【課題】 基板ホルダーが移動しても、整合状態が大きく変化することなく、インピーダンスの整合状態が維持されることを課題とする。
【解決手段】上記課題を解決するため、本願に係わる基板処理装置は、処理チャンバー、前記処理チャンバー内に位置し、基板を保持するための基板ホルダー、前記基板ホルダーに高周波電力を供給するための高周波電源、前記基板ホルダーと前記高周波電源との電気的に間に位置する整合器及び前記基板ホルダーと前記整合器を一体に移動させる移動機構を有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】発電所などの高温環境で使われる部品の磨耗および擦り傷などの損傷を効果的に防止することが可能な、高温用部品の潤滑コーティング装置を提供すること。
【解決手段】高温用部品がセットされるセッティング部、および前記高温用部品に対するスパッタリング空間を形成する蓋を備えたチャンバーと、前記セッティング部にセットされた高温用部品を回転駆動させる回転駆動手段と、前記チャンバーのスパッタリング空間を真空に保つための真空ポンプと、前記チャンバーのスパッタリング空間を不活性気体雰囲気に造成するための不活性気体供給部と、前記蓋の上面部と前・後面部に前記高温用部品を向いて複数設置されたターゲットと、前記ターゲットに対応するように前記蓋の上面部と前・後面部に設置され、ターゲットの原子を放出させて前記高温用部品に蒸着させる複数のスパッタガンと、前記回転駆動手段、前記真空ポンプ、前記不活性気体供給部および前記スパッタガンを制御する制御部とを含んでなる、高温用部品の潤滑コーティング装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】製造装置を大型化することなく基板に対して表示パネルを合理的に配置しつつも、画素内において蒸着膜の必要膜厚が確保された実効画素領域を広く確保することができ、これにより低コストで表示特性の良好な表示装置を得ることが可能な製造方法を提供する。
【解決手段】開口パターン３ａを備えた蒸着マスク３と長尺状のライン蒸着源１とを用いて基板５の画素ａ上に蒸着パターンを形成する表示装置の製造方法において、基板５上における表示パネル領域Ｐの配置方向に係わりなく、ライン蒸着源１の長手方向に開口パターン３ａおよび画素ａの長辺方向をそれぞれ一致させるように蒸着マスク３と基板５とを配置する。蒸着源５に対して基板５と蒸着マスク３とを相対的に移動させることにより、蒸着パターンを各画素ａに形成する。 （もっと読む）

真空コーティングユニットは、反応性ガス入口（１２）と、層状カソード（１１）を有する少なくとも１つのＰＶＤコーティング源（８、２１）と、複数の基板（７）を伴う基板担持体（６）とを含み、基板担持体（６）は二次元的に水平な範囲を形成し、少なくとも２つのＰＶＤコーティング源の間に位置決めされ、複数の基板（７）は、少なくとも１つの切刃（Ｅ）を層状基板（７）の周縁マージン領域に有する切削工具であり、基板担持体（６）の二次元範囲の面において分布されるように配置され、基板担持体（６）は、真空処理チャンバ（１）において、水平面（３）において、少なくとも２つのＰＶＤコーティング源（８、２１）の層状カソード（１１）の間に間隔をおいた状態で、かつ、少なくとも１つの切刃（Ｅ）の各々の少なくとも一部は、処理中の切刃（Ｅ′）を含み、処理中の切刃（Ｅ′）は、ＰＶＤコーティング源（８、２１）のカソード（１１）のうちの少なくとも１つに対向して向き付けられ、視線において常に露出されるよう位置決めされる状態で、配置されることにおいて特徴付けられる、真空コーティングユニット。
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【課題】 粉末状担体の全体に金属ナノ粒子を均等に担持させることができる金属蒸着装置および粉末状担体の撹拌方法を提供すること。
【解決手段】 真空チャンバ１１内で容器４１を水平な状態とし内部の粉体状アルミナＡへ施す例えば１００回の真空アーク放電による白金の蒸着と間欠的な次の同様な蒸着との間において、容器４１を揺動軸４５の回りに第１の方向（例えば右方向）へ揺動させ、傾斜する容器４１の底面４２上で粉体状アルミナＡを容器４１の端部の方へ滑落させて撹拌し、容器４１の右側の端部が下方の衝突部材を兼ねる衝突検知センサ４７によって所定の傾斜角度に達したことが検知されると、直ちに揺動の方向を逆にして容器４１を水平にすると同時に、端部の方へ滑落している粉体状アルミナＡを容器４１の中央側へ跳ね戻し粉体状アルミナＡを裏返しにするように撹拌する。 （もっと読む）

【課題】成膜装置における回転体への電力の供給構成について、確実な給電を確保するとともにメンテナンス性を向上する。
【解決手段】電源および動力源を有する真空成膜室ならびに真空成膜室内の成膜位置にセットされる基板ホルダを備えた成膜装置において、電源が給電電極を有し、基板ホルダが、成膜位置に静止される静止系ユニットおよび静止系ユニットに搭載され動力源によって駆動される駆動系ユニットからなり、静止系ユニットが給電電極と電気的に接続される受電電極および受電電極からの電力を駆動系ユニットに供給するコンタクト機構を備える構成とした。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、炭素微粒子などの担体微粒子の表面に、粒径が２ｎｍ以上１０ｎｍ以下の微粒子を担持した粉体を効率よく提供することである。
【解決手段】 本発明の微粒子担持方法は、粒子状母材の表面に、その粒径より小さい少なくとも２元素以上からなる合金粒子を減圧装置内で担持させる方法であって、前記粒子状母材は減圧装置内に多数かつ母材間の相対位置が可変可能に設置されるとともに母材間の相対位置が概ね変わらない時間帯と変わる時間帯を交互に設けて合金粒子を担持させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】耐酸性に優れ、かつ接触抵抗が低い燃料電池用金属セパレータおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る燃料電池用金属セパレータ１は、表面が平面の、または、表面の少なくとも一部に凹形状のガス流路が形成される金属基材２を用いて製造された燃料電池用金属セパレータであって、金属基材２の表面に、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａから選択される１種以上の非貴金属を含んでなる耐酸性金属皮膜３と、この耐酸性金属皮膜３の上にＡｕ、Ｐｔから選択される１種以上の貴金属、および、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａから選択される１種以上の非貴金属を含んでなる導電性合金皮膜４と、を有する構成とした。また、本発明に係る燃料電池用金属セパレータの製造方法は、耐酸性金属皮膜を成膜する工程Ｓ１と、導電性合金皮膜を成膜する工程Ｓ２と、を含んでなる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、プラズマ−エンハンスドコーティングプロセスをサポートする装置（８）に関する。
【解決手段】該装置は、プラズマ及び／又はコートされる基板及び／又はプラズマ生成のために設けられた電極の近傍に配置可能であり、プラズマ領域の側部又は面、又は基板又は基板を運搬する運搬要素を配置できる面、又は電極の１つ又はその一部を少なくとも部分的に囲む、又は制限するフレームが設けられていて、ガス状媒体を吸引可能な１つ又はいくつかの吸引開口部１０のあるキャビティ又は吸引チャネル１３が含まれている。 （もっと読む）

【課題】受光部に光を導く導光部を形成する半導体基板に、スパッタリングにより厚さ均一の反射膜を形成すること。
【解決手段】半導体基板（２６）は、受光部（４２）を複数形成するウエハ（４３）の表面が絶縁体（４４）で覆われる構成である。絶縁体（４４）には、各受光部（４２）の上方に、半導体基板（２６）と直交する方向に延びる筒状の導光部（４５）が形成されている。また、開口（４６）側の端部には、奥に向かうに連れて口径が小さくなるテーパ部（４７）が切欠き形成されている。鉛直下方に向けて飛散するスパッタ原子（３４）が斜めに被着する向きに半導体基板（２６）を配置する。半導体基板（２６）を、それに直交する中心軸回りに回転させながらスパッタ原子（３４）を被着させる。 （もっと読む）

【課題】多孔体とこれを固定する治具との間の逆スパッタに起因する多孔体の表面の接触抵抗の上昇を防止することが可能な多孔体コーティング装置およびコーティング多孔体の製造方法を提供する。
【解決手段】低抵抗導電物質からなるターゲット３と、多孔体２を固定する治具４と、低抵抗導電物質からなり治具４と多孔体２との間に介装される介装体５と、治具４に所定のバイアス電圧を印加する電圧印加装置６と、を具備するコーティング装置１を用いて、多孔体２の板面２ａに低抵抗導電物質からなるコーティング膜８ａを形成した後、多孔体２の板面２ｂに低抵抗導電物質からなるコーティング膜８ｂを形成する。 （もっと読む）

【解決手段】粒子に被覆材料をスパッタすることにより粒子表面に薄膜をコーティングする方法であって、粒子容器に粒子を収容し、ボイスコイル式動電型加振器により上記粒子容器を上下に微動させて該粒子容器を介して粒子を振動させながら該粒子に被覆材料をスパッタする方法。
【効果】スパッタリングにより粒子表面に薄膜を均一にコーティングすることができ、特に、分散しにくいサイズの微粒子に対して、個々の粒子に強い力を与えて分散させつつ攪拌してスパッタリングできることから、このような微粒子に対しても均一に薄膜をコーティングすることができる。 （もっと読む）

【課題】被蒸着部材と蒸発源の少なくとも一方を直線移動させて、複数の異種材料を被蒸着部材に均一な成分量比で蒸着する。
【解決手段】異種の第１，第２蒸着材料を加熱して気化させる蒸発装置１２と、真空蒸着容器１１内で蒸発装置１２から気化された第１，第２蒸発材料を蒸着させるガラス基板１３と、ガラス基板１３をｘ方向に移動させる基板保持移動装置とを具備し、蒸発装置１２に、各蒸発部２１Ａ，２１Ｂから導入された第１，第２蒸発材料をそれぞれ第１拡散容器２３Ａ，２３Ｂで拡散した後に、ガラス基板１３に向かって第１，第２蒸発材料をそれぞれ放出する第１ノズル筒２５ａおよび第２ノズル筒２５ｂを近接配置したノズル組２５Ａ，２５Ｂを設け、ノズル組２５Ａ，２５Ｂをガラス基板１３の移動方向に直交する横断方向にライン状に配置した。 （もっと読む）

【課題】結晶性が良好で、且つ、膜厚分布が均一である蛍光体層を形成することのできる真空蒸着方法を提供することにある。
【解決手段】真空蒸着室内に設けた蒸発部から蒸発させた成膜材料を前記蒸発部の上方を直線状に往復移動する被処理基板の表面に蒸着させる真空蒸着方法において、
前記成膜材料の蒸着は、０．１〜５Ｐａの圧力下で、下記の式（１）の条件を満たす位置に、前記蒸着部および前記往復移動の際の被処理基板の折返し位置を設けて行われることにより、前記課題を解決する。
０＜Ｌ_１／Ｌ_２＜１．２５ （１）
（式中Ｌ_１は、前記蒸発部の蒸発口が属する水平面から前記被処理基板までの垂直距離を示し、Ｌ_２は、前記折り返し位置に位置する被処理基板の前記蒸発部側の端部と前記蒸発部の蒸発口の前記被処理基板側の端部との水平距離を示す。） （もっと読む）

【課題】 基板上に形成される光学薄膜の内部応力による基板の反りの発生を防ぐと共に、膜剥がれの発生等を防止した光学薄膜を形成することができるフレーム治具、及びそれを用いた光学薄膜の形成方法を提供する。
【解決手段】
ガラス基板２と、断面がコの字形を有する棒状のステンレスからなり、断面の上面１０ｂが凹にそり幅α反ったフレーム治具１０を、オーブン１１に投入して加熱する加熱工程と、フレーム治具１０のコの字形の溝部（溝１０ａ）にガラス基板２の外周部を保持する保持工程と、フレーム治具１０に外周部が保持されたガラス基板２を冷却する冷却工程と、ガラス基板２の成膜面２ａに真空蒸着法を用いて高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に成膜して誘電体多層膜３を形成する成膜工程とから、ガラス基板２上に光学薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 被処理物が正しい処理位置にあるかどうかを高い信頼性でもって検知することのできる真空処理装置及び真空処理方法を提供する。
【解決手段】 被処理物によって閉塞可能な開口部を有する処理室と、前記被処理物を、前記開口部を閉塞する位置と、前記開口部から離間された位置との間で移動させるアクチュエータと、前記処理室内に放電を生じさせる電力を供給する電源と、前記放電の電気特性に基づいて前記被処理物が前記開口部を閉塞する位置にあるかどうかを判定する制御装置と、を備えたことを特徴とする真空処理装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 ＯＣＢモードにおける初期配向転移を円滑に行うことができ、均一な表示と高い信頼性を具備した液晶装置を提供する。
【解決手段】 表示動作時にベンド配向を呈する液晶層５０と、該液晶層５０を挟持して対向する一対の基板１０，２０とを備え、前記基板１０，２０の前記液晶層側に、無機配向膜１６，２２が形成されている構成とした。 （もっと読む）

本発明は、パルスマグネトロンスパッタのための装置であって、真空形成装置を備えるレシピエントと、2つのマグネトロンスパッタ源と、少なくとも1つの基板ホルダと、電流供給装置とを有し、・前記レシピエントは五角形の横断面を有し、該五角形の横断面は少なくとも１つの直角を含み、・相互に直角の２つの側壁には、それぞれ１つのマグネトロンスパッタ源が取り付けられており、・３つの残りの側壁にはそれぞれ１つの開口部と所属のフランジが設けられており、・マグネトロンスパッタ源に対向する側壁の少なくとも１つの開口部は真空フランジにより密閉されており、・該開口部は基板ホルダを、対向するマグネトロンスパッタ源の中心に対して直接対向するように、またはマグネトロンスパッタ源の中心に対して平行にずらして任意に位置決めするための手段を有し、・基板ホルダには、基板の中心をマグネトロンスパッタ源のターゲット面に対して可変の間隔で任意に位置決めするための手段が設けられており、・マグネトロンスパッタ源に対する電流供給装置には、ユニポーラ電力パルスまたはバイポーラ電力パルスを給電するための手段が設けられており、・前記ユニポーラ電力パルスは1から100kHzの領域の周波数を有し、かつ各マグネトロンスパッタ源において別個に調整可能な電力と、別個に調整可能なデューティ比を有し、・前記バイポーラ電力パルスは1から100kHzの領域の周波数を有し、かつ各極性に対して別個に調整可能な電力と、別個に調整可能なデューティ比を有し、・マグネトロンスパッタ源のターゲットは電流供給装置の各極と、該ターゲットが交互にマグネトロン放電のカソードおよびアノードとして作用するように接続されている、ことを特徴とするパルスマグネトロンスパッタ装置に関する。
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【課題】この発明は、均一な金属被膜の成膜を実現したうえで、簡便にして容易なレンズ着脱操作を実現し得るようにすることにある。
【解決手段】保持部本体１０の第１の保持盤１１の挿通穴１１１に挿入した支柱部材２２を離脱させた状態で、第１及び第２のレンズ支持部材１４，１５間へのレンズ１６の着脱を実行し、装着したレンズ１６に成膜を施す際には、上記支柱部材２２を保持部本体１０の第１の保持盤１１の挿通穴１１１に挿入して、支柱１３及び支柱部材２２をレンズ１６の周囲に等間隔に配した状態で、レンズ１６の成膜処理を行うように構成した。 （もっと読む）

【課題】自由度の高いパターニング方法に用いるパターニング装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るパターニング装置は、圧力を調整可能な真空チャンバーと、材料供給源に接続され、かつ前記真空チャンバーに取り付けられ、前記真空チャンバー内に前記材料供給源からの材料を供給するノズルと、前記真空チャンバー内に設けられた、基体を保持固定するための基体ステージと、を備えている。 （もっと読む）