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Fターム[4K029HA03]の内容

物理蒸着 (93,067) | 部分被覆方法 (1,354) | 機械的マスクによるもの (1,241) | マスク形状、構造 (320)

Fターム[4K029HA03]に分類される特許

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【課題】本発明は、スリットの大きさが微細に制御された蒸着用マスクおよび蒸着用マスクの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による蒸着用マスクは、貫設された複数のスリットが形成されたマスク本体、および原子層蒸着法(atomic layer deposition、ALD)により前記マスク本体の表面全体にコーティングされた蒸着層を含む。 (もっと読む)


【課題】本発明は、蒸着品質を高めることができるマスク組立体およびそれを用いて製造された有機発光表示装置を提供する。
【解決手段】本発明によるマスク組立体は、開口部を形成するフレームと、複数の蒸着用開口部を形成し、長さ方向に沿って引張力が加わった状態で両側端部がフレームに固定される複数の単位マスクとを含む。複数の単位マスクのうちの隣接した少なくとも二つの単位マスクは、互いに向き合う両側面に蒸着用凹部を形成する。単位マスクの幅方向に沿った蒸着用凹部の幅は、単位マスクの幅方向に沿った蒸着用開口部の幅と同一であるか、またはそれよりも大きい。 (もっと読む)


【課題】高い解像度を有し、かつ生産性が高い有機EL発光装置等の装置を製造するための成膜装置を提供する。
【解決手段】マスク部材11と、マスク部材11を固定するフレーム12と、からなるマスクユニット10と、マスクユニット(10)1基に対して1組設けられるアライメント機構と、を備え、マスク部材11が、複数組の開孔パターン13aが並列して設けられてなる開孔部13を有し、前記アライメント機構により、複数の成膜領域がマトリクス状に設けられている一枚の基板1に対して複数のマスクユニットが互いに干渉されることなく配置され、成膜時においてマスクユニット10を交換し又は移動することなく、一括して薄膜を成膜することを特徴とする、成膜装置。 (もっと読む)


【課題】高精細な複数の開口パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】平板状の磁性金属材料に、薄膜パターンの形成領域に対応して該薄膜パターンよりも形状が大きい貫通する複数の開口部5を設けてメタルマスク1を形成し、メタルマスク1の一面に可視光を透過する樹脂製のフィルム2を面接合し、透明基板8の一面に薄膜パターンと同形状の複数の基準パターン9を薄膜パターンと同じ配列ピッチで並べて形成し、該基準パターン9を下側にしてステージ上に載置された基準基板3の基準パターン9がメタルマスク1の開口部5内に位置するようにメタルマスク1を基準基板3に対して位置合わせした後、フィルム2を基準基板3の他面に密着させ、メタルマスク1の開口部5内の基準パターン9に対応したフィルム2の部分にレーザ光Lを照射して、薄膜パターンと同形状の貫通する開口パターン4を形成する。 (もっと読む)


【課題】成膜時における防着板の変形を抑制する。
【解決手段】本発明に係る除電シールド6は、基板にターゲットの微粒子を堆積して薄膜を形成するスパッタリング装置に用いられ、対向状態にある基板とターゲットとの間に配置されると共に、ターゲットの微粒子を基板に向けて通過させるための開口部6aが形成された除電シールド6であって、開口部6aの全周に沿って補強リブ61が設けられている。 (もっと読む)


【課題】成膜マスク装置の各ガイドピン、ガイド孔に蒸着粒子が付着しないような手段を得る。
【解決手段】成膜マスク装置Aは、表裏両面に被成膜基板10を保持する複数の第2のガイドピン13b、及びマスク板20の位置決め用の第1のガイドピン13aを有する保持基板13と、各被成膜基板10を間に挟んで保持基板13の表裏両面に添設されるマスク板20と、遮蔽カバー11、15と、を備えた成膜マスク装置である。蔽カバー11、15は、各第1、及び第2のガイドピン13a、13bに対して蒸着粒子の付着を防止する第1、及び第2の凹部11a、11bを備えている。 (もっと読む)


【課題】高精細な複数の開口パターンの形成を容易にすると共に、ハンドリング中も開口パターンの形状及び位置が維持できるようにする。
【解決手段】平板状の磁性金属材料に薄膜パターンよりも形状が大きい貫通する複数の開口部6を設けて保持部材1を形成し、保持部材1の一面に可視光を透過する樹脂製フィルム2を密着して保持し、第1の磁気チャック17上に載置された基板3に対して保持部材1を位置合わせした後、磁力により保持部材1を吸着してフィルム2を基板3面に密着させ、保持部材1の開口部6内のフィルム2の部分にレーザ光を照射して、薄膜パターンと同形状の貫通する開口パターン4を形成し、第2の磁気チャック18の磁力により保持部材1を吸着して該保持部材1及びフィルム2を一体的に基板3上から剥離する。 (もっと読む)


【課題】高精細な薄膜パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】基板9上に一定形状の薄膜パターンを成膜形成する薄膜パターン形成方法であって、可視光を透過し一面に磁性体膜1を被着したフィルム2に薄膜パターン形成領域11に対応して薄膜パターン12と同形状の貫通する開口パターン3を形成し、磁性体膜1側を第1の磁気チャック6の平坦面に吸着して保持されたマスク4の開口パターン3を、第2の磁気チャック10上に載置された基板9の薄膜パターン形成領域11に位置合わせするステップと、第2の磁気チャックにより磁性体膜1を吸着してマスク4を第1の磁気チャック6から基板9上に移すステップと、マスク4の開口パターン3を介して基板9上の薄膜パターン形成領域11に成膜し、薄膜パターン12を形成するステップと、を行うものである。 (もっと読む)


【課題】高精細な薄膜パターンの形成及び不純物により薄膜パターンがダメージを受けるのを抑制可能にする。
【解決手段】基板面に接触して設置され、該基板上に一定形状の複数種の薄膜パターンを形成するためのマスク1であって、可視光を透過する樹脂製のフィルム2と、前記基板上に予め定められた前記複数種の薄膜パターンの形成領域のうち、一の薄膜パターンの形成領域に対応して該一の薄膜パターンよりも形状の大きい貫通する開口部5を形成した板体で構成され、前記フィルム2を保持する保持部材3と、備え、前記フィルム2は、前記基板上の前記一の薄膜パターンの形成領域に対応して前記保持部材3の前記開口部5内に前記一の薄膜パターンと同形状の開口パターン4を備え、他の薄膜パターンの形成領域に対応して前記基板との接触面側に前記他の薄膜パターンと同形状の凹部6を備えている。 (もっと読む)


【課題】デンドライト状の析出物を発生させずに個体電解質層を形成する技術を提供する。
【構成】正極13上又は負極15上に固体電解質層14を形成するために、基板11上にグラファイト又はLiCoO2が表面に露出するマスク17を配置し、LiPONで構成されたターゲットをスパッタリングして、パターニングされた固体電解質層14を形成する。Liを吸収する素材をマスク17の表面に露出させておくと、電界で移動するリチウムイオンが固定され、デンドライト状の析出物を発生させずに、スパッタリングの際に固体電解質層14を形成することができる。この素材は、リチウムを吸収しても体積膨張がないグラファイト又はLiCoO2がよい。 (もっと読む)


【課題】 大型の基板に小さなマスクで蒸着すると時間がかかる。
【解決手段】 基板上に行列をなして配置された複数の区画の各々に形成されるEL発光装置の製造方法であって、
列方向の全ての区画の蒸着パタンを開口として有するマスクを前記基板に対向して保持し、前記マスクを通して前記基板に蒸着物質を蒸着する工程を有し、
前記基板を前記区画の行方向に1列ずつ移動し、前記工程を繰り返すことを特徴とするEL発光装置の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 蒸着マスクの弛みをより確実に防止することが可能なマスクフレームと、該マスクフレームを用いた蒸着マスク組立体を提供する。
【解決手段】 相対する高熱膨張合金の桟と、相対する低熱膨張合金の桟とで構成される矩形状の枠体であって、前記高熱膨張合金の桟は、30〜100℃の線膨張率(αFh(30〜100℃))が(4〜20)×10−6/℃であり、前記低熱膨張合金の桟は、蒸着マスクを接合支持する支持部材となるものであって、30〜100℃の線膨張率(αFl(30〜100℃))が5×10−6/℃以下であり、且つ、αFh>αFlを満足するマスクフレーム。 (もっと読む)


【課題】マスクの強度を低下させずに、大面積の成膜対象物に成膜できる成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】
マスク31は、薄膜材料蒸気が通過する複数の通過孔32が配置された有効領域331〜333と、薄膜材料蒸気を遮蔽する遮蔽領域341〜344とを有し、有効領域331〜333と遮蔽領域341〜343は、長さ方向と、長さ方向と直交する幅方向とを有する四角形状であり、有効領域331〜333と遮蔽領域341〜343とは、有効領域331〜333の幅方向6に沿って互いに隣接して配置され、成膜装置10aは、マスク31と放出装置21とに対し、成膜対象物42を、有効領域331〜333と遮蔽領域341〜344とが並ぶ方向に相対的に移動させる第一の移動装置51を有している。 (もっと読む)


【課題】比較的優れた品質の有機EL素子を製造し得る有機EL素子の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】帯状の基材を搬送部に供給し、該搬送部表面に前記基材の一面側を当接させて前記基材を搬送しつつ、前記搬送部と対向し且つ前記基材に対して近接する位置に配された蒸着源のノズルから、気化された有機EL膜の構成層形成材料を吐出させて、前記基材における前記搬送部と反対の面側に有機EL膜の構成層を形成する蒸着工程を含んでなる有機EL素子の製造方法であって、前記蒸着工程では、更に、回転軸を中心として回転駆動する板状の回転体を有し且つ該回転体に開口部が形成されたシャドーマスクを、前記搬送部に当接した前記基材と前記ノズルとの間にて基材の近傍に介入させ、前記基材の移動に追従するように前記シャドーマスクを回転させつつ、前記開口部を通して気化された前記構成材料を基材側に供給し、前記基材に前記開口部に応じた有機EL膜の構成層を形成することを特徴とする有機EL素子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】半導体膜の表面欠陥の発生を抑制する半導体膜蒸着装置および半導体膜蒸着方法を提供する。
【解決手段】
半導体原料を収容するるつぼ2と、るつぼ2と対向して基板5を支持する基板支持器6と、るつぼ2と基板5との間でるつぼ2の開口を覆って配置されるマスク4と、るつぼ2およびマスク4を加熱する加熱器3と、るつぼ2、基板支持器6、およびマスク4を収容する真空チャンバ7とを備える半導体膜蒸着装置。るつぼ2から飛散した半導体分子はマスク4内部を衝突しながら通過することで基板5上に表面欠陥が抑制された状態で成膜される。 (もっと読む)


【課題】成膜用マスクを用いて被成膜物に成膜した後に成膜用マスクを取り外す際に、被成膜物から成膜された膜が剥がれることを防ぎ、所定の形状の膜を被成膜物に形成することができる膜形成方法を提供する
【解決手段】一方の主面から他方の主面まで貫通し、かつ、一方の主面側の開口部の大きさが他方の主面側の開口部の大きさより大きくなっている成膜用空間を有する成膜用マスクの一方の主面を、被成膜物に接触させて前記成膜用マスクを配置するマスク配置工程と、前記成膜用マスクの他方の主面側から前記成膜用空間内を向く向きに膜を成膜する成膜工程と、前記成膜された前記被成膜物から前記成膜用マスクを取り外すマスク取り外し工程と、を備えていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ダイシングの負荷を増大させることなく、パターン部内に応力緩和用開口部を設けることができ、パターン精度を向上することが可能な選択成膜用マスクを提供する。
【解決手段】選択成膜用マスク2は、成膜基板上に取り付けられ、成膜基板上に所定のパターンで膜を成膜するためのものである。選択成膜用マスク2は、膜のパターンに対応した開口パターンと、少なくとも一方の面において開口し、成膜の際に選択成膜用マスク2にかかる応力を緩和するための応力緩和用開口部30とを備え、応力緩和用開口部30は、成膜基板上に選択成膜用マスク2を取り付けたときに、応力緩和用開口部30を通して成膜基板の表面が直接視認されない断面構造を有している。 (もっと読む)


【課題】被蒸着膜を高精細なパターンで形成することが可能な蒸着用マスクを提供する。
【解決手段】蒸着用マスクは、1または複数の第1開口部を有する基板と、この基板の第1主面側に設けられると共に、各第1開口部と対向して1または複数の第2開口部を有する高分子膜とを備える。蒸着の際には、蒸着材料が第1開口部および第2開口部を順に通過することにより、第2開口部に対応した所定のパターンで被蒸着膜が形成される。基板と高分子膜とを組み合わせて用いることにより、機械的強度を保持しつつも、金属膜のみで構成されている場合に比べ、第2開口部において微細かつ高精度な開口形状を実現できる。 (もっと読む)


【課題】マスクユニットの構造的な変形を抑制して工程精密度を向上させる。
【解決手段】長さ方向に沿って配列された複数のパターン領域と、前記複数のパターン領域の間に配置されたダミー領域とを有する1つ以上の単位マスクと、前記単位マスクの長さ方向に引張力が加えられるように、前記単位マスクの長さ方向の両側端部を引っ張って固定するマスクフレームと、前記単位マスクの前記ダミー領域に結合し、前記単位マスクの長さ方向と交差する方向に形成され、前記単位マスクの長さ方向と交差する方向に前記単位マスクに引張力を加える交差引張部材とを含む。 (もっと読む)


【課題】薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリーを提供する。
【解決手段】開口部が形成され、開口部を取り囲むマスクフレーム110と、マスクフレーム110上に結合されるマスク120と、マスク120を支持する少なくとも一つの支持台130と、支持台130を固定する複数の固定部140と、を備える薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。これにより、蒸着用基板のたるみによる蒸着用基板の割れ現象を防止できる。 (もっと読む)


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