【課題】成膜用精密マスクを液状体に浸漬して乾燥するときにも、隣り合う梁が膠着せずに梁間の開口部の形状が維持される成膜用精密マスクを提供する。
【解決手段】単結晶シリコンからなる成膜用精密マスクにかかわり、所定の間隔をもって平行に配置され、１方向に長い開口部３を複数形成する第１の梁２と、第１の梁２と交差して配置される少なくとも一条の第２の梁４とを備え、第２の梁４によって区切られる開口部３の長さを開口長Ｌとするとき、複数の開口部３のうち開口長Ｌが最も長い開口部３の開口長Ｌが所定の値以下となるように第２の梁４が配置され、成膜用精密マスク１を液状体に浸漬して乾燥したときに、隣り合う第１の梁２が膠着しないように第２の梁４が配置されている。 （もっと読む）

【課題】
ほぼ無限に存在する架線等の淡水と、海等の塩水との塩分濃度差を利用した発電システムにおいて、コンパクトなシステムで、大容量の電気エネルギーを取り出したり、任意の高電圧を容易に得られるようにする。
【解決手段】
淡水と塩水をそれぞれ水滴として落下させて空気の絶縁性を利用したり、絶縁体製弁体、弁座、弁箱を用いた弁を会在させたりして、給水路や排水路を介しての電気的短絡を防止し、単位起電力を発生する多数のセル間の電気的短絡を防止する構成を用いる等で解決する。 （もっと読む）

【課題】マグネトロンスパッタ法において短冊形ターゲットを使用して半導体ウエハにスパッタ成膜を効率的かつ均一に行えるようにする。
【解決手段】被成膜体の半導体ウエハをウエハ配置面Ｐ上の円形基準領域Ａにぴったり重ねて配置する。そして、円形基準領域Ａの中心Ａ_Oを通る法線を回転中心軸として半導体ウエハを所定の回転数で同軸回転させる。そうすると、半導体ウエハ表面の各部は、一回転毎に、半径Ｒ／２よりも内側のウエハ中心部は短冊形堆積領域Ｂ₁のみを通過する間に短冊形ターゲット１０(1)からのスパッタ粒子を浴び、半径Ｒ／２よりも外側のウエハ周辺部では両短冊形堆積領域Ｂ₁，Ｂ₂を通過する間に両短冊形ターゲット１０(1)，１０(2)からのスパッタ粒子を浴びるという形態のスパッタ成膜処理を受ける。 （もっと読む）

【課題】マスク交換の作業性を向上させる。
【解決手段】四角形のガラス基板３の４辺各々に対応する４つのマスク４が用意され、該４つのマスクは、分割された状態で成膜室１の内部に設置されている。そして、各マスク４を、ガラス基板３と同一平面上であってガラス基板３の各辺に対して垂直な方向において直線的に移動させると、分割された各マスク４が互いに接続し合って一つの集合体としてのマスクになる。このとき、ガラス基板３の全周縁が各マスク４で覆われる。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、このような実情に鑑み、従来より高精度の組成比変化にて、多元化合物を一
度の蒸着にて生成できる装置を提供することを目的とする。
【解決手段】
発明１の多元化合物作製装置は、一つの蒸着室内に、蒸着材料を蒸発させる材料蒸発機構と、前記材料蒸発機構からの蒸気により蒸着される基材を保持する基材保持部と、この基材保持部と前記材料蒸発機構との間に配置した蒸気通過用開口部を持つマスクと、このマスクを前記基材の蒸着面に沿って移動させるマスク移動機構とを有する多元化合物作製装置であって、前記マスクと基材に蒸着面との間隔を調整する間隔調整手段が設けてあることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】マスク組立体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】マスク組立体及びその製造方法に関し、マスクフレームにパターンマスクを引張溶接してマスク組立体を製造する場合、前記マスクフレームに溶接される前記パターンマスクの引張溶接部の構造を変更することで、前記マスクフレームとパターンマスクとを容易に溶接でき、前記パターンマスクのパターンを精密に整列させて、前記マスク組立体による歪不良率を最小化するマスク組立体及びその製造方法に関する。開口部及び支持台を含むマスクフレームと、マトリックス状に配列された複数のパターンを含むパターン部及び前記支持台に溶接するために前記パターン部から第１方向に延長し、前記第１方向に垂直である第２方向に互いに離隔されている複数の引張溶接部を含むパターンマスクとを有するマスク組立体に関する。 （もっと読む）

【課題】端部同士が接続された複数の薄膜パターンを形成した際、その上方に大きな段差を発生させることのない固体装置、有機ＥＬ装置、およびそれらの製造方法を提供すること。
【解決手段】トップエミッションタイプの有機ＥＬ装置１００の補助配線層８４を形成するにあたっては、第１マスク蒸着工程において、補助配線層８４を形成するための第１薄膜パターン８４ａを形成した後、第２マスク蒸着工程において、補助配線層８４を形成するための第２薄膜パターン８４ｂを端部８４１ａ、８４１ｂ同士が平面視で重なるように蒸着し、第１薄膜パターン８４ａと第２薄膜パターン８４ｂとが繋げる。第１薄膜パターン８４ａおよび第２薄膜パターン８４ｂは、端部８４１ａに向けて膜厚が漸減しているため、端部８４１ａ、８４１ｂ同士の重なり部分８４ｅに大きな段差が発生しない。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェーハの電気的特性を高精度かつ簡便に評価し得る手段を提供する。
【解決手段】ウエーハ面上に蒸着パターンを形成するための蒸着用マスク。少なくとも１つの貫通孔１を有する厚みが１μｍ以上５０μｍ以下のマスク層１を有し、上記マスク層１上に、該マスク層１が有する貫通孔１を塞ぐことなく磁性マスク２を有する。上記蒸着用マスクを使用する蒸着パターン作製方法。前記マスクを使用する半導体ウェーハ評価用試料の作製方法。前記方法によって半導体ウェーハ表面上に金属パターンを作製し、作製された金属パターンを介して半導体ウェーハの電気的特性を測定する半導体ウェーハの評価方法。前記評価方法を使用する半導体ウェーハの製造方法。 （もっと読む）

マスク支持体１０はフレーム要素２０と弾性要素３０を含んでいる。弾性要素３０はフレーム要素２０に固定されている。弾性要素３０は全体的に可撓性のある材料で形成されている部材である。それは、アーム部３７の自由端からおよそ９０°の角度で伸びる第１締結突起３８を有するレバーあるいはアーム部３７を含んでいる。マスクアセンブリ４０は薄層マスク４１と、例えば薄い金属ホイルで製造されたものと、接続要素４２を含んでいる。接続要素４２は弾性要素３０の締結突起３８と締結するための締結部４３を含んでいる。マスク４１は、マスク支持体１０から楽に取り外されるのみならず、マスク支持体１０に取り付け／延伸させてもよい。
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【課題】均一な蒸着層を容易に形成することができる真空金属蒸着方法およびその真空金属蒸着方法を実施するための真空金属蒸着装置を提供する。
【解決手段】高耐熱性金属支持体および高耐熱性金網が重ね合わされ蒸着金属材料がそれらの間に保持されている蒸着用ボートを用いて、該蒸着用ボートの高耐熱性金網側を下方に向けて該蒸着用ボートを蒸着用真空容器の上部に配設すると共に、該蒸着用ボートの下面側である高耐熱性金網側と被蒸着体の上面側である被蒸着面側とを対面させて該蒸着用真空容器の下部に被蒸着体を配置し、次いで、電気抵抗により該蒸着用ボートにおける高耐熱性金属支持体を発熱させることにより該蒸着用ボートに保持されている蒸着用金属材料をその沸点以上まで加熱して溶融状態となして真空状態で高耐熱性金網の目から被蒸着体に向かって蒸発・拡散させ、前記の被蒸着体の被蒸着面側に蒸着用金属材料を短時間で蒸着させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】領域選択成長技術を適用して、均一性のある微細構造を生産できる微細構造素子製造装置及び微細構造素子生産方法を提供すること。
【解決手段】基板が搭載される試料ホルダ４０と、基板３０に選択的に結晶を成長させるため基板の温度を所定の範囲に加熱する加熱器５０と、基板３０に選択的に結晶を成長させるための少なくとも１つ以上の第１の開口部と、当該１つ以上の第１の開口部の外側に複数の第２の開口部を有するマスク１０と、マスク１０が搭載されるマスクホルダ２０と、を備える微細構造素子製造装置。 （もっと読む）

【課題】蒸着源側からの輻射熱によって蒸着用マスク部材が加熱されても、被処理基板に対するマスク開口部の位置精度が低下することを防止することのできる蒸着用マスク部材、マスク蒸着方法、および有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法を提供する。
【解決手段】有機エレクトロルミネッセンス装置に用いる第１基板１０に対してマスク蒸着を行なうための蒸着用マスク部材３１０では、支持基板３３０においてマスクチップ３２０が固着された領域以外の領域に熱伝達促進用チップ３４０が固着されている。このため、蒸着源側からの輻射熱によって蒸着用マスク部材３１０が加熱された際、かかる熱は、マスクチップ３２０を介して第１基板１０に伝達されるとともに、熱伝達促進用チップ３４０を介しても第１基板１０に伝達されるので、蒸着用マスク部材３１０と第１基板１０との間に温度差が発生しにくい。 （もっと読む）

【課題】蒸着装置及び薄膜製造方法を提供する。
【解決手段】大型基板の場合にも、均一な薄膜を形成し、基板のサイズが変更される場合にも、装備の変更なしに容易に適用するためのものであって、直線動するように備えられた第１蒸着源と、第１蒸着源から離隔され、第１蒸着源と同時及び同一方向に直線動するように備えられた第２蒸着源と、第１蒸着源及び第２蒸着源と被蒸着体との間に位置し、第１蒸着源及び第２蒸着源と同時及び同一方向に直線動するように備えられた補正部材とを含み、補正部材は、第１蒸着源に対応する位置に備えられた第１補正板及び第２蒸着源に対応する位置に備えられた第２補正板を備える蒸着装置である。 （もっと読む）

【課題】安定した放電を長時間にわたって持続可能なスパッタ装置を提供する。
【解決手段】アノード体及びターゲットによって囲まれる放電空間に臨んでターゲットに対向される成膜対象物に絶縁膜をスパッタ成膜するスパッタ装置であって、アノード体の内壁面の近傍に、一端側が放電空間に臨み他端側がアノード体の内壁面へと通じる隙間が設けられ、その隙間の長さをＬ、放電空間内の気体分子の平均自由行程をλ１、放電空間内の電子の平均自由行程をλ２とすると、λ１＜Ｌ＜λ２である。 （もっと読む）

【課題】カソードおよびアノード間の異常放電の発生率を十分に低下させる。
【解決手段】熱電子を放出するカソード２２と、カソード２２から熱電子が放出されている状態においてカソード２２との間に印加されているグリッド電圧の電圧値に応じた量の電子を放出するグリッド２３と、カソード２２との間にアノード電圧が印加されて電子を加速させるアノード２４と、加速された電子を集束して電子ビームＥＢを生成する集束部２５とを備えた電子ビーム蒸着装置用の電子ビーム照射装置６であって、カソード２２は、アノード２４側の一面２２ｓの十点平均粗さＲｚが０．１０μｍ以上０．２８μｍ以下の範囲内となるように研磨されている。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、ガラス基板のマスク部及び成膜部との温度差を低減し、基板割れの
生じにくい基板トレイおよび基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】成膜装置の内部に、基板を保持して搬送され、薄膜材料源と対向して配置さ
れる基板トレイであって、薄膜材料粒子が通過する開口を有するトレイと基板との間に、
所定の形状に薄膜を形成するためのマスクを配置する構成とし、前記マスク両表面に表面粗さＲaが３〜１０μｍの凹凸を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】カソードおよびアノード間の異常放電の発生率を十分に低下させる。
【解決手段】熱電子を放出するカソード２２と、カソード２２から熱電子が放出されている状態においてカソード２２との間に印加されているグリッド電圧の電圧値に応じた量の電子を放出するグリッド２３と、カソード２２との間にアノード電圧が印加されて電子を加速させるアノード２４と、加速された電子を集束して電子ビームＥＢを生成する集束部２５とを備えた電子ビーム蒸着装置用の電子ビーム照射装置６であって、アノード２４は、カソード２２に対向配置されたフランジ部（鍔状部）２４ａと、熱電子を集束部２５に向けて案内する筒状部２４ｂとが一体形成されて構成されると共に、フランジ部２４ａにおけるカソード２２側の一面２４ｓの算術平均粗さＲａが２．０μｍ以上７．３μｍ以下の範囲内となるようにショットブラスト加工されている。 （もっと読む）

本発明は、マイクロ電子工学の基板およびデバイスに、薄膜を選択的に堆積するための自己整合金属マスクアセンブリに関し、上記自己整合金属マスクアセンブリは、ａ）メタライズされるパターンを規定する穴または領域と、センタリング穴とを有する上方金属マスクと、ｂ）メタライズされる基板またはデバイスと同じサイズおよび形状の穴と、上記アセンブリをセンタリングするためのさらなる補助穴とを有する下方金属マスクと、ｃ）上記のパーツをセンタリングするために、上記補助穴と対応するロッドを備えるピースまたはベースとを備え、完全なアセンブリを固定し維持するための上方ピースまたはフレームは、ネジおよびわずかな圧力によって整合される。上記アセンブリは続いて、蒸着機のサンプルホルダに固定することができる。
（もっと読む）

【課題】平板表示装置の製造に当たっての蒸着精度を高めるのに好適な薄膜蒸着用マスク組立体を提供する。
【解決手段】マスク組立体は、開口部２０１を囲む一対の第１支持部２２及び一対の第２支持部２４を備えたフレーム２０と、少なくとも一組のパターン開口部４０１を形成し、引張力が加わった状態で第１支持部２２に固定される複数の単位マスク４０と、を含む。第１支持部は単位マスクが固定される第１基準面２２１と、第１基準面から単位マスクの厚さ方向に沿って第１基準面と高低差を有する第２基準面２２２とを含む。 （もっと読む）

【課題】 従来非球面レンズ或いは反射鏡は、型によるプレス加工又は研磨加工で製造していた。しかしながら加工精度を上げるには問題が多くあった。そこでスパッタ蒸着を用いて、時間がかかるが人手の必要としない高精度の加工により非球面光学部品を提供することを目的とする。
【解決手段】 従来のスパッタ蒸着流により堆積膜を形成させる方法は均一な膜厚の多層膜を形成して、それを研磨して製造する方法であったが、本発明はターゲットと堆積基板との間に回転するマスクを外周から駆動して、中心対称の補正収差が行える光学系の堆積膜厚変化に対応するマスキング羽根の形状を設計し、そのマスクを用いて所望の非球面膜をスパッタ蒸着で形成する製造装置により各種非球面光学部品を提供する。 （もっと読む）