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【課題】 誘導結合型のプラズマ処理装置において、アンテナの実効インダクタンスを小さくしてアンテナの長手方向の両端部間に発生する電位差を小さく抑え、それによってプラズマ電位を低く抑えると共にアンテナの長手方向におけるプラズマ密度分布の均一性を高める。
【解決手段】 プラズマ処理装置を構成する平面形状が実質的にまっすぐなアンテナ30は、二枚の矩形導体板31、32を同一平面上に位置するように互いに隙間34をあけて近接させて平行に配置し、かつ両導体板の長手方向Xの一方端同士を導体33で接続した往復導体構造をしている。両導体板31、32に高周波電流IR が互いに逆向きに流される。かつ両導体板31、32の隙間側の辺に開口部37を形成し、それを複数、アンテナ30の長手方向Xに分散させて配置している。 (もっと読む)


【課題】本発明は、電界分布及びプラズマ分布をより均一化させ、大面積の基板にも安定した製膜処理が行える真空処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】リッジ電極21a,21b及び非リッジ部22a,22bを有するリッジ導波管からなる放電室2と、リッジ部31a,31b及び非リッジ部32a,32bを有するリッジ導波管からなる変換器3A,3Bと、放電室2および変換器3A,3Bの内部の気体を排出させる排気手段9と、母ガスをリッジ電極間に供給する母ガス供給手段10とを有し、リッジ電極21a,21bの対向する面間の距離をd、放電室2及び変換器3A,3Bのリッジ導波管の横幅をa、放電室2のリッジ導波管の長さをl、及び供給される高周波電力の真空中波長をλ、と定義した場合に、それぞれ±2%の変動を許容する範囲で以下の式d=0.004λ、a=0.72λ、l=0.52λを満たす真空処理装置1。 (もっと読む)


【課題】 プラズマ放電部を複数並べて任意の大きさの試料に対応できるように放電面積を拡大する場合であっても、単位あたりの電力コストを増加することなく、均一なプラズマ生成が可能なプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】 高周波信号回路13及び高周波電力回路11を有する高周波電源と筐体21と放電電極2とを備えたプラズマ処理装置において、筐体21内に設置された放電電極2と高周波電力回路11とでプラズマモジュールを構成し、複数個並列接続されたプラズマモジュールに高周波信号回路13からの周波数信号を入力する。 (もっと読む)


【課題】改良されたプラズマ均一性制御のための電気的な、ガス流の、及び熱的な対称性を向上させたプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】処理領域102を囲む蓋アセンブリ110及びチャンバ本体アセンブリ140と、チャンバ本体アセンブリ140内に配置された基板支持アセンブリ160と、チャンバ本体アセンブリ140によって排気領域104を画定する排気アセンブリ190であって、チャンバ本体アセンブリ140は処理領域102を排気領域104と流体接続する基板支持アセンブリ160の中心軸CAの周りに対称的に配置された複数のアクセスチューブ180を含む。 (もっと読む)


【課題】基板の一面と他面にそれぞれ機能膜を効率よく成膜することが可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】キャリア35はフレーム41を備えている。フレーム41は、支持した基板Wの一面Wa側、および他面Wb側をそれぞれ露出させる開口(開口部)41a,41bがそれぞれ形成されている。フレーム41の一端には、キャリア35をアノードとして機能させるためのアノード接点43が設けられている。キャリア35は、第一成膜室(プロセス室)や第二成膜室(プロセス室)において、アノード接点43を介して接地側に電気的に接続され、アノードして機能する。 (もっと読む)


【課題】電極剥がれや電極内での放電等を防止し、耐熱性に優れた放電電極および放電装置を提供することを目的とする。
【解決手段】従来の電極の部分を導電性の粉体5に替えることで、温度影響による電極剥がれを防止することができる。また、従来の誘電体バリアの部分を、セラミックあるいは石英で形成され、粉体5を収容可能に構成した筒6に替えることで、筒6と粉体5との間に隙間が生じにくいので、放電電圧が上昇しにくく、発熱しにくくなる。また、筒6がセラミックあるいは石英で形成されているので、耐熱性に優れ、ピンホールもなく、非常に長寿命が期待できる。その結果、電極剥がれや電極内での放電等を防止し、耐熱性に優れたプラズマ用電極1を実現することができる。 (もっと読む)


【課題】高性能の光電変換装置を製造するための結晶質シリコン光電変換層の製膜条件設定方法を提供する。
【解決手段】製膜条件候補に対してSiH流量を増加させて結晶質シリコンからなる光電変換層92を形成し、該光電変換層92の高輝度反射領域の面積割合及び基板面内分布を取得する。分布が均一である場合製膜条件候補を最終製膜条件に設定し、分布が不均一である場合放電電極の各給電点に供給される高周波電力密度を調整して最終製膜条件を設定する。また、予め取得した任意のラマンピーク比を有する光電変換層92についてSiH流量の変化量と高輝度反射領域の面積割合との相関関係に基づいて光電変換層92のラマンピーク比を取得する。取得したラマンピーク比が設計値を満たす場合製膜条件候補を最終製膜条件に設定し、ラマンピーク比が設計値から外れる場合SiH流量、SiH分圧または高周波電力密度を調整して最終製膜条件を設定する。 (もっと読む)


【課題】基板に形成された高いアスペクト比の素子分離溝でも、空洞の発生を抑制して当該溝中にシリコン絶縁膜を埋め込むこと。
【解決手段】高いアスペクト比の素子分離溝が形成された基板を処理室に搬入する基板搬入工程と、前記処理室を第一ガスであるヘキサメチルジシラザン(HMDS)含有ガス雰囲気にするシリコン含有ガス雰囲気工程と、前記処理室を第二ガスであるパージガス雰囲気にする第一パージガス雰囲気工程と、前記処理室を第三ガスである酸素ガスであってプラズマ状態の酸素含有ガス雰囲気にする酸素含有ガス雰囲気工程と、前記処理室を第二ガスであるパージガス雰囲気にする第二パージガス雰囲気工程と、前記シリコン含有ガス雰囲気工程、前記第一パージガス雰囲気工程、前記酸素含有ガス雰囲気工程、及び前記第二パージガス雰囲気工程を繰り返す工程と、を有する半導体装置の製造方法、及びそれを実現する基板処理装置である。 (もっと読む)


【課題】成膜対象の被成膜面に施される薄膜の均一性を向上して成膜精度を向上する。
【解決手段】真空状態に減圧可能な成膜室10にガス供給源から材料ガスが供給される真空チャンバ1と、高周波電源の給電側に接続可能な給電側電極棒および高周波電源の接地側に接続可能な接地側電極棒が対向配置されるとともに、両電極棒の基端が真空チャンバに固定され、両電極棒の先端が電気的に接続されてなり、高周波電源からの電力供給により成膜室内でプラズマを発生させるアレイアンテナユニット30と、基板Wの被成膜面を両電極棒に対向させて保持可能な基板保持部材63と、を備える。基板保持部材に保持された基板Wの被成膜面と電極棒との対向間隔は、両電極棒の先端よりも基端の方が大きくなる関係を維持している。 (もっと読む)


【課題】給電側電極棒と接地側電極棒とを通電可能に接続する接続部材の取り付け容易性を向上する。
【解決手段】交流電源の給電側に接続され、処理室内で軸心を鉛直方向に沿わせて垂下支持される給電側電極棒51と、交流電源の接地側に接続され、給電側電極棒51に対向して処理室内で垂下支持される接地側電極棒52と、給電側電極棒51および接地側電極棒52の先端が進入可能な進入部62が本体61に設けられ、両電極棒51、52の先端をそれぞれ進入部62に進入させた状態で両電極棒51、52の先端近傍に懸架される連結部材60と、進入部62の内部に位置して両電極棒51、52の先端に接触する一対の接触部53a、および、これら一対の接触部53aを接続する接続部53bを有する接続部材53と、を備える。 (もっと読む)


【課題】給電側電極棒と接地側電極棒とを通電可能に接続する接続部材の取り付け容易性を向上させるプラズマ処理装置のアンテナ構造の提供。
【解決手段】交流電源の給電側に接続され、真空チャンバに設けられた処理室内で軸心を鉛直方向に沿わせて垂下支持される給電側電極棒51と、交流電源の接地側に接続され、給電側電極棒51に対向して処理室内で垂下支持される接地側電極棒52と、両電極棒51、52の先端を通電可能に接続する接続部材53と、を備える。給電側電極棒51および接地側電極棒52は、先端を軸心に対して180度湾曲させた懸架部を有し、給電側電極棒51の懸架部と接地側電極棒52の懸架部とに接続部材53が自重によって懸架可能な構成とする。 (もっと読む)


【課題】 誘導結合型の装置であって、アンテナの実効インダクタンスを小さくしてプラズマ電位を低く抑えることができ、しかも当該アンテナによってその長手方向におけるプラズマ密度分布を制御することができるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】 このプラズマ処理装置は、平面形状がまっすぐなアンテナ30を、基板2の表面に立てた垂線3に沿う方向である上下方向Zに互いに接近して配置されていて、高周波電流IR が互いに逆向きに流される往復導体31、32によって構成している。かつ、往復導体31、32間の上下方向Zの間隔Dを、アンテナ30の長手方向Xにおいて変化させている。 (もっと読む)


【課題】発生したプラズマ励起ガスを効率的に取り出すことができる、簡易な構成のプラズマ発生装置を提供する。
【解決手段】プラズマ発生装置は、電極セルと、当該電極セルに交流電圧を印加する電源部17と、前記電極セルを囲繞する筐体と、当該筺体外部から前記電極セルの外周部へと原料ガスを供給する原料ガス供給部とを、備えている。前記電極セルは、低圧電極1と高圧電極3と誘電体2a,2bとを備え、誘電体バリア放電空間6を有し、貫通口PHを有するドーナツ形状である。また、プラズマ発生装置は、貫通口PHの内部に配設されている円筒形状の側面部に噴出孔21xを有する絶縁筒部21と、絶縁筒部21の空洞部21A内の圧力を減圧する、減圧装置とをさらに備えている。 (もっと読む)


【課題】膜厚の均一な炭素膜を、3次元形状の処理物に成膜する成膜装置,炭素膜の成膜方法及び炭素膜を提供すること。
【解決手段】本発明の炭素膜の成膜装置1は、プラズマCVD法によってワークWの表面に炭素膜を形成する炭素膜の成膜装置1であって、真空槽10と、ワークを保持する第一の電極2と、第一の電極2と間隔を隔てた位置にもうけられ、かつ第一の電極2の外周に立設してもうけられた立設部31を備えた原料ガスをイオン化する第二の電極3と、第一の電極2,第二の電極3のそれぞれに独立して電力を供給する電源装置25,35と、原料ガスを供給するノズル42と、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高周波電極の基板が載置されている側の空間におけるプラズマ生成密度の均等化を図ることができる基板支持部材を提供する。
【解決手段】高周波電極12には孔121またはスリット122が設けられている。高周波電極12はそのα倍(0.25≦α≦0.75)の半径αrを有する同心円Cにより複数の範囲に区分されている。当該範囲のそれぞれにおける孔121またはスリット122の分布または配置態様が差別化されている。 (もっと読む)


【課題】基板上部で安定してプラズマを生成させることができる薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】基板に薄膜を形成する薄膜形成装置は、減圧状態で基板に薄膜を形成する成膜空間を備える成膜容器と、前記成膜容器の前記成膜空間内に、薄膜形成に用いるガスを導入するガス導入部と、前記成膜空間において、前記ガスを用いてプラズマを生成させるプラズマ電極部を有する。前記プラズマ電極部は、電流が一方の端面から他方の端面に流れ、主面が前記成膜空間に向く、矩形形状のプラズマ生成用電極板と、前記電極板の前記主面の中央部分に前記電流の流れる方向に沿って設けられる凹状の溝部を充填するように設けられ、前記成膜空間に向く端部が同じ極性を有する磁石と、を備える。 (もっと読む)


【課題】アレイアンテナユニットのメンテナンス作業を簡素化する。
【解決手段】プラズマCVD装置は、真空状態に減圧可能な内部にガス供給源から材料ガスが供給される真空チャンバと、真空チャンバに設けられ高周波電源に電気的に接続された複数のコネクタと、これらコネクタそれぞれに接続可能な複数本の電極棒51を有し、高周波電源から電力供給されることによりプラズマを発生させるアレイアンテナユニットと、を備える。アンテナ搬送体70は、真空チャンバ内を移動可能であって、アレイアンテナユニットを着脱自在に保持するアンテナ保持部材73、および、このアンテナ保持部材73に保持されたアレイアンテナユニットを昇降するエアシリンダ76を有する。アンテナ保持部材73には、アレイアンテナユニットを揺動可能に保持する荷重受け部77が設けられる。 (もっと読む)


【課題】装置が大型化することなく、また、コストを抑制しながらも、アレイアンテナユニットのメンテナンス作業を簡素化する。
【解決手段】真空チャンバ1の天井部2aには高周波電源に電気的に接続された複数の天井側コネクタが設けられる。アレイアンテナユニット30は、天井側コネクタに接続可能な複数本の電極棒を有し、電極棒が天井側コネクタに接続された状態で高周波電源から電力供給されることによりプラズマを発生させる。真空チャンバ1内には、基板を保持する基板搬送体60の車輪62をガイドするガイドレール17が設けられる。アンテナ搬送体70は、基板搬送体60と共通のガイドレール17にガイドされる車輪72を備えており、アレイアンテナユニット30を着脱自在に保持した状態で、真空チャンバ1内を移動可能となっている。 (もっと読む)


【課題】結晶性、電気的特性、および光学特性等に優れたInNを含む半導体層を成膜する方法を提供する。
【解決手段】本発明のInNを含む半導体層の成膜方法は、プラズマで分解された水素原子と、In金属またはInを含む化合物からなるIn源とを反応させることによってIn水素化物を形成するステップと、プラズマで窒素を分解することによって原子状窒素を形成するステップと、In水素化物と原子状窒素とを反応させることによって、基板上にInNを含む半導体層を形成するステップとを含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】アレイアンテナユニットのメンテナンス作業を簡素化する。
【解決手段】アレイアンテナユニット30を保持して真空チャンバ1内を移動可能なアンテナ搬送体は、複数本の電極棒51、52を垂下させた状態でアレイアンテナユニット30を保持する一対の支柱75a、75bと、これら一対の支柱75a、75b間に懸架され、アレイアンテナユニット30の電極棒51、52の配列方向に長手方向を沿わせて位置する調整部材78と、を備える。調整部材78は、アレイアンテナユニット30の電極棒51、52の配列方向に延在する延在部78a、および、延在部78aから当該延在部78aの長手方向に交差する方向に突出し、隣り合う電極棒51、52の対向面に臨む移動制限部78bを有する。移動制限部78bは、延在部78aの長手方向に交差する方向にスライドして、電極棒51、52の対向面から退避可能に設けられている。 (もっと読む)


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