【課題】基板等の回路にかかる力を緩和する能力を有する導電性微粒子、及び、基板間の距離を一定に維持する方法を提供する。
【解決手段】樹脂からなる基材微粒子の表面が１層以上の金属層に覆われてなる導電性微粒子であって、前記金属層の全ての層の熱膨張率がそれぞれ１×１０^−５〜３×１０^−５（１／Ｋ）であり、かつ、各金属層と前記基材微粒子との熱膨張率の比（基材微粒子の熱膨張率／金属層の熱膨張率）がそれぞれ０．１〜１０である導電性微粒子。 （もっと読む）

【課題】基板上に定着性に優れるインク受容層を形成後、該基板上に金属微粒子分散液をパターニングして、焼成する導電性と密着性に優れる、導電材の形成方法を提供する。
【解決手段】基板（Ｋ）表面に形成され、かつ金属微粒子（Ｐ）と多価アルコール（Ｓ１）を含有する還元性溶媒（Ａ）とを含む導電性インク（Ｉ）を塗布又はパターン化後、加熱、焼成により導電パターンを形成することが可能なインク受容層（Ｒ）であって、該インク受容層（Ｒ）がフルオロアルキル基を有するシランカップリング剤（Ｃ）で表面を撥液処理された、非導電性無機粒子（Ｇ）が親水性バインダー（Ｂ）により結合されて形成されている層であり、インク受容層（Ｒ）の表面が無機粒子（Ｇ）に基づく凹凸形状が形成されていて、インク受容層（Ｒ）表面に存在する親水性バインダー（Ｂ）が水酸基を有していることを特徴とするインク受容層。 （もっと読む）

【課題】表面延設方向における電気絶縁性を示す絶縁物品およびその製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁物品は、電気絶縁性をもつ材料で形成された基部２と、基部２の表面の上に積層されクロムを母材とすると共に網目状クラックが形成された金属光沢をもち且つ網目状クラックにより膜延設方向における電気絶縁性が高められたクロム膜３とを有する。網目状クラックによりクロム膜３の膜延設方向（Ａ１方向）における電気絶縁性が高められている。 （もっと読む）

【課題】太陽電池の光電変換層にて吸収される波長領域において、高い光閉じ込め効果を有する凹凸形状を備え、かつ低抵抗で高透過率な透明導電膜付き基体を提供する。
【解決手段】本発明の透明導電膜付き基体は、基体と、該基体上に成膜された酸化物薄膜とを有し、該透明導電膜は、基体側から順に、第１の透明性酸化物薄膜および第２の透明性酸化物薄膜を有し、第２の透明性酸化物薄膜は、第１の透明性酸化物薄膜とは結晶構造が異なり、基体と第１の透明性酸化物薄膜の結晶粒表面とのなす角度は、基体と第２の透明性酸化物薄膜の結晶粒表面とのなす角度と異なることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】プリント回路基板のような電子部品の製造として要求される、必要な安定性、活性、及び誘電表面に対する吸着性に優れる、電子部品の製造に用いられる非導電性基板の無電解めっき用触媒を提供する。
【解決手段】０．５から１００ｐｐｍのゼロ価金属、安定剤化合物及び水を含み、パラジウム、銀、コバルト、ニッケル、金、銅及びルテニウムから選択される組成物とゼロ価金属形成に必要な還元剤の添加を含むめっき用触媒製造方法。 （もっと読む）

【課題】様々な材料からなる基材表面を改質することができる表面改質方法及び装置を提供する。
【解決手段】セラミックスから溶出された無機材料を含む粒子が生成された処理溶液３を電解して粒子を帯電させた後、基材１表面に付与して乾燥させることで無機材料を固着させる。無機材料が固着した基材１表面は、親水性、防汚染性、反射防止特性といった様々な特性を備えるように改質処理される。例えば、ホウ酸シリカ水を電解してステンレス板の表面に電着させてシリカ等の無機材料を固着させることで、親水性及び防汚染性を有するように改質処理することができる。 （もっと読む）

【課題】金属珪化物の正方晶の薄膜を常温下で製造できる方法を提供する。
【解決手段】エアロゾル薄膜堆積法を用い、金属珪化物の微粒子をキャリアガスと混合してエアロゾル化したものを、常温減圧下の雰囲気で、ノズルを通じて所定の速度で基板に噴射し、衝撃固化現象を利用して微粒子を基板上に付着させることによって、金属珪化物の薄膜を製造する。 （もっと読む）

【課題】基板上に所望の電気特性を有する電子回路要素を形成しうる装置および方法を提供する。
【解決手段】本発明の電子回路要素形成装置または方法によれば、基板６の表面においてレーザービームの照射により半溶融または溶融状態になっている箇所に向けて、混合粒子が噴射される。これにより、基板６の表面に指定軌跡を描くような形状の電子回路要素７が形成される。混合粒子における複数の物質の混合比が指定因子として調節されることにより、電子回路要素７の電気伝導度等の電気特性が調節されうる。 （もっと読む）

【課題】トルクリミッタにより回転を制限する設定トルクを可及的にし、内輪やコイルばねの使用耐久性を向上し、しかもトルクリミッタの周辺で液体潤滑剤による汚損を防止する。
【解決手段】コイルばね３の両端はそれぞれ外輪２または外輪２と一体に回転する締付力調整リング４に係止し、内輪１の外輪２に対する相対回転の方向に応じてコイルばね３を縮径または拡径させて相対回転を停止または回転力を制限するトルクリミッタＡであり、内輪１は樹脂素材で形成し、内輪１の外径面のコイルばね３との接触部に耐摩耗性金属を含有するめっき皮膜５を設ける。内輪１が樹脂素材で形成されているので軽量化され、そのためにばねに所要の締付け力も小さく設定でき、まためっき皮膜５の耐摩耗性の良い潤滑作用により、コイルばね３と内輪１との摺動による摩耗損傷は小さくなり、トルクリミッタＡの使用耐久性を充分に高められる。 （もっと読む）

【課題】溶融塩電池の電極として用いることに適した金属多孔体として三次元網目構造を有しアルミニウムからなる金属多孔体およびその製造方法、さらにそれを用いた溶融塩電池を提供することを目的とする。
【解決手段】中空骨格により三次元網目構造をなす金属多孔体であって、該中空骨格は１μｍ〜１００μｍの厚さのアルミニウム層で形成され、前記アルミニウム層の内側表面および外側表面に錫層を備えた金属多孔体とした。かかる金属多孔体は三次元網目構造を有する樹脂成形体の表面に錫層を形成する内側錫層形成工程と、前記内側錫層の表面にアルミニウム層を形成するアルミニウム骨格形成工程と、前記アルミニウム骨格の表面に錫層を形成する外側錫層形成工程と、前記アルミニウム骨格形成工程の後または前記外側錫層形成工程の後に、前記樹脂成形体を除去する樹脂除去工程とにより得られる。 （もっと読む）

【課題】メモリデバイスなどに用いられる多成分フィルムの製造方法として、ＰＶＤ、ＣＶＤ等に代わる代替方法を提供する。
【解決手段】フィルム成分を含む液体前駆体組成物を順次コーティングすることによって多成分フィルムを堆積させる。一実施態様において、組成物は、相変化メモリ及び光起電デバイス向けの、ゲルマニウムテルル（ＧｅＴｅ）、アンチモンテルル（ＳｂＴｅ）、アンチモンゲルマニウム（ＳｂＧｅ）、ゲルマニウムアンチモンテルル（ＧＳＴ）、インジウムアンチモンテルル（ＩＳＴ）、銀インジウムアンチモンテルル（ＡＩＳＴ）、テルル化カドミウム（ＣｄＴｅ）、セレン化カドミウム（ＣｄＳｅ）、テルル化亜鉛（ＺｎＴｅ）、セレン化亜鉛（ＺｎＳｅ）、セレン化銅インジウムガリウム（ＣＩＧＳ）又は他のテルル及びセレン系の金属化合物を堆積させるために用いられる。 （もっと読む）

【課題】厚みが大きく且つ略均等であり、しかも、表面粗さが小さい皮膜を、プラズマ成膜によって得る。
【解決手段】プラズマ発生装置１６と、基材１０の成膜部位との間に、整流用治具１２を配置する。この整流用治具１２に形成された成膜用通路２２に、プラズマ発生装置１６からプラズマ励起種を供給する。その一方で、液体供給装置１８から液相原材料Ｌを基材１０に供給し、付着させる。この液相原材料Ｌは、成膜用通路２２に到達したプラズマ励起種によってブローされることで展延し、厚みが低減した液膜となる。また、液膜は、プラズマ励起種によって活性化され、重合・固化して皮膜に変化する。 （もっと読む）

【課題】基材表面に、密着性と各種の特性に優れたサーメット皮膜を形成する方法、なかでも非導電性セラミック溶射皮膜を電気めっきすることによって、めっき金属充填形サーメット皮膜に変化させる方法と、この方法の実施によって得られるサーメット皮膜被覆部材とを提案すること。
【解決手段】導電性基材の表面に、非導電性セラミック溶射皮膜を形成すると共に、該皮膜の気孔中に、電気めっきによって析出しためっき金属を充填させることにより、サーメット皮膜と同じ構成の皮膜を形成し、同時に多孔質サーメット皮膜の封孔を実現して、基材の耐食性を改善する方法と、この処理によって得られるサーメット皮膜被覆部材。 （もっと読む）

【課題】良好なフレキシブル性を有する構造体の製造方法などを提供すること。
【解決手段】基材と、該基材上に設けられる導電膜と、該導電膜上に設けられる酸化スズの微細構造体とを備える構造体の製造方法において、基材として高分子基材を用いる構造体の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】従来のエアロゾルデポジション膜形成用成膜装置で形成された膜は、表面にはランド発生や膜厚の偏りなど、電気的、物理的特性を劣化させる膜質を有しており、それを抑制した優良な膜を成膜可能な成膜装置、成膜方法、形成された成膜を有する成膜基板を提供する。
【解決手段】基板の表面に、膜を形成する、ほぼ均一な厚さの粉末層を形成し、その粉末層に向けてキャリアガスを噴射して、基板表面近傍に、ガスと粉末のエアロゾルを生成し、更にガス噴射で粉末を加速して基板面に衝突させ膜を形成可能とする成膜装置の構成とする。基板上に均一膜を形成するために、例えばメッシュマスク上に静置した粉末を基板面上で走査可能な機構を用いる。良好な膜を得ることが可能になるとともに製造工程面での工数削減にも寄与できる。また本発明の成膜装置、成膜方法によって、小型・薄型のキャパシタ内蔵ＭＣＭ用回路基板などの成膜基板が製造可能となる。 （もっと読む）

【課題】優れた耐久性を有する表面改質被膜を備えた表面改質構造を提供する。
【解決手段】純鉄板１０に、テトラエトキシシランと水とエタノールと平均一次粒径が３０ｎｍのシリカ粒子とを含有し、塩酸によりｐＨを３．０に調整された溶液Ａを塗布した後、溶液Ｂ（ｐＨ１２の水酸化ナトリウム水溶液）をさらに塗布した。すると、純鉄板１０の表面には、表面が凹凸状をなす中間層２０が形成された。次に、この純鉄板１０を、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシランと水とエタノールとを含有し、塩酸によりｐＨを３．０に調整された溶液Ｃに浸漬した。３０分間浸漬したら純鉄板１０を引き上げて、溶液Ｂ中に３０分間浸漬した。すると、中間層２０の上に撥水撥油層３０が形成された純鉄板１０が得られた。 （もっと読む）

【課題】
従来の液相レーザー法を利用して基材上に部位特異的にアパタイト皮膜を形成する方法は、基材上に予めアパタイト前駆体を点在した状態で析出させた後、該基材をリン酸カルシウム過飽和溶液中に浸漬することにより、基材表面に均一なアパタイト皮膜を形成させる、二段階の工程を要し、各工程の所要時間も長いという欠点がある。
本発明は、上記方法の欠点を解消し、迅速かつ簡便に、基材上に部位特異的にアパタイトなどのリン酸カルシウム皮膜を形成する方法を提供することを課題とする。
【解決手段】
リン酸カルシウム過飽和溶液中に浸漬された基材上に、レーザー光を照射することにより、一段階の工程で、短時間内に基材上に部位特異的にリン酸カルシウムの皮膜を形成する。
本発明の成膜方法は、簡便かつ迅速にリン酸カルシウムの成膜が可能であるため、医師自らが術中に当該成膜を実施することができ、従来の外科や歯科医療における治療向上も期待される。例えば、腱の移植術において、腱の骨内固定部位にリン酸カルシウムを成膜すると、術後早期から高い骨固着性が得られることが知られているが、本発明の成膜方法を用いれば、より簡便かつ短時間で成膜でき、しかもレーザー光のピンポイント照射が可能であるため、非成膜部へのマスキングを必要としないので、術中に直接必要な部位に成膜を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 下層との密着性の優れた防汚層を形成するための成膜方法を提供することにある。
【解決手段】 被処理基板上にフッ素含有樹脂からなる有機層を形成する成膜方法であって、酸素原子（Ｏ）を含有するプラズマ生成ガス雰囲気中で生成したプラズマに被処理基板を曝し、次いで前記有機層を形成する。 （もっと読む）

【課題】金ナノロッドの濃度によって金ナノロッドの配向を制御する方法と金ナノロッド配向基板を提供する。
【解決手段】界面活性剤で修飾された金ナノロッド（ＡｕＮＲ）の水分散液を基板上に存在させて磁場を印加しながら溶媒を蒸発させることによって基板上にＡｕＮＲを一定方向に配向させる方法において、ＡｕＮＲの濃度によってＡｕＮＲの配向方向を制御することを特徴とする金ナノロッドの配向制御方法、およびＡｕＮＲ配向基板。 （もっと読む）

【課題】本発明は、使用時のめっき剥がれに強く（めっきの密着性が高い）かつ、導電性が高い複合粒子の製造方法及び、更に無電解めっきを行う複合粒子の製造方法を提供することにある。
【解決手段】少なくとも、粒子表面に金属アルコキシ基を有する有機ポリマー粒子（Ａ１）と、粒子表面に金属アルコキシ基を有する金属微粒子（Ｂ１）との混合物を加水分解・縮合させることを特徴とする複合粒子の製造方法である。更に無電解めっきを行う複合粒子の製造方法。 （もっと読む）