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Fターム[4K044CA53]の内容

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多孔性金属コーティング層が形成されたコーティング部材及びその製造方法が開示される。前記方法は多孔性コーティング層を母材に形成する方法において、母材を提供する工程、前記母材上にAl、Mg、Zn及びSnからなる群よりそれぞれ選択され、xA−(1−x)B(0<x<1、xはAとBの重量比)で表現される互いに異なる2種以上の金属を少なくとも含む金属組成の粉末を供給する工程、前記粉末に高圧ガスを提供する工程、前記高圧ガスによって前記金属粉末を超音速ノズルで噴射して前記母材にコーティングする工程、及び前記コーティングされた母材を熱処理して多孔性コーティング層を形成する工程を含むことを特徴とする。本発明の方法によれば、コーティング部材の内部の気孔大きさ及び気孔率を自由に調節することができる。したがって、多様な熱的機械的部材に適用できる。
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(1)少なくともフェニルへプタメチルシクロテトラシロキサン及び/又は2,6−シス−ジフェニルヘキサメチルシクロテトラシロキサンを含むシリコンレジンから成ることを特徴とする絶縁膜。
(2)230℃以下の温度で任意の粘度に調整したペースト状の前駆体の後、200℃〜500℃の温度で熱硬化することを特徴とする(1)記載の絶縁膜。
(3)前記前駆体と前記絶縁膜は、少なくとも一回、前記絶縁膜が硬化する温度以下で真空加熱処理を行うことを特徴とする(1)記載の絶縁膜。
(4)少なくともフェニルへプタメチルシクロテトラシロキサン及び/又は2,6−シス−ジフェニルヘキサメチルシクロテトラシロキサンを含むシリコンレジンを230℃以下の温度で数cpsから数万cpsの間で任意の粘度に調整する工程および200℃〜500℃の温度で熱硬化させる工程を実施することを特徴とする絶縁膜の形成方法。
(5)前記絶縁膜を形成する工程において、少なくとも一回は、前記絶縁膜が硬化する温度以下で真空加熱処理を行うことを特徴とする絶縁膜の形成方法。
(6)真空加熱処理は、230℃以下の温度で行うことを特徴とする(4)又は(5)記載の絶縁膜の形成方法。
以上により、層間割れや,ひび割れ,反り、剥離等が無く、絶縁性が良好で所望の膜厚を有する絶縁膜を提供すると共に基板上に、所望の膜厚を有しかつ、高抵抗で絶縁性良好な絶縁膜および絶縁膜を容易に形成できる。 (もっと読む)


本発明は、緩衝金属基板テープの連結するレングス上にREBCOなどの超伝導薄膜のex−situ形成のための高スループットのシステムを提供する。緩衝金属基板テープの上部は、希土、バリウム、及び銅の先駆物質が、電子ビーム蒸発及びMODなどの数々の技術を介して堆積される。これらの先駆物質は、処理チャンバ内で加熱され、水蒸気に導入されると、緩衝層に機能的超伝導薄膜エピタキシャルを形成するために分解する。シャワーヘッドと、長く幅の広い堆積範囲の創造のために設計された基板加熱装置を有する有機金属化学気相成長法(MOCVD)反応炉といったチャンバは、該製法に良く適している。チャンバは、反応による副産物の効率的な汲み出しのために配置された排気ポートを含む。チャンバは、壁が加熱されない冷水壁式、または壁が加熱される加熱壁式のものでもよい。
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本発明は、下記成分:カルボキシル基を有していないフェノール性成分、芳香族ヒドロキシカルボン酸及びイミダゾール、を含むフェノール−アルデヒド樹脂、上記樹脂の製造方法、前記樹脂を裸金属表面又は化成層を有する金属表面の腐食防止処理に用いること、裸金属表面又は化成層を有する金属表面を処理するための前記本発明のフェノール−アルデヒド樹脂の1種以上を含む処理水溶液、及び金属板、金属部材又は金属部分を有する物品であってその少なくとも1表面が前記方法を用いて処理されているものに係る。 (もっと読む)


電磁波シールド材は透明基材11と、透明基材11の一方の面に接着剤13を介して設けられ開口部105を形成するライン部107を有するメッシュ状金属層21とを備えている。メッシュ状金属層21のライン部107の透明基材11側の面に、第1黒化層25Aと防錆層23Aとが順次設けられている。メッシュ状金属層21のライン部107の透明基材11と反対側の面およびライン部107の側面に、第2黒化層25Bが設けられている。 (もっと読む)


【課題】 比較的低温で高い耐エロージョン性、耐食性、固体粒子衝撃損傷耐性及びキャビテーション耐性を呈するコーティング系の提供。
【解決手段】 実質的に延性及び/又は耐食性のバインダーマトリックス(14)と、実質的に延性及び/又は耐食性のバインダーマトリックス(14)中に導入した複数の実質的に硬いナノ粒度のセラミック粒子(12)又は結晶粒とを含むナノ構造化コーティング系(10)、部品及び関連製造方法。複数のナノ粒度セラミック粒子(12)又は結晶粒間の平均自由空間距離はナノスケールである。適宜、コーティング系(10)、部品及び関連製造方法は、実質的に延性及び/又は耐食性のバインダーマトリックス(14)中に導入した複数の実質的に硬いミクロン粒度のセラミック粒子(20)又は結晶粒も含んでいてもよい。 (もっと読む)


金属の耐食性を向上させるために金属を処理する方法を開示する。前記方法は、マグネシウム粉末および結合剤を含む被覆剤を、金属表面に塗布することを含む。本発明は、マグネシウム粉末およびシラン改質エポキシイソシアネートハイブリッドポリマーまたはプレポリマーを含有する被覆組成物にも関する。本発明者らは、2024 T−3アルミニウム合金において3000時間を超える耐食性(参照により本明細書に組み込まれるASTM D5894−96によってProhesion(商標)暴露によって測定)を、本発明の方法および被覆組成物によって達成し得ることを見出した。 (もっと読む)


本発明は、(少なくとも50質量%の(メタ)アクリル酸単位を含む、少なくとも1種の、実質的に架橋していない、水溶性ポリマー又はコポリマーを含み、及び、水、又は少なくとも50質量%の水を含む水性溶媒混合物を含む、)酸性水性調製物で表面を処理することにより、及び更に表面を、アジラン、オキシラン、及びチイラン基からなる群から選ばれる少なくとも2個の架橋基を含む少なくとも1種の水溶性架橋剤で処理することにより、Zn、Zn合金、Al、又はAl合金の金属表面を不動態化するための、実質的にクロムを使用しない方法に関する。本発明は、更にこの方法によって得られる不動態化層に関し、そしてこの方法に適当である調製物に関する。 (もっと読む)


マスクなし中規模材料デポジション(Maskless Mesoscale Material Deposition, M3DTM)処理のための方法および装置が開示され、これはエアロゾルを作るのに好ましくは超音波トランスデューサまたは圧縮空気噴霧器(22)を用い、このエアロゾルは流入口(20)を経由してフローヘッド(12)に入り、その際に随意的に、ガス量を低減するため事実上のインパクタ(24)ならびに溶剤を除去するまたは粘度を調整するためヒータアセンブリ(18)の両方を、あるいはそのいずれかを経由するようにしてもよい。機械的シャッター(28)のついた材料シャッターアセンブリ(26)が好ましくはフローヘッドの出口についており、鞘状のガスが流入口(18)を通って入り、エアロゾルがフローヘッドから出る前にそれを囲む。熱に弱いターゲットの上のエアロゾルデポジット材料は好ましくはレーザモジュール(10)からのビームで処理し、これによってそのターゲットを損傷閾値以上に加熱することなく、たとえば化学分解、焼結、重合などにより希望の状態を得るためにデポジットした材料を加熱する。1ミクロンの線幅の形状をデポジットすることができる。 (もっと読む)


金属基板を処理するためおよび/または金属基板をゴムなどのポリマー材料に接着するための組成物および方法が提供される。組成物は、少なくとも1種の実質的に加水分解されたアミノシランおよび少なくとも1種の実質的に加水分解された硫黄含有シランを含む。場合により、組成物はナノサイズの粒子材料を含む。組成物は、金属を腐食から保護するため、およびコーティングの厚さに依存する程度がより小さな、ポリマー対金属の加硫条件で、より少量のコーティング材料を使用して、ゴム様のポリマー組成物を金属へ接着させるための、金属基板上のコーティングを提供する。
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本発明は、チタンまたはチタン合金を用いた複合材料において、イミダゾール化合物をチタンまたはチタン合金の表面に付与した後、被着体を接着して得られる複合材料である。また本発明は、破壊歪エネルギー解放率G1cが4500J/m以上の熱可塑性樹脂を含む接着用樹脂組成物を用いて被着体を接着して得られる複合材料である。本発明は、室温および高温高湿度暴露後においても安定で良好な接着強度を有するチタンまたはチタン合金を用いた複合材料を提供する。 (もっと読む)


本発明は、エアロゾルデポジション法等で形成された微結晶セラミックス膜に、セラミックス自体は吸収しやすく、逆に金属では反射するという赤外線のセラミックス材料に対する光学特性を利用したレーザー照射による加熱処理を行うことにより、微結晶セラミックス膜が基板から剥離することなく粒成長及び欠陥回復が可能なセラミックス膜構造体、その形成方法及び装置を提供することを目的とする。
本発明のセラミックス膜構造体の形成方法は、金属基板上に微結晶セラミックス膜を形成した後、該微結晶セラミックス膜に赤外線レーザーを照射することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】乾燥性有機コーティング組成物の金属基材への密着性を改善する組成物およびそのプロセスを提供すること。
【解決手段】本発明の組成物は、乾燥性有機コーティングの金属表面への密着性を改善することに有用である。この組成物は、通常液体キャリアと、少なくとも1つのアミノアルコールとホウ酸またはホウ酸類似体との反応生成物である少なくとも1つのホウ酸塩組成物と、少なくとも1つの有機カルボン酸を含む。 (もっと読む)


凝縮エアロゾルを生成するためのアセンブリおよび方法が開示される。本アセンブリは、耐酸化性外面(14)を備える熱伝導性金属基材(12)および上記外面上の薬物組成物フィルム(18)を含んでおり、エアロゾルデバイスに使用される。上記フィルムおよび上記基材の表面の厚さは、上記薬物組成物を気化および凝縮させるステップによって形成されるエアロゾルが重量で10%以下の薬物分解生成物および上記フィルム中の上記薬物組成物の総量の少なくとも50%を含有するエアロゾルを提供するような厚さである。上記外面を処理するための方法には、熱処理および化学処理が含まれ、また保護膜の形成も含まれる。 (もっと読む)


図1に示された放熱部材1は、粒径が概ね3〜7μmのショールトルマリン粉末と流動状の固定剤とを混和してなる塗布剤を、銅やアルミニウム等の熱伝導性の優れた金属からなる基材の表面に、前記ショールトルマリン粉末が1平方cmあたり0.025〜0.05グラムの密度となるように塗着して固化したトルマリン層を有して構成する。このように構成することで、黒色塗装を基材に施した放熱部材よりも、さらなる放熱効果が期待できる放熱部材、或いは装置または部品そのものを提供することができる。 (もっと読む)


本発明は、セラミック相(PQ)およびバインダー相(RS)を含む、式(PQ)(RS)(式中、Pは、Si、Mn、Fe、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、Wおよびそれらの混合物からなる群から選択される金属であり;Qは窒化物であり;Rは、Fe、Ni、Co、Mnおよびそれらの混合物からなる群から選択される金属であり;Sは実質的に、Cr、Al、SiおよびYからなる群から選択される少なくとも一種の元素、並びにTi、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、Wおよびそれらの混合物からなる群から選択される少なくとも一種の反応性湿潤アリオバレント元素からなる)によって表されるサーメット組成物を含む。 (もっと読む)


【課題】 導電性、放熱性、及び成形性に優れると共に、耐指紋性及び耐傷付き性に優れた電子機器用アルミニウム板及びこれを用いた成形品を提供する。
【解決手段】 中心線平均粗さRaが0.2〜0.6μmのアルミニウム素板2の少なくとも片面に、素板2側から耐食性皮膜3及び樹脂皮膜4が順次形成されたアルミニウム板1で、耐食性皮膜3はCrまたはZrを含有しかつ付着量がCrまたはZr換算で10〜50mg/m2であり、樹脂皮膜4は平均膜厚が0.05〜0.3μmで、全樹脂皮膜量に対して1〜25質量%の潤滑剤を含有し、アルミニウム素板2またはこの上に耐食性皮膜3が形成された表面はその微細な凸部が樹脂皮膜4の表面に露出し、樹脂皮膜4が形成された側の面に半径10mmの球状端子を0.4Nの荷重で押し付けた際の前記球状端子とアルミニウム素板2の間の表面抵抗値を1Ω以下とする。 (もっと読む)


【課題】 非磁性基材の片面の少なくとも一部に磁性材料層が形成された電磁誘導加熱用複合材において、磁性材料層などの発熱体層を薄くしても高出力が可能な電磁誘導加熱用複合材、及び電磁誘導加熱用調理器具を提供すること。
【解決手段】 非磁性基材の片面の少なくとも一部に、透磁率が高い合金からなる磁性材料層と、該磁性材料よりも電気抵抗率が低い金属材料(但し、Cuを除く)からなる金属材料層とが、交互に少なくとも1組形成されていることを特徴とする電磁誘導加熱用複合材、及び該複合材からなる電磁誘導加熱用調理器具。 (もっと読む)


【課題】 本発明は製缶素材として、耐食性、フィルム密着性に優れた溶接缶用鋼板を提供する。
【解決手段】 少なくとも鋼板片面に、50〜5000mg/m2 のSn、Niの1種以上を含む表面処理層を有し、その上に、タンニン酸または酢酸の1種以上を1〜40wt%含んだフェノール構造を有する樹脂皮膜を施すことを特徴とした密着性、耐食性に優れた容器用鋼板。更に、金属量で0.2〜100mg/m2 のTiまたはZrまたはそれらの化合物の1種以上を含んだフェノール構造を有する樹脂皮膜を施すことを特徴とした密着性、耐食性に優れた容器用鋼板。
【効果】 本発明により、製缶素材として、耐食性、フィルム密着性に優れた溶接缶用鋼板を提供することが出来る。 (もっと読む)


【課題】 高温耐食性と耐エロージョン性に優れた高温用部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 鋼製基材に電解ニッケルめっき処理を施し、表面にニッケルめっき被膜を形成し、ついで溶融塩浴中で硼化処理を施し、基材側に厚さ20〜50μmの鉄硼化物を主とする層を、その上層として厚さ10〜30μm のニッケル硼化物を主とする層からなる表面処理層を形成する。 (もっと読む)


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