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Fターム[4K031CB42]の内容

溶射又は鋳込みによる被覆 (8,522) | 溶射材料−粉末材料 (3,144) | 粒子の材質 (2,634) | セラミック質 (970) | 酸化物又はそれを主成分とする (558)

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【課題】連続焼鈍炉用ハースロール周面の表面粗度の評価指標として適切な指標を用いることで、ロール周面に対する異物の付着を抑制する。
【解決手段】本発明の連続焼鈍炉用ハースロール10は、ロール周面の周方向の表面粗度が、Rskで0未満であることを特徴とする。これにより、ハースロール10のロール周面の表面粗度の評価指標としてRskを用い、ロール周面の表面粗度をRskで0未満として、適切な粗度に調整できるので、ロール周面に対する異物の付着を抑制できる。 (もっと読む)


【課題】成分汚染が生じ難く、それと共に半導体製造装置におけるパーティクルの発生を十分に減少させることのできる半導体製造装置用部材を提供する。
【解決手段】搬送アーム1の載置部材16にセラミックを溶射して溶射皮膜を形成し、この溶射皮膜にレーザービームを照射して、セラミック組成物を再溶融、再凝固させて変成させたセラミック再結晶物からなる高強度セラミック層5を形成し、半導体製造装置50における外的要因により、載置部材16から脱落する粒子を、半導体製造プロセスに影響を与えない程度に低減させる。 (もっと読む)


【課題】過大なクラックの発生を防止しつつ、十分な効果が得られる緻密化層を形成し、それ共にコストアップを招かない溶射皮膜における緻密化層の形成方法、及び溶射皮膜被覆部材を提供する。
【解決手段】Al溶射皮膜5の表層6の皮膜組成物を再溶融、再凝固させる高エネルギービームを、Al溶射皮膜5の表面5aへ走査する際に、走査方向へ向けて先行して走査させる先行レーザービーム20と、この先行レーザービーム20と同一軌跡上で追従して走査させる追従レーザービーム21とで構成し、先行レーザービーム20をAl溶射皮膜5の表面5aへ走査させながら照射すると共に、追従レーザービーム21を当該先行レーザービーム20で走査した被照射領域22へ走査させながら重ねて照射し、当該被照射領域22の表層6を緻密化する。 (もっと読む)


【課題】多様な用途に対応するために、層状被膜を形成するために逐次的に又は複合被膜若しくは連続傾斜被膜を形成するために同時にナノ構造層及びミクロ構造層を堆積させる被膜組成及びミクロ構造の制御を可能にする方法を提供する。
【解決手段】a)ミクロサイズ粒子を含む粉末原料をプラズマ溶射プルーム中に噴射する工程;及びb)液体前駆体溶液を含む液体原料を該プラズマ溶射プルーム中に噴射する工程を含み、該粉末原料の噴射及び該液体原料の噴射は独立に制御可能である、プラズマ溶射銃における粉末原料及び溶液前駆体原料の同時供給を用いて複合プラズマ溶射被膜を生成する方法が開示される。この新規方法を使用して生成される熱遮蔽被膜は、従来の空気プラズマ溶射被膜と比較して2倍の寿命を実証した。 (もっと読む)


【課題】イットリアを主成分とする皮膜で被覆された部材であって、主に、半導体や液晶製造用等のプラズマ処理装置部材として用いることができ、緻密で表面が滑らかであり、プラズマ処理時にパーティクルや金属不純物の発生によって被処理品を汚染することがなく、かつ、強度及び耐久性に優れた耐食性部材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】セラミックス又は金属からなる基材の少なくともプラズマ又は腐食性ガスに曝される部位の表面に、少なくとも1層の耐食膜が形成された耐食性部材において、前記耐食膜が、イットリアを主成分とし、タンタル又はニオブの少なくともいずれか1種を前記イットリアに対して五酸化物換算で0.02〜10mol%含有し、かつ、未溶融部が存在しないものとする。 (もっと読む)


【課題】比重の異なる酸化物系セラミックと重金属の粉末を物理的に混合してなるサーメット溶射用粉末材料を用いて溶射皮膜を形成すると、セラミックと金属とが不均等な状態で溶射皮膜中に分布するため、サーメット溶射皮膜としての機能を十分発揮することができない。
【解決手段】酸化物系セラミック粒子の表面に、無電解めっき法によってNiまたはNi−P、Ni−B合金のめっき膜を0.3〜5μmの厚さで被覆した非混合形サーメット粉末をつくり、このサーメット溶射用粉末材料を用いて溶射皮膜を形成することによって、該溶射皮膜を被成してなる部材の緻密性、密着性、耐摩耗性、耐プラズマ・エロージョン性などを向上させる。 (もっと読む)


【課題】比重の異なる酸化物系セラミックと重金属の粉末を物理的に混合した状態でサーメット溶射皮膜を形成すると、セラミックと重金属の両粉末は、不均等な状態で皮膜中に分布するため、サーメット溶射皮膜としての機能を十分発揮することができない。
【解決手段】酸化物系セラミック粒子の表面に、無電解めっき法によってNiまたはNi−P、Ni−B合金膜を0.3〜5μmの厚さで被覆形成した非混合形サーメット溶射用粉末材料を用いて溶射することによって、セラミックと金属とが分離することの溶射皮膜を形成するとともに、その溶射皮膜の表面を高エネルギーを照射して、皮膜表面を再溶融・再結晶化させることにより、一段と高度な緻密性、平滑性、耐食性、耐摩耗性、耐プラズマエロージョン性を有するサーメット溶射皮膜を得る。 (もっと読む)


【課題】溶射性に優れ、かつ、特異な形状を持つスピネル粉末およびその簡便な製造方法を提供し、ガスセンサ素子の保護皮膜形成用の溶射粉末等として、センサの特性バラツキ低減に寄与する製造方法を提供する。
【解決手段】粒状のスピネル粒子で覆われていることを特徴とするスピネル粉末。電融アルミナにマグネシア原料を混合後、焼成することにより得られる。 (もっと読む)


【課題】耐焼付性に優れた転動体、その製造方法及び耐焼付性に優れた転動体を備えた動力伝達装置を提供する。
【解決手段】転動体は、基材と、該基材の表面に形成される皮膜とを備える。この転動体における皮膜は、上記基材の硬度より高い硬度及び上記基材の融点より高い融点を有する少なくとも1種の硬質粒子と金属単体及び合金の少なくとも一方からなる金属材とを少なくとも表面構成要素として含む。
転動体の製造方法は、上記転動体を製造する方法であって、基材の表面への皮膜の形成を、溶射材を用いた溶射法によって行う方法である。この転動体の製造方法における溶射材は、上記基材の硬度より高い硬度及び上記基材の融点より高い融点を有する少なくとも1種の硬質粒子と金属単体及び合金の少なくとも一方からなる金属材とを含む。 (もっと読む)


【課題】部分的な補修を行なった場合でも、健全部と同等の耐久性を有する補修部を得ることのできる補修方法を提供する。
【解決手段】基材3上に金属からなるアンダーコート層7と、PSZからなるトップコート層9と、が順に形成されたタービン部材1において、トップコート層9の表面に生じた凹状の剥離部9cをPSZからなる補修部9bで埋める、タービン部材1の補修方法に関する。補修部9bの周囲に配置される健全部9aを形成するのに用いられた健全部形成用PSZ粉末よりも粒度が大きく、かつ中実な粒子から構成される補修部形成用PSZ粉末を、凹部に向けて溶射することで補修部9bを形成する。 (もっと読む)


【課題】先行技術の諸問題を解決し且つ改善された品質を有するイオン伝導性の、特に酸素透過性の膜を製造することができる、プラズマスプレー法を提供すること。
【解決手段】イオン伝導性を有するイオン伝導膜を製造するためのプラズマスプレー法であって、この膜がプロセスチャンバー内で基材(10)上に層(11)として堆積され、出発材料(P)が、プロセスガス(G)を用いてプロセスビーム(2)の形で基材(10)表面にスプレーされ、この出発材料は、最大で10,000Paの低いプロセス圧力でプラズマに注入され、且つそこで部分的に又は完全に溶融される方法が提供される。酸素(O;22)は、プロセスガスの全流量の少なくとも1%、好ましくは少なくとも2%になる流量で、スプレー中にプロセスチャンバー(12)に供給される。 (もっと読む)


【課題】高温用途材の表面に耐熱性や耐高温摩耗性に優れる溶射皮膜を形成するときに有効な、サーメットからなる溶射粉末材料を得ること。
【解決手段】セラミック粒子と、その表面に被覆されている0.5〜10mass%のWを含有し、かつ残部がNiであるNi−W合金あるいはさらにPやBを含む耐熱合金の無電解めっき膜とからなるサーメット溶射粉末材料であって、粒径が6〜70μmの大きさである高温用途材被覆用サーメット溶射粉末材料およびその製造方法。 (もっと読む)


【課題】溶射効率のよい溶射用粉末を提供する。
【解決手段】本発明の溶射用粉末は、セラミックス粒子を含む溶射用粉末であって、セラミックス粒子のフラクタル次元の値が1.08以下であることを特徴とする溶射用粉末である。セラミックス粒子は造粒−焼結粒子であることが好ましく、セラミックス粒子の平均アスペクト比は1.30以下であることが好ましい。また、溶射用粉末が追加セラミックス粒子を含んでもよく、追加セラミックス粒子のフラクタル次元の値が1.08以上であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】合金元素として多量のMnを含有する高張力鋼板を製造するための焼鈍炉などで長期間使用されても、ロール面に形成されるジルコニア皮膜が破壊され難く、長期間の使用に耐え得るハースロールを提供する。
【解決手段】ロール基材の胴周表面に、溶射により複数層の皮膜を形成したハースロールであって、ロール基材の胴周表面に、下層側から順に、MCrAlX合金(但し、MはCo、Ni、Feの中から選ばれる1種以上、XはY、Hf、Si、Taの中から選ばれる1種以上)からなる第1層皮膜と、安定化剤としてCeOを15〜30mass%含有する安定化ジルコニアからなる若しくは該安定化ジルコニアを主体とするセラミックスからなる第2層皮膜と、安定化剤としてCeOを30〜40mass%含有する安定化ジルコニアからなる若しくは該安定化ジルコニアを主体とするセラミックスからなる最表層皮膜を有する。 (もっと読む)


【課題】耐剥離性の高い補修皮膜を形成する遮熱コーティングの部分補修方法を提供することを目的とする。
【解決手段】遮熱コーティングの部分補修方法は、耐熱合金基材1上に金属結合層2と、ジルコニアを主とするセラミックス層3とが順に形成された部材の前記セラミックス層3の損傷部に、ジルコニアを主とする溶射材を溶射して補修皮膜9を形成する補修皮膜形成工程と、補修皮膜9の周辺のレーザビームの通路となり得る前記セラミックス層3の表面を、レーザ反射能を有する反射材で被覆した後、補修皮膜9の表面にレーザビームを所定条件で照射し、補修皮膜9に縦割れ11を形成する縦割れ形成工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】ペースト材を用いた場合であっても、遮熱性及び熱サイクル耐久性に優れた補修皮膜を形成する遮熱コーティングの補修方法を提供することを目的とする。
【解決手段】遮熱コーティングの補修方法は、耐熱合金基材上に金属結合層とセラミックス層3とが順に形成された部材の前記セラミックス層3の損傷部分に、バインダー材とセラミックスと所定温度以下の加熱により分解され気化する樹脂とを含むペースト材を塗布し、前記所定温度で熱処理して補修皮膜6を形成する。 (もっと読む)


【課題】ロール周面の溝底の表面粗度の評価指標として適切な指標を用いることで、溝底に対する異物の付着を低減する方法を提供する。
【解決手段】ロール周面に複数の溝10が形成され、前記溝10の底部12の表面粗度の評価指標として、従来一般的なRaやRzではなく、粗さ曲線のスキューネスRskを用いる。Rskは、溝底12の粗さの評価指標として適切であり、Rskで0未満である溶融金属めっき浴中ロールとすることにより、溝底12に対する異物の付着を低減できる。 (もっと読む)


【課題】優れた遮熱性を確保しつつ、耐エロージョン性が高く、かつ、滑らかな表面を形成することのできるセラミックス層備えた遮熱コーティングの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】遮熱コーティングの製造方法は、耐熱基材11上に金属結合層12を形成する工程と、金属結合層12上にセラミックス層13を形成する工程と、を備え、セラミックス層13を形成する工程が、金属結合層12上に、溶射により気孔を含む高気孔層14を形成する段階と、高気孔層14上に、高気孔層14よりも緻密な組織を有する緻密層15を形成する段階と、緻密層15が所定厚さとなるよう緻密層15の上面を研磨する段階と、を含む。 (もっと読む)


【解決手段】基材に希土類含有酸化物を5mm以下の厚さで溶射した後、基材から該溶射膜を剥離させることを特徴とする厚さ5mm以下の希土類酸化物含有溶射基板の製造方法。
【効果】本発明によれば、成形、焼成、焼結工程なしで、所定寸法の基材に溶射することで希土類含有酸化物セラミックスの薄板を容易に作製することができる。また、基材形状の選択により、多角形状、円盤形状、リング形状、三角形状などさまざまな形状の薄板を容易に作製することが可能である。更に、穴の複数個開いた基材に溶射することで、複数個の穴の開いた溶射薄板を作製することも可能である。 (もっと読む)


【課題】母材に対する溶射粉の付着性を向上させることができ、吹き付け作業回数の低減に貢献することができる溶射粉及び溶射粉の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の溶射粉は、真密度に対するかさ密度の相対密度が46%以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


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