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Fターム[4K044BA08]の内容

その他の表面処理 (34,614) | 被膜を構成する材料 (9,251) | 金属質のもの (4,115) | Au,Ag,白金族(Ru,Rh,Pd,Os,Ir,Pt) (540)

Fターム[4K044BA08]に分類される特許

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【課題】アノードになる電極とカソードになる電極を確定できる光電変換素子を提供する。
【解決手段】光電変換素子1の半導体層10に凸層11を形成する。導電層40を凸層11の一側面に接触するようにして半導体層10の表面に積層する。第1電極21を凸層11の反対側の面に接触するようにして半導体層10の表面に設ける。第2電極22を導電層40に設ける。更に、凸層11又は導電層40に多数の周期構造33を含む金属ナノ構造30を積層する。各周期構造33は複数の第1凸部31からなり、第1凸部31の配置間隔が周期構造33に応じて異なる。 (もっと読む)


【課題】従来のもの比較して、耐酸化性がより優れるPtおよびAl拡散Ni基基材の製造方法の提供。
【解決手段】Ni基基材の表面にPt被膜を形成し、Pt被膜付き基材を得る工程と、前記Pt被膜に含まれるPtが前記Ni基基材の少なくとも表面に拡散する処理条件において前記Pt被膜付き基材を熱処理して、Pt拡散基材を得る工程と、前記Pt拡散基材の表面にAl被膜を形成して、Al被膜付き基材を得る工程と、前記Al被膜に含まれるAlが前記Pt拡散基材の少なくとも表面部に拡散する処理条件において前記Al被膜付き基材を熱処理して、PtおよびAlが拡散してなる拡散層を有するPt含有γ−Ni+γ’−Ni3Al皮膜付き基材を得る工程とを備える、Pt含有γ−Ni+γ’−Ni3Al皮膜付き基材の製造方法。 (もっと読む)


【課題】ターボ機械の動作温度を推定するためのシステム及び方法を提供すること。
【解決手段】ターボ機械の部品に取り外し可能に取り付けられた本体210は、1種以上の化学種406と、1種以上の化学種406の初期の第1の濃度440を有する第1の材料402と、第1の材料402からの1種以上の化学種406の移動を可能にするよう構成された第2の材料404とを含む。化学種406は、ターボ機械の作動中に第1の材料402から第2の材料404に移動し、第1の材料402及び第2の材料404における1種以上の化学種406の最終濃度を決定し、第1の材料402と第2の材料404との間の1種以上の化学種406の過渡濃度を決定することにより濃度プロファイルを取得し、濃度プロファイルをシステムの対応する動作温度に相関付けることにより、作動中の温度を推定できるようになる。 (もっと読む)


【課題】発光素子を搭載した際に反射性、放熱性、絶縁性を同時に達成できるアルミニウム回路基板の製造方法、及びアルミニウム回路基板を提供する。
【解決手段】(a)アルミ基材上に光学増反射層を形成する工程、(b)配線部に相当する箇所以外に第1のレジスト膜からなるレジストパターンを形成する工程、(c)第1のエッチング液で配線部に相当する箇所の光学増反射層を除去してアルミ基材を露出させる工程、(d)露出した部分のアルミ基材にアルマイト皮膜を形成する工程、(e)金属導電層を形成する工程、(f)金属めっき層を形成する工程、(g)金属めっき層の配線部相当箇所に第2のレジスト膜を設けて配線部相当箇所以外の金属導電層及び金属めっき層をエッチング除去する工程、及び(h)第1及び第2のレジスト膜を除去する工程を備えたアルミニウム回路基板の製造方法であり、これにより得られたアルミニウム回路基板である。 (もっと読む)


【課題】微細配線を形成する場合であっても、ブリッジの発生を低減でき、しかも優れたワイヤボンディング性及びはんだ接続信頼性を得ることが可能な半導体チップ搭載用基板の製造方法及びこれにより得られる半導体チップ搭載用基板を提供することを目的とする。
【解決手段】セミアディティブ法で銅回路を形成する工程において、電解めっきレジストを形成し、電解銅めっきにより銅回路を形成した後に、無電解ニッケルめっき皮膜を形成し、銅回路の上部のみに銅の拡散を抑制するためのバリヤ皮膜である無電解ニッケルめっき皮膜を形成する。次いで、電解めっきレジストを剥離し、導体回路となるべき部分以外の銅をエッチング除去し、ソルダーレジストパターンを形成し、電解ニッケルめっき皮膜が上部に形成された銅回路に、無電解パラジウムめっき皮膜を形成しさらに無電解金めっき皮膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】微細配線を形成する場合であっても、ブリッジの発生を十分に低減でき、しかも優れたワイヤボンディング性を有する半導体チップ搭載用基板を製造可能な方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係る半導体チップ搭載用基板製造方法は、基板の表面の導体回路の少なくとも一部を覆うように、電解ニッケルめっきによりニッケル層を形成する工程と、基板に対してデスミア処理を施す工程と、クエン酸を含む溶液に基板を浸漬する工程と、ニッケル層の少なくとも一部を覆うように、無電解めっきによりパラジウム層又は金層を形成する無電解めっき工程とをこの順序で備える。 (もっと読む)


【課題】 高温の使用条件下であっても十分な水素透過性能を長時間維持することができる水素透過用合金膜を提供すること。
【解決手段】 本発明の水素透過用合金膜は、酸化性ガスで表面処理されたNb合金膜と、該Nb合金膜の両面に設けられたPd若しくはPd合金層と、を有する。 (もっと読む)


【課題】低挿抜性、低ウィスカ性及び高耐久性を有する電子部品用金属材料及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基材11と、基材11の最表層を構成し、Sn,In,またはそれらの合金で形成されたA層14と、基材11とA層14との間に設けられて中層を構成し、Ag,Au,Pt,Pd,Ru,Rh,Os,Ir,またはそれらの合金で形成されたB層13と、を備え、最表層(A層)14の厚みが0.002〜0.2μmであり、中層(B層)13の厚みが0.001〜0.3μmである電子部品用金属材料10。 (もっと読む)


【課題】部材同士を低コストでろう材を用いずに接合する。
【解決手段】複数の部材と、金属を含む粉末を前記複数の部材にわたって付着堆積させた付着堆積層とを備え、前記複数の部材と前記付着堆積層との熱的・機械的合金化による結合を介して、前記複数の部材を接合する。また、前記基材は高伝導性金属からなり、前記非接合部材はカップ形状で高伝導性金属からなり、前記付着堆積層は耐火性の金属あるいは化合物と高伝導性金属とを含む接点層であり、前記基材の一面と前記被接合部材のカップ形状の開放端部とが、前記熱的・機械的合金化により接合される。 (もっと読む)


【課題】異種の金属部材の接続構造に関し、金属部材同士の界面に脆い金属相が形成されず、金属部材間の電気抵抗や熱抵抗が高くならない異種の金属部材の接続構造を提供する。
【解決手段】異種の金属部材1,2が少なくともそれぞれの一部同士で当接しており、双方の金属部材1,2に跨る金属被膜3が双方の金属部材1,2に密着しており、該金属被膜3を介して間接的に金属部材1,2同士が接続されている接続構造10である。この金属被膜3は、コールドスプレー法やウォームスプレー法で形成できる。 (もっと読む)


【課題】導電性が高く、電気伝導度の制御および金属粒子の分散制御が容易で、基板への接着性に優れた金属と有機物とからなる複合微粒子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】表面にチオール化合物を配位させた金属微粒子であり、シラン化合物を介して基板に吸着し、表面のチオール化合物を酸化重合することにより、導電性高分子503が金属微粒子502表面に配位結合した構造をとることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】車両の定常走行時には高燃費かつ高効率なエンジン性能の発揮に供し、車両のエンジン始動時には温度を上昇し易くしてHCやPMの発生を効果的に解消することのできる陽極酸化被膜を具備したピストンを提供する。
【解決手段】内燃機関10を構成するピストン3であって、ピストン3の頂面3aには、低熱伝導率で低熱容量の陽極酸化被膜5が形成されており、陽極酸化被膜5のうち、燃料噴射領域Ainの表面には陽極酸化被膜5よりも相対的に熱容量の高い金属被膜6が配されている。 (もっと読む)


【課題】金属又は合金からなる基材と、この基材の表面に形成した溶射皮膜層との間の密着強度が高い積層体及び該積層体の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】積層体10は、金属又は合金から形成された基材11と、金属又は合金の粉末材料を該粉末材料の融点より低い温度に加熱されたガスと共に加速し、基材表面に固相状態のままで吹き付けて堆積させた中間層12と、該中間層上に溶射により形成された溶射皮膜層13とを備える。 (もっと読む)


【課題】点火プラグに高周波電力が供給される際の電力損失を低減できる技術を提供することを目的とする。
【解決手段】点火プラグは、軸線方向に貫通する軸孔を有する筒状の絶縁碍子と、軸孔の先端側に配置された中心電極と、軸孔のうち中心電極よりも後端側に配置されると共に中心電極と電気的に接続され、外部から高周波電力が供給される端子金具と、絶縁碍子の周囲を囲むように配置された主体金具と、主体金具に電気的に接続され、高周波電力が端子金具に供給されることで中心電極との間でプラズマを発生させる接地電極と、を備える。軸孔の内面の少なくとも一部は、金属コーティングが形成されており、中心電極が金属コーティングと電気的に接触し、端子金具が中心電極よりも後端側の位置で金属コーティングと接触する。 (もっと読む)


【課題】被膜Cの形成処理の能率を向上させると共に、被膜Cの品質を高いベルで向上させること。
【解決手段】装置筐体3の側面には、作動ガスの流れを絞る第1ノズル構成体33は、内管35と外管37の二重構造により構成され、内管35の内側に第1インナーガス流路39が形成され、内管35の外周面と外管37の内周面の間に環状の第1アウターガス流路41が形成され、外管37の先端に作動ガスを膨張させて噴射する第2ノズル構成体43が同心状に一体に設けられ、第2ノズル構成体43の内側に第2ガス流路45が形成され、内管35の先端に複数の内突起47及び複数の外突起49が周方向に間隔を置いて形成されていること。 (もっと読む)


【課題】基材が硬くて伸びの小さい材料であっても、ひび・割れや引け巣などを発生させることなく、ヒートシンク材に好適な複合材を製造する。
【解決手段】複合材100を、CuからなるCu層101と、金属Mからなる軟質金属層102と、Cu層103と、Mo又はWからなる硬質金属層104と、Cu層105と、軟質金属層106と、Cu層107とを、この順に積層した構成とする。 (もっと読む)


【課題】ガラスの持つ表面平滑性、透明性、高耐熱性、電気特性などの特徴を保持したまま、ガラス材料と金属膜との密着力を高めることにより、金属膜の剥離が生じにくい金属膜付きガラス材料を作製する方法を提供する。
【解決手段】ガラス1上に無電解めっき法によりCu膜4を形成後、続いてその上にAg、Au、Ptのうちの少なくとも1種のめっき層5を形成し、熱処理を行うことで密着性に優れた金属膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】銅または銅合金を含む基体への銀被膜の接着性が改良された、高温においてさえ、良好な接着性を有する銀層がコーティングされた、電気コネクタ、プリント回路板、発光ダイオードまたは電気自動車の部品またはコンポーネントとして使用されうる銅含有基体を提供する。
【解決手段】銅または銅合金を含む金属基体に隣接してニッケル層を堆積させ、前記ニッケル層に隣接して薄膜のスズ層を堆積させ、次いで前記薄膜のスズ層のすぐ上に前記薄膜のスズ層の少なくとも2倍の厚さの銀層を堆積させる。 (もっと読む)


【課題】所定の膜厚の合金層を、水平な平面のみでなく湾曲面にも確実に設ける。種々の金属からなる合金層をピンホールなく安定して設ける。金属粉末の付着にバインダを使用しながら、短時間に乾燥して、種々の母材金属の表面に種々の金属の合金層を速やかに能率よく設ける。
【解決手段】金属の表面処理方法は、母材金属1の表面に薄膜7を配置し、かつ、この薄膜7と母材金属1との間に、母材金属1と異なる金属粉末2をバインダ6で付着して金属粉末層3を設ける仮膜工程と、この仮膜工程の後、薄膜7の表面に、薄膜7を溶融することなくエネルギービーム4を照射してバインダ6を乾燥させる乾燥工程と、この乾燥工程でバインダ6を乾燥させた後、さらに、薄膜7の表面にエネルギービーム4を照射して、薄膜7を溶融し、あるいは溶融することなく、金属粉末2を溶融して母材金属1の表面に合金層5を設けるビーム照射工程とからなる。 (もっと読む)


【課題】低接触抵抗、高はんだ濡れ性及び低挿入力を有するSn系めっき材を提供する。
【解決手段】Sn系めっき材10は、金属基材11、金属基材11上に形成された下地めっき12、下地めっき12上に形成されたAgを含むSn系めっき13を備える。Sn系めっき材10は、XPS(X線光電子分光装置)でDepth分析を行ったとき、Snの原子濃度(at%)の最高値を示す位置(DSn)及びAgの原子濃度(at%)の最高値を示す位置(DAg)がSn系めっき13表面からDSn、DAgの順で存在し、Sn系めっき13に含まれるAgが1〜200μg/cm2であり、Sn系めっき13に含まれるSnが2〜220μg/cm2である。 (もっと読む)


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