【課題】半導体デバイス製造装置やフラットパネルディスプレイデバイス製造装置などのプラズマエロージョンを防止する目的において有用な溶射皮膜の形成に適した溶射用スラリーを提供する。
【解決手段】本発明の溶射用スラリーは、酸化イットリウム粒子及び分散媒を含有する。酸化イットリウム粒子の純度は９５質量％以上であり、酸化イットリウム粒子の平均粒子径は６μｍ以下であり、溶射用スラリー中の酸化イットリウム粒子の含有量は１．５〜３０体積％である。酸化イットリウム粒子のＢＥＴ比表面積は、好ましくは１〜２５ｍ^２／ｇである。また、液圧測定法による溶射用スラリーの相対堆積割合は、好ましくは３０％以下である。 （もっと読む）

【課題】窯炉を補修する際に、溶射補修に適用される溶射材料とその製造方法、及び溶射施工体において、溶射材料の化学組成を従来にはない構成とすることにより、溶射材料及び溶射施工体の耐用性を従来よりもさらに向上させ、窯炉の寿命延長を図る。
【解決手段】２５質量％以上４０質量％以下の黒鉛原料と、６０質量％以上７５質量％以下の酸化物原料とを、外掛けで１質量％以上３質量％以下のフェノール樹脂を結合材として用いて混合後、当該混合物を非酸化性雰囲気において９００℃以上の温度で３時間以上熱処理して得られた熱処理体を粉砕することにより得られ、１０μｍ以上１４０μｍ以下の粒度を有する溶射材料を用いる。 （もっと読む）