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Fターム[4K031GA02]の内容

Fターム[4K031GA02]に分類される特許

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【課題】原料粉体とキャリアガスとの混合物の良好な搬送性を確保しつつ、キャリアガス(酸素ガス)不足による原料粉体の燃焼不良の発生を防止できる溶射装置を提供する。
【解決手段】原料粉体10を貯蔵し当該原料粉体を払い出す払出口21を有する貯蔵手段20と、加圧されたキャリアガスの流れにより払出口21から原料粉体10を吸入し、キャリアガスと原料粉体とを混合し混合物とするエジェクター30と、エジェクター30により生成された前記混合物を噴射する噴射手段40とを備え、前記混合物を噴射し燃焼させて耐火組成物を形成する溶射装置において、エジェクター30及びそれより下流側の流路のうち、エジェクター30の吐出導管33のストレート部以外の位置から補填用のキャリアガスを吹き込むガス吹込み手段A,Bを設けた。 (もっと読む)


【課題】より確実な施工を行うことができ、且つ、作業時間を短縮化できると共に、労力を軽減できる遮熱コーティング施工装置を提供することにある。
【解決手段】通気孔53が設けられた翼部52を有するガスタービン翼50に遮熱コーティングを施工する遮熱コーティング施工装置であって、ガスタービン翼を固定する固定治具11と、固定治具に位置調整可能に設けられた溶射装置15と、固定治具に位置調整可能に設けられ、位置情報をティーチング可能なドリル17と、溶射装置およびドリルを制御する制御装置18と、を備え、制御装置が、ドリルによるティーチングあるいは制御装置へ予め設定された範囲に基づき溶射装置を制御して、ガスタービン翼の翼部に溶射材を溶射して遮熱コーティングを行うと共に、ドリルによるティーチングに基づきドリルを制御して、ガスタービン翼の通気孔に対し穴あけ加工を行うようにした。 (もっと読む)


【課題】溶射粉の溶射でコーティング層が形成されたコーティング部材の製造コストを抑える。
【解決手段】フレーム溶射ガン71から対象物1に向かって溶射されたMCrAlY溶射粉のうちで対象物に付かなかったMCrAlY溶射粉と、プラズマ溶射ガン11から対象物1に向かって溶射されたYSZ溶射粉のうちで対象物に付かなかったYSZ溶射粉とを含む粉を回収粉として回収する回収装置30と、回収紛から目的の粒径範囲の回収紛を抽出する分級装置40と、回収粉を構成する各粒子の電気的性質の相違により、回収粉を、MCrAlY溶射粉を含む金属回収粉と、YSZ溶射粉を含むセラミックス回収粉とに分離する分離装置50と、を備える。分離装置50で得られた金属回収粉とセラミックス回収粉とのうち、少なくとも一方の回収粉を溶射粉として、新たな対象物に溶射する。 (もっと読む)


【課題】セラミックス粉末を使用して衝撃焼結被覆によりセラミックス皮膜を製造する場合、プラズマ溶射は、フレーム温度が15000℃から30000℃にもなる。また従来のフレーム溶射はフレーム温度が2200℃から3400℃になり粉末が容易に溶融し、また昇華、分解することにより、溶射粉末と異なる変態した皮膜、組成が変わる皮膜となる。低温で衝撃焼結被覆をすることにより要求を満足する機能性を有する優れた皮膜を得る安価な方法を提供する。
【解決手段】従来のフレーム溶射と異なり、ガンの燃焼室の後に、粉末と燃焼ガスを供給ノズルからフレームの軸に向けて燃焼ガスとスラリー状微粉末を噴射し、燃焼室に導入の酸素量と供給ノズルから導入する燃焼ガスとの容量を調整してフレーム中に存在するセラミックス微粉末の温度を制御し、また燃焼生成ガスにより加速して、衝撃焼結被覆をし、要求機能特性と密着性を有する皮膜を形成したことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】未溶着の溶射粒子を高濃度に回収でき、容易に選別・再利用でき、溶射粒子の利用率を向上させ得る溶射装置を提供する。
【解決手段】溶射ガン3から発射される溶射粒子を通過させるように被溶射体5の周囲を囲う第一内部空間11を形成する第一包囲体9と、第一内部空間11の雰囲気を吸引排気する第一排気系13と、第一排気系13に介装され、溶射粒子を選別するサイクロン27と、第一包囲体9の周囲を囲う第二内部空間45を形成する第二包囲体43と、第二内部空間45の雰囲気を吸引排気する第二排気系47と、を備え、第二内部空間45の雰囲気は、第一内部空間11の雰囲気よりも低圧とされている。 (もっと読む)


【課題】費用のかかる真空及び機器要件なしで、EBPVDによって生じるコーティングと構造的に類似したコーティングを作製することができるシステムを提供する。
【解決手段】超合金基板にサーマルバリアコーティングを施すシステムは、サーマルバリアコーティングを作製するための材料を供給する少なくとも1つのターゲットと、ターゲットから原子粒子を遊離させるためにターゲットに向けて操作可能に指向される少なくとも1つのレーザと、プラズマを発生させ、原子粒子を加速させて超合金基板上にサーマルバリアコーティングとして堆積させるためのプラズマトーチとを備え、超合金基板は、ニッケル基超合金又はコバルト基超合金である。
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本発明は、管状トーチ本体(10)と、前記トーチ本体の内部に配置されていわゆる陰極空洞(50)を画定する少なくとも1つの陰極(20)と、同じくトーチ本体の内部に配置されてプラズマ噴出ノズルを形成する少なくとも1つの管状陽極(30)とを備えるノントランスファ型アーク・プラズマ・トーチに関する。前記トーチは、前記または各陰極空洞内の共振圧力波を最小化するための手段(100)も備えることを特徴とする。また本発明は、プラズマトーチの陰極空洞を、少なくとも1つの音響発振器へ音響的にカップリングすることによって、プラズマトーチを安定させる方法にも関する。本発明はさらに、こうして安定されるトーチの表面コーティング溶着への使用法に関する。 (もっと読む)


【課題】開口部を有するマスクを用いて、リードフレームの表面にアルミニウム膜を成膜してなる成膜品の製造方法において、一度使用したマスクを掃除することなく成膜工程に再度使用できるようにする。
【解決手段】成膜材料であるアルミニウムと同一の材料にてマスク100を形成し、溶射によりアルミニウム膜40を形成した後、上面および開口部101の側面に溶射アルミニウム40aが付着したマスク100をリードフレーム40より取り外し、溶射アルミニウム40aとともにプレスすることにより、アルミニウム膜40の成膜工程に再度使用可能な形状に、成形する。 (もっと読む)


【課題】アーク溶射における粗大粒子の発生を防止する。
【解決手段】アーク溶射装置100に、第一線材1を長手方向に移動可能に支持する第一チップ112と、第二線材2を長手方向に移動可能に支持する第二チップ114と、
第一線材1を第一チップ112に供給する第一線材供給装置130と、第二線材2を第二チップ114に供給する第二線材供給装置140と、第一チップ112と第二チップ114との間に設定電圧を印加することにより第一線材1の先端部と第二線材2の先端部との間でアーク放電を発生させる電源装置150と、アーク電圧を経時的に測定する電圧測定装置160と、アーク電圧に基づいてスパイク電圧の発生の有無を判定するとともにスパイク電圧が発生していると判定した場合には第一供給速度、第二供給速度および設定電圧を変更する制御装置171と、を具備した。 (もっと読む)


【課題】使用率を向上させ、In等の半田材の注入を容易にし、半田等の割れやクラック、剥離を著しく低減できる円筒形スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】ITOまたはAZO等のセラミックス焼結体からなる複数個の円筒形ターゲットの、少なくとも一方の端部に、内周に向かってテーパ状及び/又は段状の形状を形状とし、円筒形ターゲットと円筒形基材との間隙にIn等の接合材(半田材)を容易にかつ円滑に注入して接合し、スパッタリングターゲットと成した後、使用効率が高く、割れやクラック、剥離のないことを特徴とする、円筒形スパッタリングターゲット。 (もっと読む)


少なくとも1つの損傷部分を含む障壁コーティングを有する構成部品を準備する段階と、空隙を残して障壁コーティングの損傷部分を除去する段階と、交換テープキャスト障壁コーティングを構成部品の空隙に施工する段階と、交換テープキャスト障壁コーティング層を有する構成部品を焼結する段階と、を含む障壁コーティングを補修する方法。構成部品は、ベーン、ブレード、シュラウド、ノズル、フラップ、シール、及び燃焼器からなる群から選択されたガスタービンエンジン構成部品とすることができる。
請求項1に記載の方法。 (もっと読む)


【課題】従来のオイラー法では容易に解析できなかった溶射粒子の偏平・凝固現象を解析し、これまでに解析が不可能であった多相材料の変形挙動や、周囲のガス相の取り込みによる気孔の形成過程までを取り扱うことができる溶射プロセスの解析装置を提供する。
【解決手段】溶射粒子に熱・運動エネルギーを付与して基材上に成膜を行うプロセスの解析装置であって、溶射粒子の物性、基材衝突前の溶射粒子の形状、速度を入力する入力部と、溶射粒子を質量の総和が前記溶射粒子と等しい複数のモデル粒子に置き換えるモデル作成部と、これら個々のモデル粒子の運動をモデル粒子に固定した座標系によって記述した運動方程式を解く演算部と、得られた個々のモデル粒子の速度、圧力等のデータから溶射粒子の変形挙動を表わす出力部とを具備する。 (もっと読む)


【課題】溶射プロセスにおいて液体前駆体をプラズマ・トーチのプラズマ・ガス流内に完全に浸透させること。
【解決手段】プラズマ溶射デバイス1は、加熱区域6内でプラズマ・ガス5を加熱するためのプラズマ・トーチ4を含み、このプラズマ・トーチ4は、プラズマ・ガス流8を生成するためのノズル本体7を含み、且つこのノズル本体7を通って中心長手方向軸線10に沿って延びるアパーチャ9を有している。アパーチャ9は、プラズマ・ガス5用の入口12を有する収束セクション11と、アパーチャの最小断面領域を含むスロート・セクション13と、プラズマ・ガス流8用の出口15を有する発散セクション14とを有し、導入管16が、プラズマ・ガス流8内に液体前駆体17を導入するために提供される。本発明によれば、浸透手段18、182が、プラズマ・ガス流8内部に液体前駆体17を浸透させるために提供される。 (もっと読む)


【課題】半導体やフラットパネルディスプレイ等の基板への成膜に用いる真空装置の部材において、成膜操作中にターゲット上に付着した膜が剥がれてその周辺に再付着するような、付着性が非常に弱い膜状物質に対しても有効な保持力を有し、パーティクルや異常放電の発生がなく、長時間の連続使用が可能な部材を提供する。
【解決手段】基材上に、構成するスプラットが傾斜して積み重なった塊状突起とスプラットがほとんど積み重なっていない谷の部分が交互に存在するひだ状の溶射膜を設け、塊状突起の幅としては50〜500μm、谷の幅としては100〜500μm、谷の深さとしては100〜1000μm、塊状突起の積み重なる方向が基材に対し、30〜80度であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】プラズマ溶射装置と、該装置の構成部品の作動障害または損傷を早期に検出可能な方法との提供。
【解決手段】搬送ガス7の圧力Pを検出することでプラズマ溶射装置1の各種状態を監視可能にするために、圧力センサ11を設けた。 (もっと読む)


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