【課題】簡便な方法で、均質かつ緻密なアルミニウム膜を形成する。
【解決手段】第一のアミン化合物と水素化アルミニウムとの錯体および有機溶媒を含有するアルミニウム膜形成用組成物を、金属酸化物層の表面に塗布して、塗布膜を形成する塗布膜形成工程と、前記塗布膜に対して、加熱処理および光照射処理から選ばれる少なくとも一種の処理を行い、アルミニウム膜を形成するアルミニウム膜形成工程と、を含むアルミニウム膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】金ナノロッドの濃度によって金ナノロッドの配向を制御する方法と金ナノロッド配向基板を提供する。
【解決手段】界面活性剤で修飾された金ナノロッド（ＡｕＮＲ）の水分散液を基板上に存在させて磁場を印加しながら溶媒を蒸発させることによって基板上にＡｕＮＲを一定方向に配向させる方法において、ＡｕＮＲの濃度によってＡｕＮＲの配向方向を制御することを特徴とする金ナノロッドの配向制御方法、およびＡｕＮＲ配向基板。 （もっと読む）

【課題】ＰＥＴフィルム等の汎用高分子基板を用いた場合でも、基板上に優れた導電性と光透過性とを有する導電性膜を、簡易かつ安価に、そして生産性良く製造することができる、導電性膜の製造方法、及び、導電性膜を提供する。
【解決手段】導電性微粒子を含む有機溶媒分散体を用いて基板上に導電性膜を製造する方法であって、該製造方法は、有機溶媒分散体を基板に塗工し、パターンを有する導電性膜を形成する工程と、赤外線を照射する工程とをこの順に行うことによって基板上にパターンを有する導電性膜を形成することを特徴とする導電性膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】エアロゾル・デポジション法を用いた圧電セラミックの製膜方法において、６００℃以下でのアニールでも十分な圧電特性が得られる製膜プロセスを提供する。
【解決手段】基板２面に形成された電極３上に圧電セラミック膜４を形成するための方法であって、圧電セラミックの粉体を、エアロゾル・デポジション法により前記電極上に噴射して、圧電セラミック膜を形成する製膜ステップｓ３と、前記圧電セラミックの膜面に紫外線レーザー光を照射するレーザー照射ステップｓ４と、前記レーザー光線の照射後に６００℃以下で前記基板を熱処理するアニールステップｓ５とを含み、前記レーザー照射ステップと前記アニールステップとにより、前記圧電セラミック膜を結晶化させるエアロゾル・デポジション法を用いた圧電セラミック膜の製膜方法としている。 （もっと読む）

【課題】プラズマによる衝撃波を用いてコーティングを形成する。コーティングの厚みを容易に制御でき、溶射よりも高速な粒子衝突速度による密着力等の優れたコーティングを形成する。
【解決手段】被コーティング部材１の表面に形成され、粉体４と樹脂３が混合されてなる粉体樹脂混合層２の表面にパルスレーザ７を照射してプラズマ８を発生させ、プラズマ８による衝撃波により粉体を被コーティング部材の表面に衝突させて、粉体を材料とするコーティング１１を被コーティング部材の表面上に形成する。粉体４と樹脂３が混合された材料を被コーティング部材の表面に塗布することにより粉体樹脂混合層を形成する。また、粉体樹脂混合層に２種以上の粉体を混在させて行うことにより、２種以上の材料が混在したコーティング１２を形成したり、異種の粉体が２層に分かれた粉体樹脂混合層を形成して行うことにより、２層状のコーティング１３を形成する。 （もっと読む）

【課題】ロッド形状の金微粒子を基板に配向させて固定化する方法と固定化された基板、およびその用途を提供する。
【解決手段】ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド（ＣＴＡＢ）で表面修飾した金ナノロッド、またはポリスチレンスルホネート（ＰＳＳ）で表面修飾した金ナノロッドの分散液中に基板を浸漬し、磁場を印加して金ナノロッドを配向させる方法、また磁場を印加しながら溶媒を蒸発させることによって、基板上に金ナノロッドを配向させながら固定化する方法、および金ナノロッドが固定化された基板、およびその用途。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】本発明は銅配線層、銅電極層などのような電気伝導性銅パターン層の形成方法に関し、（ステップ１）銅粒子、酸化銅粒子及びこれらの混合物からなる群より選択された銅系粒子の分散液を用意する段階；（ステップ２）前記銅系粒子の分散液を基材に所定形状で印刷または充填して銅系粒子パターン層を形成する段階；及び（ステップ３）前記銅系粒子パターン層にレーザーを照射し、前記銅系粒子パターン層に含まれた銅系粒子を焼成しながら相互連結させる段階を含む。本発明による電気伝導性銅パターン層の形成方法は、レーザーを用いて短時間で強いエネルギーで銅系粒子パターン層を焼成することで、空気中でも酸化が殆ど進まない銅パターン層が得られるため、電気伝導性の良好な銅パターン層を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】非晶質薄膜及び／又は結晶性の低い薄膜を、薄膜の温度を低温に保ちつつ、短時間で結晶化させて得られ、均質で、且つ、樹脂基板上に形成可能である結晶薄膜、及び、その製造方法を提供する。
【解決手段】非晶質薄膜及び／又は結晶性の低い薄膜を、該薄膜の極近傍に薄膜面と平行に導電性の電極を配置した高周波印加装置内に配置し、高周波電界が該薄膜に集中する条件でプラズマを発生させ、温度を１５０℃以下に維持しながら、及び／又は、結晶化に要する時間１５分以内で、結晶化させて得られることを特徴とする。高周波電界が、非晶質薄膜等に集中するように、プラズマを発生させるために、高周波印加装置内の気体の圧力を最適に制御することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ガンマ線を発生させるターゲット材料としての炭素を高密着性を持って均一に形成すること。
【解決手段】少なくとも一対の電極（１３，１４）および前記電極（１３，１４）間に配置された絶縁部材（１８）により形成された空間（１９）に、ターゲット基板（１３）を配置し且つ表面層形成用粉体としてのグラファイト化された炭素粒子を収容して、前記電極（１３，１４）間に前記表面層形成用粉体を往復動させる電圧を印加することにより、前記ターゲット基板（１３）表面に炭素の表面層が形成されたターゲット材（３）を製造する場合に、アモルファスの炭素粒子を不活性ガス雰囲気中で２５００Ｋ以上の高温に加熱することでグラファイト化された炭素粒子により構成されたことを特徴とするガンマ線発生用のターゲット材料。 （もっと読む）

【課題】コーティング材料の加熱が、コーティング材料の完全な溶融を引き起こし、コーティングが適用される基体への機械的な結合を可能にするけれども、基体の性質を著しく低下させることがないように基体を過度に過熱しないという、選択的であり十分な過熱であるように、基体の表面にコーティングを形成する方法を提供する。
【解決手段】十分に小さくマイクロ波輻射１８に感受性の粉体粒子１２を含むコーティング材料１０を基体１４の表面に適用し、マイクロ波輻射１８に曝して、コーティング材料１０中の粉体粒子１２がマイクロ波輻射１８によって結合し、十分に溶融して、基体１４表面の上にコーティングを形成する。 （もっと読む）

本発明は、滑らかな抗菌性親水性コーティングを作製するための配合物に関し、その配合物は、親水性ポリマー；開始剤；金属銀（すなわちＡｇ°）を含んでいる粒子；およびキャリヤー液を含む。本発明はさらに、表面に親水性コーティングを含む物品であって、そのコーティングが硬化親水性ポリマーと金属銀を含んでいる粒子とを含む物品に関する。 （もっと読む）

【課題】より耐食性等が改善されたクロムめっき製品およびその製造方法を提供する。
【解決手段】マイクロクラックを有するクロムめっき層の表面とマイクロクラックの破面部とに不働態皮膜を有することにより、より耐食性が改善されたクロムめっき製品を提供することができる。また、クロムめっき製品において、例えば市場での発生が予想される形態及び数のマイクロクラックを製造時に予め発生させ、かつマイクロクラックの破面部にまで不働態化処理を施すことにより、より耐食性が改善されたクロムめっき製品の製造方法を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】ビーム７を処理槽の内部に伝達する光学素子である連接窓９で、処理槽の内側に有する窓面９ａの光学面の清潔さをより効果的に維持し、ビーム偏向を極力回避できる。
【解決手段】連接窓９の周囲壁部１２にあって、連接窓の一方の側に設けられ、第１ガス１８が連接窓の窓面９ａ上で実質的に接線方向に流れ込むように策定された第１注入口１６と、第２ガス２５が第１ガスの流れと実質的に同一方向で前記窓面から距離を隔てて流れ込むように策定されて設けられた第２注入口２３とを備え、二つのガス流を形成することで、窓面付近での汚染物を吹き飛ばすと共に、ビーム経路の温度勾配を形成させない。 （もっと読む）

【課題】ＡＤ法によって基板上に形成された膜を熱処理する際に、膜の剥離やヒロックの発生を抑制できる複合構造物の製造方法を用いた成膜装置を提供する。
【解決手段】この成膜装置は、原料粉２０をガスによって分散させることによりエアロゾル状態とするエアロゾル生成手段１〜４と、エアロゾル生成手段１〜４によってエアロゾル状態とされた原料粉２０に付着している又は含有されている不純物であって、加熱されることによりガスを発生する不純物の量を低減するために、原料粉２０を処理する処理手段６と、処理手段６によって処理されたエアロゾル状態の原料粉２０を基板３０に向けて吹き付けることにより、基板３０上に原料粉２０を堆積させる噴射ノズル９とを具備する。 （もっと読む）

【課題】新規な窒化チタンコーティングなどの窒化物コーティング法を提供する。
【解決手段】コーティングする基材を金属チタン粉末などの窒化物形成能を有する物質の粉末中に埋め込み、マイクロ波を照射して交番電界中に曝すことにより、該金属チタン粉末などの窒化物形成能を有する物質の粉末を固相の状態で大気中の窒素成分と反応させ窒化させると同時に、基材表面に生成した窒化チタンなどの窒化物をコーティングすることができる。大気にはチタンなどの自己燃焼反応を起こさない範囲で窒素を富化してもよい。 （もっと読む）

【課題】電気的信頼度の優れた配線を形成する。
【解決手段】強磁性を有するコアーシェル構造のナノ粒子とこのナノ粒子を含む導電性インクが提示されている。また磁場を用いてこのような強磁性を有する導電性インクによって微細配線を形成し、吐出されたインク内のナノ粒子が均一に分布されるようにしてコーヒーステインとマイグレーションが発生されなく電気的信頼度の優れた配線形成装置が提示されている。本発明の一実施形態によれば、強磁性コアと上記強磁性コアを取り囲む伝導性物質層を含むナノ粒子が提供される。本発明の他の実施形態によれば、上記導電性インクを基板の片側に吐出するインクジェットヘッドと上記基板の他側に上記インクジェットヘッドに対応して位置する磁場形成部を含み、上記磁場形成部は、上記導電性インクが吐出されて配線を形成する際、上記導電性インクに磁場が及ぶようにする配線形成装置が提供される。 （もっと読む）

表面（１６）に向かう粒子噴流（１５）を作成するコールドガススプレーノズル（１２）が使用される。本発明の場合には、電磁エネルギー源、例えばレーザー（２４）を用いて、付加的なエネルギーを被覆させる層（２０）内に導入し、この場合に、コールドガススプレーノズル（１２）を通して粒子（１９）中へ導入されたエネルギーは同様に層の形成のために寄与する。電磁放射線（２５）を用いた付加的な活性化によりコールドスプレー法はフレキシブルに適用される。更に、レーザー（２４）を用いて後処理なしに複雑な構造を有する層、例えば導体路を製造することができる。
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【課題】 構造物用支承が過酷な塩水の影響を強く受ける条件下においても溶融亜鉛−アルミニウム合金めっきの耐食性能を持続させ、耐用年数の延長を図る。
【解決手段】 上下に区分された上部構造７と下部構造８との間に設置される構造物用支承１において、少なくとも上部構造７に定着される鋼製の上部ベースプレート２と、下部構造８に定着される鋼製の下部ベースプレート３とを持ち、上部ベースプレート２及び下部ベースプレート３の表面に溶融亜鉛−アルミニウム合金めっきを施した上で、合成樹脂のコーティングを施す。上部ベースプレート２と下部ベースプレート３との間に、上部ベースプレートに接合される鋼製の上部フランジプレート４と鋼製の下部フランジプレート５が介在する場合には、上部フランジプレート４及び下部フランジプレート５の表面にも溶融亜鉛−アルミニウム合金めっきを施した上で、合成樹脂のコーティングを施す。 （もっと読む）

【課題】閉じ込められた閉込め媒体によるレーザ衝撃ピーニングコーティングを提供すること。
【解決手段】物体の表面をレーザ衝撃ピーニングする一体型レーザ衝撃ピーニングコーティング（５７）は、透明閉込め層（６６）から離間したアブレーション媒体層（６４）と、これらの間にある透明液体閉込め媒体（６８）（「透明」とは、レーザ衝撃ピーニングに使用するレーザビームに対して透明であることを意味する）とを有する。透明液体閉込め媒体（６８）の例として、レーザビームを発射する表面上に流体の閉込めカーテンを流すことのない、水と、水と寒天との混合物とがある。一体型レーザ衝撃ピーニングコーティング（５７）は、接着層（６０）がアブレーション媒体層（６４）の第１の側（７１）に配置されるテープ（５９）としてもよい。 （もっと読む）

【課題】 ＡＤ法によって形成された膜における物性値を向上させることができる成膜方法及び成膜装置を提供する。
【解決手段】 成膜装置は、膜が形成される基板８を保持する基板ステージ９を有するチャンバ１と、原料の粉体を収納する容器を含み、該容器にキャリアガスを導入することにより、原料の粉体を含むエアロゾルを生成するエアロゾル生成室３と、該エアロゾル生成室において生成されたエアロゾルの流路に磁場を印加することにより、エアロゾルに含まれる原料の粉体における結晶方位を配向させる超伝導コイル５と、該超伝導コイルによって磁場が印加されたエアロゾルを基板に吹き付けることにより、結晶方位が配向した原料の粉体を基板上に堆積させる噴射ノズル７とを含む。 （もっと読む）