【課題】成分汚染が生じ難く、それと共に半導体製造装置におけるパーティクルの発生を十分に減少させることのできる半導体製造装置用部材を提供する。
【解決手段】搬送アーム１の載置部材１６にセラミックを溶射して溶射皮膜を形成し、この溶射皮膜にレーザービームを照射して、セラミック組成物を再溶融、再凝固させて変成させたセラミック再結晶物からなる高強度セラミック層５を形成し、半導体製造装置５０における外的要因により、載置部材１６から脱落する粒子を、半導体製造プロセスに影響を与えない程度に低減させる。 （もっと読む）

【課題】冷延鋼帯を連続的に電気めっきする際に、アークスポットの発生を的確に抑制することができる冷延鋼帯の表面処理方法を提供する。
【解決手段】冷延鋼帯をめっき液中に浸漬し、通電用ロールから当該鋼帯に電気を流して、連続して電気めっきをする際に、ＰＰＩ（２５．４ｍｍ当たりの粗さ中心線を超える山数）を１５００以下とする表面粗さを有する通電用ロールを用いて、アークスポットの発生を抑制することを特徴とする冷延鋼帯の表面処理方法。 （もっと読む）

【課題】イットリアを主成分とする皮膜で被覆された部材であって、主に、半導体や液晶製造用等のプラズマ処理装置部材として用いることができ、緻密で表面が滑らかであり、プラズマ処理時にパーティクルや金属不純物の発生によって被処理品を汚染することがなく、かつ、強度及び耐久性に優れた耐食性部材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】セラミックス又は金属からなる基材の少なくともプラズマ又は腐食性ガスに曝される部位の表面に、少なくとも１層の耐食膜が形成された耐食性部材において、前記耐食膜が、イットリアを主成分とし、タンタル又はニオブの少なくともいずれか１種を前記イットリアに対して五酸化物換算で０．０２〜１０ｍｏｌ％含有し、かつ、未溶融部が存在しないものとする。 （もっと読む）

【課題】バルブ用金属製弁箱の外面に防食被膜を溶射により均一かつ能率的に形成することができ、しかも、作業環境が良好で、未付着の溶射材の回収が確実に行える、バルブ用金属製弁箱への防食被膜の形成装置を提供する。
【解決手段】両端部に受口が形成され、中央部に弁棒取付用フランジが形成されているバルブ用金属製弁箱２９の外面に、防食被膜を溶射により形成する装置であって、ターンテーブル１と、ターンテーブル１上に、ターンテーブル１の回転方向に沿って間隔をあけて設けられた、それぞれ鉛直軸を中心として回転可能な複数個の弁箱固定手段と、溶射ガン１０が取り付けられたロボット９と、開閉扉１２を有し、ロボット９とターンテーブル１の一部を、少なくとも１つの前記弁箱固定手段とともに遮蔽する集塵ブース１１とからなり、ロボット９は、集塵ブース１１内のバルブ用金属製弁箱２９の外面に向けて、溶射ガン１０から溶射材を溶射する。 （もっと読む）

【課題】比重の異なる酸化物系セラミックと重金属の粉末を物理的に混合してなるサーメット溶射用粉末材料を用いて溶射皮膜を形成すると、セラミックと金属とが不均等な状態で溶射皮膜中に分布するため、サーメット溶射皮膜としての機能を十分発揮することができない。
【解決手段】酸化物系セラミック粒子の表面に、無電解めっき法によってＮｉまたはＮｉ−Ｐ、Ｎｉ−Ｂ合金のめっき膜を０．３〜５μｍの厚さで被覆した非混合形サーメット粉末をつくり、このサーメット溶射用粉末材料を用いて溶射皮膜を形成することによって、該溶射皮膜を被成してなる部材の緻密性、密着性、耐摩耗性、耐プラズマ・エロージョン性などを向上させる。 （もっと読む）

【課題】ターゲット部材に対して噴射材を吹き付ける噴射装置について、作業者の力量や噴射装置を動作させるプログラムの違いによらず、短時間且つ高い精度でその付着位置を補正する手段を提供する。
【解決手段】本発明に係る噴射装置の付着位置補正方法は、ターゲットプレート及び溶射ガン１２の一方を他方に対して相対移動させることにより対向させる工程と、目標位置２２に向かって溶射ガン１２から噴射材を吹き付ける工程と、付着位置２３から目標位置２２までの射芯ズレ量を計測する工程と、射芯ズレ量及び離間距離に基づいて、ターゲットプレートに対して噴射材が垂直に吹き付けられるように溶射ガン１２の角度補正量θを算出する工程と、溶射ガン１２とターゲットプレートとの相対的な位置関係を、角度補正量θ及び射芯ズレ量の分だけ変更する工程と、を含むものである。 （もっと読む）

【課題】部分的な補修を行なった場合でも、健全部と同等の耐久性を有する補修部を得ることのできる補修方法を提供する。
【解決手段】基材３上に金属からなるアンダーコート層７と、ＰＳＺからなるトップコート層９と、が順に形成されたタービン部材１において、トップコート層９の表面に生じた凹状の剥離部９ｃをＰＳＺからなる補修部９ｂで埋める、タービン部材１の補修方法に関する。補修部９ｂの周囲に配置される健全部９ａを形成するのに用いられた健全部形成用ＰＳＺ粉末よりも粒度が大きく、かつ中実な粒子から構成される補修部形成用ＰＳＺ粉末を、凹部に向けて溶射することで補修部９ｂを形成する。 （もっと読む）

【課題】 下地層なしに容易にかつ安価に基材表面を改質できる鉛フリーはんだ用部材の新たな製造方法と、その方法により製造した、基材と表面層の密着力が大きく、耐鉛フリーはんだ性の高い、表面改質をした鉛フリーはんだ用部材を提供する。
【解決手段】 本発明は、表面にWC-Co系サーメット溶射皮膜を形成した鉛フリーはんだ用部材に関するものであり、前記鉛フリーはんだ用部材としては、はんだ溶解槽または、はんだ撹拌羽が挙げられる。また、本発明は、鉛フリーはんだ用部材の金属基材の表面をブラスト処理により粗面化し、該表面にWC-Co系サーメット材料を溶射し、前記金属基材の表面に溶射皮膜を形成することを特徴とする前記鉛フリーはんだ用部材の製造方法に関するものである。 （もっと読む）

【課題】コールドスプレー法を用いてステンレス基材に金属皮膜を形成させた積層体を製造する場合に、ステンレス基材と金属皮膜との間の密着強度が高い積層体の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の積層体１０の製造方法は、ステンレス基材１を、金属皮膜２の材料の融点に対する比率が．４０以上０．６５以下の温度であって、かつステンレス基材１の融点に対する比率が０．５以下の温度に加熱し、加熱したステンレス基材１の表面に、金属皮膜２の材料である材料粉体を該材料粉体の融点より低い温度に加熱されたガスとともに固相状態のままで吹き付けて堆積させることによって金属皮膜２を形成する。 （もっと読む）

【課題】鉄骨が露出した構造物においてケレンやオープンブラストの粉塵の飛散を防止し、オープンブラスト、溶射や塗装等の表面処理における環境汚染を回避し、作業員の安全な作業環境を確保する。
【解決手段】上記課題を解決するために、本発明にかかる鉄骨の表面処理用ブース１００の代表的な構成は、鉄骨１２に取り付けられ鉄骨１２の軸方向にほぼ直交する端面１１２、１３２を形成する複数の端面部材（上端面部材１１０、下端面部材１３０）と、端面部材に張り渡されて鉄骨１２の周囲に空間を形成するシート１５０と、端面部材の外周部近傍に配置されシート１５０を固定するクランプ１２８、１４８と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】オープンラック式気化器（ＯＲＶ）等に用いられた際に、耐食性、特に腐食環境下で長期にわたって使用可能な耐食性に優れる耐食性アルミニウム合金部材およびＯＲＶの伝熱管またはヘッダー管を提供する。
【解決手段】耐食性アルミニウム合金部材２０は、アルミニウム合金からなる基材２１と、基材の表面の少なくとも一部に被覆されたアルミニウム合金からなる厚さ２５０μｍ以上の犠牲陽極皮膜２２とを備え、犠牲陽極皮膜２２は、その最表面から深さ１５０μｍまでの領域（表面側領域２２Ｂ）において、その厚さ方向の断面における気孔２３の面積率が５％以上１５％以下、かつ、孔径５μｍ以上の粗大気孔２３ａの割合が７０％以上であり、さらに、最表面から深さ１５０μｍを超えて基材２１との界面２４までの領域（界面側領域２２Ａ）において、その厚さ方向の断面における気孔２３の面積率が５％未満、かつ、粗大気孔２３ａの割合が６０％以下である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、溶融材料をスリットから外部に吐出させるためのガイド部材を提供する。
【解決手段】本発明のガイド部材は、外部に溶融材料が吐出する境界のエッジ部に溶射法を用いて金属基材の表面に形成した超硬合金層に摩擦攪拌プロセスを施し、該超硬合金層に含まれる結合相の結晶粒を微細化することで改質された超硬合金改質層で形成される。このガイド部材は、溶融材料の押し出し成形に使用するＴダイに適しており、超硬合金改質層が形成されるエッジ部は、溶融材料を外部まで案内するＴダイのスリットの開口端側の内壁である。 （もっと読む）

【課題】母材に対する溶射粉の付着性を向上させることができ、吹き付け作業回数の低減に貢献することができる溶射粉及び溶射粉の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の溶射粉は、真密度に対するかさ密度の相対密度が４６％以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】セラミックス基材に対する電極の剥離を抑制可能で、小型化が可能な電極構造などを提供すること。
【解決手段】セラミックス基材１２上に設けられる導電層３０と、導電層３０に固定される電極４０とを有する電極構造２０において、導電層３０は、少なくとも一部が多孔質であって、電極４０と接触する表面に微細な凹凸を有し、電極４０は、導電層３０の凹凸の凹部３１に入り込んだアンカー部４６を有する。 （もっと読む）

【課題】スパッタリングによる透明電極膜の安定な形成等の観点から品質の確実な向上を図りながらスパッタリングターゲットを製造する方法等を提供する。
【解決手段】ターゲットホルダーに対して酸化亜鉛を主成分とする粉末原料が溶射されることにより、ターゲット材が形成される。この際、加速エネルギーｘ［ｇ／ｍｉｎ／ｍｍ^２］および熱エネルギーｙ［ｋＪ／ｋｇ］の組み合わせが、ｘ−ｙ平面において所定の領域に収まるように調節される。 （もっと読む）

【課題】基材に溶射皮膜を設けた真空装置用部品において、膜剥がれ、微小パーティクルの発生を低減した真空装置用部品を溶射皮膜溶射皮膜提供する。
【解決手段】基材１と前記基材の上に設けられた溶射皮膜３とを有する真空装置用部品において、前記溶射皮膜は、高融点金属粒子またはセラミック粒子の少なくとも一種と、アルミニウム粒子を用いて形成し、前記溶射皮膜が、金属溶融膜膜片５と、粒子６と、空隙７とを有し、空隙率が１２％以上４０％以下である。 （もっと読む）

【課題】ガラス製造装置等の高温装置を構成する白金族貴金属の揮発損失を抑制する方法を提供する。
【解決手段】本発明は、白金族貴金属からなる高温装置の外表面の揮発防止方法であって、前記高温装置の外表面に、安定化ジルコニアからなる厚さ５０〜５００μｍのコーティング層を溶射により形成する方法である。本発明が有用な高温装置としては、ガラス製造用途における各種の桶、るつぼ、パイプやガラス繊維紡糸用のブッシングの他、単結晶育成用るつぼやるつぼ付帯冶具等が挙げられるも。 （もっと読む）

【課題】基材基部の金属にさらなる処理をすることなく、縁部が鋭い直角に形成されたチャネルを、構成部品内に形成するための方法を提供する。
【解決手段】構成部品１００を作製する方法は、基材１１０の表面１１２上に一時的被覆を堆積するステップを含み、基材は中空の内部空間１１４を有する。方法は、基材の表面に溝１３２を形成するように、一時的被覆を通って基材を機械加工するステップを含む。溝は基部を有し基材の表面に沿って延びる。方法は、各溝を各中空の内部空間とそれぞれ流体連通して連結するように、溝のそれぞれの基部を通って、のアクセス孔を形成するステップを含む。方法は、溝を充填剤で充填するステップ、一時的被覆を除去するステップ、基材の表面の上に被覆１５０を配設するステップ、および溝および被覆がともに構成部品を冷却するための多数のチャネル１３０を画成するように、充填剤を溝から除去するステップを含む。 （もっと読む）

【課題】真空成膜装置で内部応力が大きい薄膜を成膜する際に、成膜工程中に付着する成膜材料の剥離を安定かつ有効に防止し、装置クリーニングや部品の交換などに伴う生産性の低下や成膜コストの増加を抑える。
【解決手段】Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｕ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｇ、ＡｕおよびＩｎから選ばれる金属元素の単体、もしくは前記金属元素を含む合金または化合物の薄膜を成膜する真空成膜装置の構成部品の製造方法であって、部品本体の表面にＣｕの含有比率が６５〜９５質量％の範囲のＣｕ−Ａｌ合金からなるＣｕ−Ａｌ合金膜を形成する工程と、前記Ｃｕ−Ａｌ合金膜に１．３３×１０^−３Ｐａ以下の真空雰囲気中で３００〜８００℃の温度でアニール処理を行う工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、海底トンネルや海岸沿い、又は、連接軌道踏切等に敷設する鉄道用レールに於て、耐腐食性と耐電食性を安定して改善した鉄道用レールを提供する。
【解決手段】底部４の上面４Ａ及び下面４Ｂに、亜鉛とアルミニウムとが４０：６０〜５０：５０の体積比で構成される溶射皮膜２を被覆形成している。 （もっと読む）