位103に、最小パターン幅の5%以上であって30%以下となる長さを切り落とした面取り形状(C面形状)を持たせた。開口部の角部位103に面取り形状(C面形状)を持たせているため、かかる角部位103(コーナー部)に応力が集中することを緩和でき、機械的強度の高い蒸着マスクを提供することが可能となった。
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蒸着マスク
【課題】低コストであり大型化に対応可能な蒸着マスクを提供する。
【解決手段】本発明の蒸着マスクは、膜パターンが形成される被処理基板Wに当接させられて用いられる板状体の蒸着マスク1であって、膜材料を透過させるマスク開口121を有する板状の複数のマスク片11が、板状体の面方向に配列されて連結されてなり、複数のマスク片11の各々において被処理基板Wに当接させられる当接面111が、複数のマスク片11で略面一になっている。
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蒸着マスク
【課題】蒸着マスクの開口部に補強用の梁を形成することにより、精密なパターンの形成を実現すると共に、前記梁による蒸着材料の遮蔽領域を少なくし、蒸着パターンの膜厚均一性を最大限高めることができるようにした蒸着マスクを提供する。
【解決手段】本発明の蒸着マスク1は、被成膜基板10上に蒸着を用いて形成される薄膜パターン15に対応して、蒸着材料40を通過させるための開口部3が設けられ、開口部3が平行に所定の間隔をもって複数配列された薄板状の蒸着マスク1において、開口部3を横切る位置に複数の補強梁4a,4b,4c,4d,4eが形成され、複数の補強梁4a,4b,4c,4d,4eは、開口部3の中央部で相対的に密に形成され、開口部3の端部で相対的に粗に形成されていることを特徴とする。
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薄膜蒸着用マスク及びこれを用いた有機電界発光素子の製造方法
【課題】有機電界発光素子などに有機薄膜や導電層を形成するために用いられる薄膜蒸着用マスク及びこれを用いた有機電界発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】ベース部材11と;ベース部材を厚さ方向に貫通し、所定の長さを有して第1方向に延びる複数のスリット13と;複数のスリットのうち第1方向と所定の角度を有する第2方向において最外側に位置する最外郭のスリット14と、最外郭のスリットに隣接するリブ16との間に設けられるリブ支持部17と、を備える。
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蒸着装置及びこれを利用する蒸着方法
本発明による蒸着装置は反応空間を形成する工程チャンバと、工程チャンバに連結された移送チャンバと、工程チャンバ内に位置して基板を安置する基板安置手段と、基板安置手段と対向配置されて原料物質を保存する蒸着源と、移送チャンバに設置されて基板に蒸着された蒸着膜の実際の厚さを直接測定する厚さ測定手段を含む。
本発明は厚さ測定手段を備える蒸着装置を利用して薄膜が蒸着される基板に形成された蒸着膜の実際の厚さを直接測定してモニタリングできる。これに、基板に蒸着された蒸着膜の実際の厚さをリアルタイムにモニタリングして、前記蒸着膜の実際の厚さを制御する蒸着制御の厚さをリアルタイムに補正することで、蒸着膜の厚さを正確に制御することができる。これにより、基板に形成される素子の信頼性及び生産収率を進めることができる。
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蒸着装置
【課題】適切な位置に層を形成することができる蒸着装置を提供すること。
【解決手段】スクリーン7に蒸着により反射層を形成する蒸着装置1は、スクリーン7の光入射側には、互いに所定の角度で交差する水平面および傾斜面が、所定の方向に沿って交互に形成され、蒸着装置1は、スクリーン7を支持する冷却ロール33と、傾斜面に対向配置され、蒸着材料を蒸発させて水平面に反射層を形成する坩堝4とを備える。スクリーン7は、冷却ロール33により鉛直方向に沿って支持され、水平面は、鉛直方向先端側を向くように、傾斜面と鉛直方向に沿って交互に形成され、坩堝4は、冷却ロール33により支持されたスクリーン7の鉛直方向先端側に配置されている。これにより、蒸着材料がスクリーン7の傾斜面に対してのみ付着することができ、傾斜面にのみ反射層を形成できる。
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成膜用精密マスク、膜の形成方法、微細配線の形成方法、電気光学装置の製造方法
【課題】成膜用精密マスクを液状体に浸漬して乾燥するときにも、隣り合う梁が膠着せずに梁間の開口部の形状が維持される成膜用精密マスクを提供する。
【解決手段】単結晶シリコンからなる成膜用精密マスクにかかわり、所定の間隔をもって平行に配置され、1方向に長い開口部3を複数形成する第1の梁2と、第1の梁2と交差して配置される少なくとも一条の第2の梁4とを備え、第2の梁4によって区切られる開口部3の長さを開口長Lとするとき、複数の開口部3のうち開口長Lが最も長い開口部3の開口長Lが所定の値以下となるように第2の梁4が配置され、成膜用精密マスク1を液状体に浸漬して乾燥したときに、隣り合う第1の梁2が膠着しないように第2の梁4が配置されている。
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ワイヤグリッド偏光板の製造方法
【課題】ロール・ツー・ロール方式を用い、製品面内の光学特性にばらつきが小さいワイヤグリッド偏光板を得ることができるワイヤグリッド偏光板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のワイヤグリッド偏光板の製造方法は、表面に格子状凸部を有する基材フィルムがロール状に巻かれてなる原反ロールから、搬送用ロールを介して前記基材フィルムを巻取ロールに搬送する間に前記基材フィルム内の有効製品部に金属を被着するロール・ツー・ロール方式のワイヤグリッド偏光板の製造方法であって、前記基材フィルム内の有効製品部に金属が最も多く被着されている部分の金属被着量をdMAXとし、前記基材フィルム内の有効製品部に金属が最も少なく被着されている部分の金属被着量をdMINとしたときに、(dMAX−dMIN)/(dMAX+dMIN)で定義される数値δが、δ<0.15を満たすことを特徴とする。
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