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Fターム[4K029KA01]の内容

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【課題】蒸発材料の、蒸着対象物に対向する対向面内で、蒸発流密度の分布を均一にすることができる真空蒸着装置、これに用いられる電子銃及びその蒸着方法を提供すること。
【解決手段】真空蒸着装置100では、メインコントローラ14及び/または電子銃ドライバ59により、電子ビームBが、蒸発材料10の上面10aの外形にしたがって揺動するように、揺動コイル62が制御される。これにより、電子ビームが、その上面10a全体に均一に入射される。したがって、蒸発材料10の上面10aからの蒸発流分布(蒸発流密度)を均一にすることができる。その結果、成膜レートの安定化を図ることができ、基板Wに形成される蒸着膜の膜厚分布を均一にすることができる。 (もっと読む)


【課題】蒸着重合膜を連続形成しつつ、蒸着重合膜の組成や膜厚の変化を把握できる蒸着重合膜形成装置を提供する。
【解決手段】赤外光源88と分光手段と検出器90と光学系92とを有する反射型赤外分光光度計86を設置すると共に、分光手段により分光された赤外光を蒸着重合膜上に集光させる集光鏡124と、蒸着重合膜上の集光点での反射光を更に反射させて、検出器90に導く反射鏡126,122,118とを、光学系92に設け、更に、集光鏡124を、基材フィルムの移送に伴って、蒸着重合膜上での赤外光の集光点の位置を基材フィルムの長さ方向に変化させ得る位置に配置して構成した。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、クラスタ構造を有し、ライン長を短くできる、あるいは、スペース効率のよい有機ELデバイス製造装置または基板の姿勢を補正する角度補正機構を提供することである。
【解決手段】
本発明は、第1の櫛歯状ハンドによって基板を搬入する搬入口と、第2の櫛歯状ハンドによって前記基板を搬出する搬出口と、前記基板を支持する複数の支持ピンと、複数の前記支持ピンを固定し、前記基板を支持し回転させる支持ピン回転台と、前記支持ピン回転台を前記基板と平行な平面内で回転させる回転駆動手段と、複数の前記支持ピンと、前記第1の櫛歯状ハンドと前記第2の櫛歯状ハンドの少なくとも一方との干渉を回避する回避手段と、有する。 (もっと読む)


【課題】複数の蒸着材料を被蒸着体に共蒸着するインライン型蒸着装置において、膜厚の蒸着膜を均一に製膜し、信頼性の高い被蒸着体を生産する。
【解決手段】蒸着装置1は、蒸着材料20,30を夫々蒸発させる蒸発源2,3と、蒸発源2,3から被蒸着体4へ向かう蒸着材料20,30の流路を囲うように配置されるホットウォール5と、を備える。蒸発源2,3は、蒸着材料20,30を被蒸着体4側へ放出する放出口22,31を有し、蒸発温度が高い蒸着材料30を蒸発させる蒸発源3の放出口32がホットウォール5の上端縁よりも上方に設けられている。この構成によれば、蒸発した蒸着材料30がホットウォール5に付着することなく被蒸着体4に蒸着される。従って、蒸着材料30がホットウォール5によって再蒸発しながら被蒸着体4に付着することがなく、膜厚の蒸着膜を均一に製膜でき、信頼性の高い被蒸着体4を生産することができる。 (もっと読む)


【課題】成膜速度の面内均一性を確保しながら、成膜速度を高め、ターゲットの使用効率を向上したマグネトロンスパッタ装置を提供する。
【解決手段】ターゲット31の背面側に設けられたマグネット配列体5は、両端が互に異極である棒状マグネットが網の目状に配置されると共に、網の目の交点にて、棒状マグネットの端面に囲まれる領域には透磁性のコア部材を設けるように構成されている。棒状マグネットの両端の極からの磁束がコア部材を通して出ていくため、隣接する棒状マグネット同士の磁束の反発が抑えられて磁束線の歪みが抑制され、水平磁場が広い範囲で形成される。このため、高密度のプラズマが広範囲に均一に形成され、成膜速度の面内均一性を確保しながら、速い成膜速度が得られる。また、ターゲット31のエロージョンの面内均一性が良好であり、エロージョンが均一性を持って進行するため、ターゲット31の使用効率が高くなる。 (もっと読む)


【課題】連続的に多数の基板を成膜するのに適した基板搬送機構を真空槽内部に備えた下方蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明の蒸着装置は、真空槽、真空槽内で基板を格納位置と成膜位置の間で移動させる搬送機構、及び真空槽内に配置され成膜位置の上方から蒸着材料を蒸発させる蒸発源を備え、搬送機構は、開口部を有し水平方向に延在する中空体からなる水平経路、水平経路内で、格納位置と開口部の直下である方向転換位置との間で基板を移動させる水平搬送手段、及び基板を方向転換位置と成膜位置の間で移動させる昇降可能な基板ステージを備える。 (もっと読む)


【課題】
本発明の課題は、坩堝の冷却時において、リフレクターなどの追加部材なしに、坩堝の蒸着出口部や坩堝内壁に材料が付着することを防止できる、或いは、坩堝の冷却時において、坩堝の蒸着出口部や坩堝内壁に材料が付着する事を防ぎ、冷却時間を短縮できる蒸着装置又は蒸着装置の運転方法を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、蒸着源内の坩堝に存在する蒸着材料を加熱して蒸発し基板に蒸着し、真空蒸着チャンバ内を開く際には前記坩堝冷却する蒸着装置又は蒸着装置の運転方法において、前記冷却は、単位時間当たりに、前記蒸着物出口から出る前記蒸着材料の量が予め定めた量になるように蒸発レート制御する。 (もっと読む)


【課題】蒸着材料を問わず、蒸発した蒸着材料により検出を妨げられずに、均一な厚さの膜を長時間成膜できる真空蒸着装置を提供することを目的とする。
【解決手段】真空蒸着装置1は、蒸着材容器2と、蒸着材料を蒸発させる蒸発手段と、倒れ角が異なる位置で成膜速度を観察する複数の成膜速度モニタ3,4と、1の成膜速度モニタ3の成膜速度を予め定められた設定値と比較し、設定値に対する観察した成膜速度の変動が所定の範囲内となるよう蒸発手段の出力を制御する成膜速度制御部と、材料供給部5と、蒸発手段により蒸発させた蒸着材料の蒸気量分布を、複数の成膜速度モニタ3,4で観察した成膜速度を用いて演算する蒸気量分布演算部と、演算した蒸気量分布を予め定められた蒸気量分布の設定値と比較し、蒸気量分布の設定値に対する演算した蒸気量分布の変動が所定の範囲内となるよう蒸着材料の供給量及び供給タイミングを制御する材料供給制御部とを備える。 (もっと読む)


【課題】基板に有機物薄膜を蒸着する全体の工程時間を最小化できる平板パネル製造装置を提供する。
【解決手段】少なくとも二つの基板10が処理される複数の工程チャンバー110;第1の方向L1に沿って複数の工程チャンバーの間に配置され、第1の方向に直交する第2の方向L2に沿って直線状に往復移動しながら未処理の基板を工程チャンバーに供給したり、処理が完了した基板を工程チャンバーから排出する移送ロボット123を備える移送チャンバー120;移送チャンバーの一側に結合され、供給される基板を収容するローディングチャンバー130;及び移送チャンバーの他側に結合され、排出された基板を収容するアンローディングチャンバー140;を含み、工程チャンバーの内部では、第2の方向に沿っていずれか一つの基板に工程ガスが蒸着されると同時に、残りの基板に対する移送及び位置整列が行われることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】大型の成膜対象物の表面に分布が均一な成膜を簡素な構成の装置で行うことができる技術を提供する。
【解決手段】本発明の蒸着装置1は、真空槽2と、真空槽2内に設けられ、溶融蒸発材料30を収容する細長形状の収容部12と、当該収容部12内の蒸発材料をその蒸発温度以上の温度で加熱する加熱手段13とを有する蒸発源10を有する。真空槽2内には、蒸発源10の収容部12の長手方向に対して直交する方向に基板4を搬送するための搬送経路5と、蒸発源10の収容部12の両側部に、蒸発材料31、32を移動させつつ収容部12の両端部にそれぞれ所定量の蒸発材料31、32を供給する第1及び第2の材料供給手段21、22とを有する。 (もっと読む)


【課題】メタルマスクを直接冷却することが可能なメタルマスク冷却機構と、そして、当該機構を備えた有機EL成膜装置を提供する。
【解決手段】真空蒸着チャンバ中で、基板とメタルマスク83とのアライメントを行って蒸着材料を当該基板に蒸着する有機EL成膜装置におけるメタルマスクの冷却機構は、メタルマスクを間に挟み込んで、外形「ロ」の字状に形成され、一方の表面上に前記マスクを取り付ける固定フレーム82の外枠に沿って設けられる、複数の固定板84を備えており、固定板は、各々、熱伝導性に優れた部材により細長い板状に形成されると共に、その内部には冷媒を流すための流体流路を形成すると共に、更に、固定板の各々には、前記固定板の流路に冷媒を供給するための配管と排出するための配管とを設けた。 (もっと読む)


【課題】透過照明方式により性能に優れ、かつ、マスクの有効活用が可能となるマスクアラインメント光学システムを提供する。
【解決手段】蒸着材料を基板上に蒸着する真空蒸着チャンバ1中において、基板6とメタルマスク102とのアライメントを行うマスクアラインメント光学システムでは、メタルマスクの周囲に形成されて四隅にL字状の導光路が形成された固定フレーム101と、基板を表面に搭載すると共に、その四隅にL字状の導光路が形成されたステージ201を備えており、固定フレームの一部に形成された導光路103、及び、ステージの一部に形成された導光路内に導かれた光によるアラインメントマークの透過像によって、メタルマスクとのアライメントを行うマスクアライメント光学システム。 (もっと読む)


【課題】厚さが均一なコーティングを得る方法を提供すること。
【解決手段】材料を気化させて基板の表面に膜を形成する方法は、所定量の材料を気化装置の中に供給し、その気化装置の中にあるその材料を第1の温度状態に加熱し、その材料の一部に作用する熱パルスを印加してその材料のその部分を気化させることにより基板の表面に付着させる操作を含んでいる。 (もっと読む)


【課題】アクチュエータを設けることなく、基板を確実に保持できる有機ELデバイス製造装置を提供する。
【解決手段】基板ホルダー91と、基板搬送機から基板6を受取るための基板受けピン66と、基板ホルダー昇降機構68と、基板ホルダー91の端部に設けられ、基板クランプ61とクランプ支持金具62とクランプ付勢バネからなる基板保持機構と、基板6を基板クランプ61から解放するためのクランプ開閉ピン67とを備え、クランプ支持金具62は縦方向に回転し第1の腕62a
と第2の腕62cを有し、第1の腕62aの端には基板クランプ61の一端が固定され、第2の腕62cの端には縦方向に回転する回転部が設けられ、基板クランプ61が基板6を基板ホルダー91に押圧するよう、有機ELデバイス製造装置を構成する。 (もっと読む)


【課題】エネルギー線照射システムにおいて、ワークに効率的にエネルギー線を照射できるようにしながらも、飛躍的なコンパクト化を可能とする。
【解決手段】エネルギー線IBを所定の照射領域Pに向かって射出するエネルギー線射出機構と、前記エネルギー線IBが照射される対象物である第1ワークW1を、前記照射領域Pを含む第1周回軌道O1に沿って周回させる第1周回機構1と、前記エネルギー線が照射される対象物である第2ワークW2を、前記照射領域P1を含む第2周回軌道O2に沿って周回させる第2周回機構2とを具備し、各周回軌道によって形成される仮想の周回面と垂直な方向から視たときに、前記第1周回軌道O1で囲まれる領域と前記第2周回軌道O2で囲まれる領域との少なくとも一部が重なるように構成した。 (もっと読む)


【課題】
各処理室間のゲートバルブ等を設けずに長尺の基板を搬送し、且つ、各処理室を真空に保持し、連続的に成膜処理することである
【解決手段】
基板連続処理装置は、第1組の前処理室,成膜処理室,後処理室の連結可能な連続体からなり、またこの連続体と合体でき得る第2組の前処理密封室,成膜処理密封室,後処理密封室の連結可能な連続体で構成される。また第2組の前処理密封室,成膜処理密封室,後処理密封室には、基板が通過でき得る溝が設けられ、前処理室密封,成膜処理密封室及び後処理密封室にはシールするために、1つ若しくは複数の密封材(Oリング等)を設置するための、密封材用取り付け溝を設置してなる構成により課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】大型の基板に蒸着を行うための防着板の取付け/取外しが容易で、メンテナンス作業の向上が可能となる真空成膜装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバと、真空チャンバ内に設けられて蒸着材料を蒸発して供給する蒸着源と、真空チャンバ内に導入された基板を直立した状態でマスクの所定の位置に位置合わせするための機構と、位置合わせ機構により、直立した状態で前記マスクに対して位置合わせされた基板の蒸着表面に沿って、蒸着源を移動させる手段と、マスクと前記蒸着源との間に配置されたベースプレートとを備えた真空成膜装置において、真空チャンバ内において、蒸着源から供給されてマスクを介して前記基板の蒸着表面に蒸着されると共にその周囲にも飛散する蒸発した蒸着材料が付着する壁面に、薄膜状の防着膜100を着脱可能に取り付けるための手段を備える。 (もっと読む)


【課題】タッチパネルに用いた際の高温高湿条件下での抵抗値安定性、およびペン入力耐久性に優れる透明導電性フィルム及びその効率的な製造方法を提供すること。
【解決手段】透明プラスチックフィルム基材の少なくとも一方の面に、酸化スズ添加酸化インジウムの透明導電膜が積層された透明導電性フィルムであって、透明導電膜の膜厚方向に対して、透明プラスチックフィルム基材側から表層側に向かって酸化スズの含有量が連続的に、および/または、段階的に減少していて、かつ、表層側の透明導電膜に含まれる酸化スズの含有量が0.5〜8質量%であり、かつ、透明プラスチック基材側の透明導電膜に含まれる酸化スズの含有量が表層側の含有量より20〜60質量%多く、かつ透明導電膜の全体の厚みが16〜50nmであり、かつ酸化スズの含有量が0.5〜8質量%の透明導電膜の厚みが15nm以上である透明導電性フィルム。 (もっと読む)


【課題】内部気圧の変動によるチャンバの変形によってもロボットハンドの位置変動がなく、かつ、比較的安価に実現可能な構造の基板搬送装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバと、前記真空チャンバ内に設けられ、搬入された基板を保持して所望の位置に搬送するための搬送ロボットを備えた基板搬送装置であって、前記搬送ロボットは、当該基板搬送装置を設置する床面に固定されると共に、その一部を、Oリングを介して、前記真空チャンバを構成する壁の一部に、当該真空チャンバ内を気密に保持可能で、かつ、相互に移動可能して、取り付けられている。 (もっと読む)


【課題】異なる組成のスパッタリングターゲットを使用して、インラインで積層し、短時間の加熱処理で結晶性を有することができ、低抵抗の透明導電膜を有した透明導電性積層体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電膜はIn、Sn、Oを主成分とし、Snの含有量が1重量%以上4重量%以下であるインジウム・スズ複合酸化物からなる第一透明導電膜3aと、同じくIn、Sn、Oを主成分とし、Snの含有量が4重量%超え、10重量%以下であるインジウム・スズ複合酸化物からなる第二透明導電膜3bで形成され、前記第一及び第二透明導電膜の膜厚がそれぞれ10nm以上30nm以下であり、両者の透明導電膜の合計厚みが20nm以上40nm以下であり、真空中で加熱温度が120℃以上200℃以下であり、加熱時間が1分以上、30分以下の条件で加熱処理することで前記第一及び第二透明導電膜のいずれも結晶化することを特徴とする。 (もっと読む)


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