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Fターム[4K030GA14]の内容

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Fターム[4K030GA14]に分類される特許

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【課題】ガラス基材の割れおよび反りの発生を抑制して高品質の膜を成膜する。
【解決手段】300℃以上かつガラスの歪点より低い第1加熱温度下で、ガラス基材上に酸化物前駆体を溶質として含む水溶液を噴霧して1層目の膜を形成する第1成膜工程と、第1加熱温度より高い第2加熱温度下で、ガラス基材上に酸化物前駆体を溶質として含む水溶液を噴霧して2層目の膜を形成する第2成膜工程とを備える。また、第2成膜工程後に、ガラス基材をガラスの徐冷点以上の温度下で保持する歪取工程と、歪取工程後に、ガラス基材を室温まで徐冷する徐冷工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】
各処理室間のゲートバルブ等を設けずに長尺の基板を搬送し、且つ、各処理室を真空に保持し、連続的に成膜処理することである
【解決手段】
基板連続処理装置は、第1組の前処理室,成膜処理室,後処理室の連結可能な連続体からなり、またこの連続体と合体でき得る第2組の前処理密封室,成膜処理密封室,後処理密封室の連結可能な連続体で構成される。また第2組の前処理密封室,成膜処理密封室,後処理密封室には、基板が通過でき得る溝が設けられ、前処理室密封,成膜処理密封室及び後処理密封室にはシールするために、1つ若しくは複数の密封材(Oリング等)を設置するための、密封材用取り付け溝を設置してなる構成により課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】成膜の安定性を高めることができる原子層堆積装置及び原子層堆積方法を提供する。
【解決手段】原子層堆積装置100は、ロール・ツー・ロールで搬送される基材の第1の面を支持しつつ、前記基材の搬送方向を第1の方向から前記第1の方向とは非平行な第2の方向へ変換するように構成された第1のガイドローラ11Aと、前記基材の前記第1の面を支持しつつ、前記基材の搬送方向を前記第2の方向から前記第2の方向とは非平行な第3の方向へ変換するように構成された第2のガイドローラ11Bと、前記第1のガイドローラと前記第2のガイドローラとの間に配置され、前記基材の前記第1の面とは反対側の第2の面に対向し、原子層堆積のための原料ガスを前記第2の面に向けて吐出するように構成された第1のヘッド12Aとを具備する。 (もっと読む)


【課題】食品、日用品、医薬品などの包装分野や、太陽電池関連部材や電子機器関連部材などの分野において、通常の加工を施してもガスバリア性が劣化しない、特に高いガスバリア性が必要とされる場合に好適に用いることができる透明なガスバリア性積層フィルムを提供する。
【解決手段】ガスバリア性積層フィルム10は、プラスチックフィルムからなる基材層1の、一方の表面上に第一のプライマー層2と第一のガスバリア層3と第一のガスバリア被膜層4とを、もう一方の表面上に第二のプライマー層5と第二のガスバリア層6と第二のガスバリア被膜層7とを、それぞれ順次積層して構成され、各層が特定の材料から構成され、プライマー層、ガスバリア層およびガスバリア被膜層の厚さが特定の範囲を満たす。 (もっと読む)


【課題】本発明は、太陽電池のバックシート、食品や医薬品等の包装分野に用いられるガスバリアフィルムと製造方法に関するものであって、そのガスバリア層が、基材であるプラスチックフィルムとの密着力に優れるガスバリアフィルムと、その製造においては、インラインでの形成が可能で、高い生産能率を有する生産方法を提供することを課題とするものである。
【解決手段】基材となるプラスチックフィルムの片面、もしくは両面にプラズマ化学的気相成長法(PECVD法)により形成された、SiOxCy膜からなる密着層の膜の組成が、基材表面から膜表面に向けて傾斜的に変化していき、その上にガスバリア層をこの順に、減圧環境化のインライン成膜にて形成するガスバリアフィルムの製造方法。 (もっと読む)


【課題】装置全体を小型化すると共に、作業効率を向上させて生産性を向上させることができる成膜方法及び成膜装置を提供する。
【解決手段】複数のガイドローラーユニット200は、フレキシブル基板107を適宜屈曲させ該フレキシブル基板107の内側に第1空間部201と、この第1空間部201に隣接する第2空間部203とが形成される。また、フレキシブル基板107と、チャンバー100の壁部とで第3空間部203、第4空間部204が形成される。第1空間部201に第1の前駆体ガスが供給される。第2空間部202に第1のパージガスが供給される。第3空間部203に第2の前駆体ガスが供給される。第4空間部204に第2のパージガスが供給される。 (もっと読む)


【課題】高いガスバリア性を備え、基材、ポリマー層及びガスバリア層間の密着性が向上し、屈曲耐性及び環境耐性に優れたガスバリア積層体とその製造方法を提供する。
【解決手段】基材F上に、少なくともガスバリア層G−1、G−2とポリマー層P−1、P−2、P−3とを有し、該ポリマー層P−1、P−2、P−3の少なくとも1層が該ガスバリア層G−1、G−2の少なくとも1層に隣接し、該ポリマー層P−1、P−2、P−3の該ガスバリア層G−1、G−2との接触界面における平均炭素含有量が該ポリマー層P−1、P−2、P−3の平均炭素含有量より小さいガスバリア積層体1。 (もっと読む)


【課題】電極剥がれや電極内での放電等を防止し、耐熱性に優れた放電電極および放電装置を提供することを目的とする。
【解決手段】従来の電極の部分を導電性の粉体5に替えることで、温度影響による電極剥がれを防止することができる。また、従来の誘電体バリアの部分を、セラミックあるいは石英で形成され、粉体5を収容可能に構成した筒6に替えることで、筒6と粉体5との間に隙間が生じにくいので、放電電圧が上昇しにくく、発熱しにくくなる。また、筒6がセラミックあるいは石英で形成されているので、耐熱性に優れ、ピンホールもなく、非常に長寿命が期待できる。その結果、電極剥がれや電極内での放電等を防止し、耐熱性に優れたプラズマ用電極1を実現することができる。 (もっと読む)


【課題】支持体と、無機膜とを有する機能性フィルムにおいて、優れた機能を発現し、かつ、無機膜の密着性が良好で、さらに、緻密な無機膜の圧縮応力に起因する剥離やクラックの発生を抑制した機能性フィルム、および、その製造方法を提供する。
【解決手段】機能性フィルムの無機膜が、領域Bと、領域Bよりも高密度/薄い領域Aとを有し、領域B−領域A−領域Bの積層構造を1以上有する機能性フィルム、および、支持体を搬送しつつ、搬送方向に配列された複数のプラズマCVDによる成膜手段によって表面温度が20℃以下にならないようにして同じ無機膜を形成することにより、前記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】支持体と、無機膜とを有する機能性フィルムにおいて、支持体のダメージが少なく、かつ、無機膜の密着性が良好で、さらに、緻密な無機膜の圧縮応力に起因する剥離やクラックの発生を抑制した機能性フィルム、および、その製造方法を提供する。
【解決手段】機能性フィルムの無機膜が、領域Bと、領域Bよりも低密度/薄い領域Aとを有し、領域B−領域A−領域Bの積層構造を1以上有する機能性フィルム、および、複数のプラズマCVDによって、成膜領域から外部へのガス流を制御しつつ無機膜を形成することにより、前記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】安価な支持体を用いて、低コストかつ高い生産性で、高いガスバリア性能を有するガスバリアフィルムなど、高性能な機能性フィルムを提供する。
【解決手段】塗布による有機層と、気相堆積法による無機層とを積層してなる機能性フィルムにおいて、有機層のガラス転移温度が100℃以上、厚さが0.05〜3μmであり、かつ、この有機層を、塗料を5cc/m2以上の塗布量で塗布して、減率乾燥状態での粘度が20cP以上、表面張力が34dyn/cm以下となるようにして形成し、この有機層の表面に、プラズマの生成を伴う気相成膜法によって無機層を形成することにより、前記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】長尺な基材に、プラズマCVDによって連続的に成膜を行うロール・ツー・ロールの成膜装置において、成膜領域の入り口側および出口側での、プラズマ端部の影響を低減して、基材や機能性膜の表面がダメージを受けることを防止し、目的とする機能を発現できる機能性膜を、安定して形成することを可能にする成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜手段が電極対の間でプラズマを生成する領域の、基材搬送方向の上流側および下流側の少なくとも一方の端部に配置される絶縁性のプラズマ抑制部材24を有する。 (もっと読む)


【課題】原料収率の向上を図るとともに、超電導用基材の表面への超電導層の成膜を安定して行うことができるCVD装置、及び、超電導線材の製造方法を提供すること。
【解決手段】原料ガスを噴出する原料ガス噴出部41と、テープ状基材Tを支持するとともに伝熱によりテープ状基材Tを加熱するサセプタ33と、サセプタ33を加熱するヒータ35と、原料ガス噴出部41から噴出された原料ガスをテープ状基材Tの表面に案内する延長ノズル43とを備え、テープ状基材Tの幅方向における両側にダミーテープSが配置されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】薄膜層を基材の両面に成膜することで効率良く良好な成膜を実現するプラズマCVD成膜装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバー90内において長尺の基材100を連続的に搬送しながら、当該基材100上に連続的に薄膜層を形成するプラズマCVD成膜装置1であって、第1成膜ロール31が基材100の一方の面100bで当該基材100を巻き掛けることにより、基材100の他方の面100aに第1薄膜層が成膜され、第2成膜ロール32が基材100の他方の面100aで当該基材100を巻き掛けることにより、基材100の一方の面100bに第2薄膜層が成膜されることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】大気圧近傍の処理空間内に雰囲気ガスが流入するのを抑制又は防止し、処理ガスへの不純物混入を低減するプラズマ処理装置の提供。
【解決手段】第1電極11の平面状の放電面11aと、円筒形状の第2電極21の周面との間に処理空間90を形成する。第2電極21を軸線のまわりに回転させて被処理物9を搬送する。第1電極11の一側部に処理ガスの吹出し部30を配置する。第1電極11の他側部に遮蔽部材50を配置する。遮蔽部材50を放電面11a又はそれを覆う固体誘電体層12の処理空間画成面よりも第2電極21に向けて突出させ、その突出量hを処理空間90の最も狭い部分90aの厚さgより大きくする。 (もっと読む)


【課題】ヒートシール性を損なうことなく、優れた消臭性能を有する積層体およびそれを用いた包装体を提供する。
【解決手段】少なくともヒートシール層4を含む消臭性能を有する積層体10である。ヒートシール層4が、メソポーラスシリカからなる消臭剤を0.01〜50質量%、好適には0.5〜35質量%含有する樹脂からなる。メソポーラスシリカは、焼成後、X線回折パターンの少なくとも一つのピークが1.8nmより大きいd間隔を有し、6.7kPa、25℃におけるベンゼン吸着容量が100gあたり15gより大きい無機質、多孔質または非層状の結晶相物質であって、かつ、結晶相が下記式、Mn/q(SiO)で表わされる関係を満足することが好ましい。 (もっと読む)


【課題】本発明は、優れた透明性及び導電性を兼ね備える透明導電性部材を生産性良く製造することができる透明導電性部材の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係る透明導電性部材の製造方法は、金属箔を準備するステップ、
前記金属箔上にグラフェン層を形成するステップ、前記グラフェン層上に、直接又は一若しくは複数の層を介して、未硬化状態又は半硬化状態の反応性硬化型樹脂組成物からなる樹脂層を形成することで、中間部材を得るステップ、前記中間部材の前記樹脂層に透明な基材を重ね、続いて前記樹脂層を硬化させることで、積層物を得るステップ、及び前記積層物から金属箔を除去するステップを含む。 (もっと読む)


【課題】熱CVD法により薄膜付基板を好適に製造し得る方法を提供する。
【解決手段】基板10の薄膜を形成しようとする部分である成膜部10cの他主面10c2に、基板10に吸収される波長域の光を照射することにより成膜部10cを加熱した状態で、成膜部10cの一主面10c1に対向して配置したノズル30から成膜部10cの一主面10c1に向けて反応ガスを供給することにより薄膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】製造過程での薄膜特性の劣化を抑制することができる真空成膜装置用ケース付きリール、真空成膜装置及び薄膜積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】長尺状の基材14が巻回されるリール本体18と、リール本体18を収納するケース32と、ケース32に設けられ、ケース32内に基材14との非反応性ガスを導入可能なガス導入口36と、ケース32に設けられ、基材14がケース32の内部と外部との間で出し入れされる基材出入口38と、リール本体18に一体回転可能に設けられ、基材14上に薄膜を成膜する真空成膜装置に取り付け可能な被取付回転機構60と、を備える。 (もっと読む)


【課題】短時間のうちに簡便にガスバリア性を評価することを可能とする積層フィルムの検査方法を提供する。
【解決手段】基材と、前記基材の少なくとも片方の表面上に形成され、少なくともケイ素、酸素および水素を含む薄膜層と、を備える積層フィルムの検査方法であって、前記薄膜層の29Si固体NMR測定を行って、ケイ素原子に結合する中性酸素原子の数ごとに前記薄膜層内のケイ素原子の存在比を求め、予め求めた、前記薄膜層のガスバリア性と前記ケイ素原子の存在比との対応関係に基づいて、前記薄膜層のガスバリア性を判定する積層フィルムの検査方法。 (もっと読む)


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