【課題】基板を反応室内に精度よくセットして成膜を行うことができる成膜装置及び複合成膜装置を提供する。
【解決手段】基板Ｓを装着した基板アダプタ２を反応室１に搬送する搬送手段と、搬送手段により搬送された基板アダプタ２を、位置決め機構２ｂ，２０ａにより位置決めして保持する保持手段２０と、保持手段２０により保持された基板アダプタ２を反応室１内に固定する固定手段１ａ，２０ｂと、固定手段１ａ，２０ｂにより基板アダプタ２を固定した状態で、基板２の被成膜面Ｐに成膜を行う成膜手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】 自動生産効率の向上及び障害発生時のリカバリ処理の短縮を可能とする。
【解決手段】 第１の制御手段（主制御部１２）と第２の制御手段１１とを有する。主制御部１２は、装置本体のサブユニット１３を制御し、主制御部１２とサブユニット１３との間で送受信される第１の通信電文をロギングする。第２の制御手段１１は、主制御部１２とホストコンピュータ１０との間に介在され、ホストコンピュータ１０と主制御部１２との間で送受信される第２の通信電文をロギングする。第２の制御手段１１は、主制御部１２によりロギングされる第１の通信電文を受け取ることにより、この受け取った第１の通信電文を第２の制御手段１１によりロギングされる第２の通信電文の入出力状態であって、ホストコンピュータ１０、第２の制御手段１１、主制御部、及びサブユニット１３間の入出力状態をディスプレイ１１ｂに表示する。 （もっと読む）

【課題】ポッドにおけるウエハの自然酸化膜の形成を防止する。
【解決手段】ウエハ収納室１０ｃのウエハ出し入れ口１０ｂに蓋体１０ａが着脱自在に装着されるポッド１０と、複数のポッド１０を保管するポッド棚７が設備されたポッド保管室６と、ポッド１０のウエハ収納室１０ｃと連設されるポッドオープナ室６１と、ポッドオープナ室６１に連設されたウエハ移載室１２とを備えたバッチ式ＣＶＤ装置１において、ポッド１０を保持しウエハ収納室１０ｃに窒素ガスを充填するガスステーション８０をポッド保管室６に設備する。待機中のポッドのウエハ収納室に窒素ガスを充填できるので、待機中のポッドでのウエハの自然酸化、待機後のポッドへのウエハ収納ステップ時の自然酸化、待機後のポッドからのウエハの取り出しステップ時のポッドからの酸素の拡散を防止できる。
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【課題】 薄手の基材に対するヤラレを防止して、薄手の基材であっても安定した薄膜形成を可能とする。
【解決手段】 この薄膜形成装置には、互いの放電面が対向されて放電空間を形成するように配置された一対の電極と、基材を支持する支持体とが備えられている。また、薄膜形成装置には、基材が放電空間内で一対の電極のうち、少なくとも一方の電極に沿うように、支持体を電極に密着させて保持する保持機構と、薄膜形成ガスを含有するガスが高周波電界によって活性化されるように前記放電空間に前記ガスを供給し、活性化された前記ガスで前記基材を晒すことで基材の表面上に薄膜を形成するためのガス供給部とが備えられている。そして、基材及び支持体は、再剥離性を有する粘着剤によって密着している。 （もっと読む）

【課題】 メンテナンス時には十分なスペースを確保してメンテナンス作業を容易に行えるとともに、小スペース内に設置することを可能とするスリムな基板処理装置を提供する。
【解決手段】 粗引きポンプ１５、第１の処理室１２Ａ、第２の処理室１２Ｂ等を搭載した第１のキャビネット１０と、電源部や制御部等を搭載した第２のキャビネット２０とが電源ケーブルおよび信号ケーブルを介して連結されている。第２のキャビネット２０の空きスペースＳ内に第１のキャビネット１０を収納した収納状態に設定すると基板処理装置１をスリム化することができる。また第１のキャビネット１０と第２のキャビネット２０とを分離させた分離状態に設定すると、十分なスペースを確保することが可能となるため第１のキャビネット１０に搭載された各種機器のメンテナンス作業を容易とすることができる。 （もっと読む）