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Fターム[4K030EA00]の内容

CVD (106,390) | 原料ガスの処理 (4,687)

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【課題】液中プラズマを用い基材をマスキングして成膜を行うことで、従来と同様の形状はもちろん、従来とは異なる形状の被覆膜をも得られる液中プラズマ成膜方法、それにより成膜される被覆膜および液中プラズマ成膜装置を提供する。
【解決手段】原料を含む液体Lに、基材Sと基材Sの被成膜面Sを覆う複数の貫通孔をもつマスク2とを配設する配設工程と、液体Lに気泡Bを発生させる気泡発生工程と、前記原料からなるプラズマを気泡Bに発生させるプラズマ発生工程と、を経て、プラズマを内包する気泡Bをマスク2を通じて被成膜面Sに接触させて、被成膜面Sに原料の分解成分を堆積させる。配設工程におけるマスク2の配設状態によっては、従来の気相プラズマで形成されるようなセグメント形態の膜とは異なる形態の被覆膜が得られる。 (もっと読む)


【課題】 液状の原料を確実に気化させることができ、配管や処理チャンバ内の汚染を防止して良好な表面処理を可能とする表面処理装置を提供する。
【解決手段】 被処理物Sが配置される処理チャンバ2と、この処理チャンバに接続された気化器6とを備え、この気化器にその表面処理を行う表面処理装置において、前記気化器6から処理チャンバ内に通じ被処理物に至る経路に原料が衝突する加熱体9、10を設けた。 (もっと読む)


【課題】成膜処理時に容器内や導入管内からパーティクルが流出するのを防止することができる粉体状ソース供給系の洗浄方法を提供する。
【解決手段】基板処理システム10は、粉体状ソース供給系12と成膜処理装置11とを備え、粉体状ソース供給系12は、粉体状ソース13(タングステンカルボニル)を収容するアンプル14と、該アンプル14内へキャリアガスを供給するキャリアガス供給装置16と、アンプル14及び成膜処理装置11を接続する粉体状ソース導入管17と、該粉体状ソース導入管17から分岐するパージ管19と、粉体状ソース導入管17を開閉する開閉弁22とを有し、成膜処理に先立って、開閉弁22が閉弁し且つパージ管19内を排気する際に、キャリアガス供給装置16が、キャリアガスによる粘性力が成膜処理時におけるキャリアガスによる粘性力よりも大きくなるようにキャリアガスを供給する。 (もっと読む)


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